Fターム[5F082BA43]の内容
Fターム[5F082BA43]の下位に属するFターム
Bip以外の素子をインジェクタとしたもの
Fターム[5F082BA43]に分類される特許
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半導体装置およびその製造方法
【課題】NPNトランジスタ等のバイポーラリニア素子とIIL素子とを同一の半導体基板上に備えた半導体装置であって、高耐圧であるとともに、動作特性の優れたIIL素子を有するものを提供すること。
【解決手段】IIL素子に含まれたマルチコレクタ型NPNトランジスタTr1は、半導体基板101の裏面側から表面側へ向かう縦方向に順にN型エミッタ層Tr1E、P型ベース層Tr1B、N型コレクタ層Tr1Cを備える。マルチコレクタ型NPNトランジスタのP型ベース層Tr1Bは、エミッタ層Tr1E側で高く、かつコレクタ層Tr1C側で低くなるように傾斜した不純物濃度プロファイルを持つ。
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