【課題】反射層14の形成によるシンチレータ層13の膜剥がれや基板の反りの発生を低減し、高輝度、高解像度のＸ線検出器を提供する。
【解決手段】ディスペンサにより、バインダ材中に光散乱性粒子を含有したペースト材料をシンチレータ層13上に塗布し、反射層14を形成する。ディスペンサが、塗布ラインに沿った方向への移動と、この塗布ラインに沿った方向の端部で塗布ラインを１ライン分ずらして塗布ラインに沿った反対方向への移動とを繰り返すことで、反射層14の形成領域の端部形状が波状形状となる。反射層14の形成領域の端部形状が波状形状とすることで、ペースト材料の乾燥時における体積収縮による応力を分散させる。 （もっと読む）

【課題】絶縁体を設置することなく、電圧印加電極端部の放電破壊を、放射線検出器を繰り返し使用する場合においても抑制可能なものとする。
【解決手段】電圧が印加される電圧印加電極２と、放射線の照射を受けることにより電荷を発生する光導電層１と、放射線の量に対応した電荷を収集する電荷収集電極３とが積層された放射線画像検出器10において、電圧印加電極２と光導電層１との間に、電圧印加電極と同極性の電荷はブロックするが、異極性の電荷は輸送する選択的電荷輸送層４を設け、この選択的電荷輸送層４が電圧印加電極２の端部において厚膜に形成されているものとする。
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【課題】 基板全体における光導電層の膜厚および組成の均一性に優れた二次元画像検出器、並びに、該二次元画像検出器を生産性良く（効率的に）かつ安価に製造する方法を提供する。
【解決手段】 二次元画像検出器は、複数の画素電極１０…を有するアクティブマトリクス基板１と、上記画素電極１０…に積層された光導電層２とを少なくとも備えており、上記光導電層２が、転写基板上で所定の膜厚に形成された後、上記アクティブマトリクス基板１上に転写されることにより構成されている。つまり、二次元画像検出器の製造方法は、転写基板上で所定の膜厚に光導電層２を形成した後、該光導電層２を上記アクティブマトリクス基板１上に転写する方法である。光導電層２は、粒子状の光導電体と、バインダとの混合物を含んでなっている。上記バインダは、アクティブマトリクス基板１の耐熱温度以下の軟化点を有することがより好ましい。 （もっと読む）