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Fターム[5F088DA11]の内容

受光素子−共通事項、放射線検出 (20,668) | 素子構造一般 (560) | 積層型(タンデム型) (49)

Fターム[5F088DA11]に分類される特許

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【課題】色再現性に優れる多層型撮像素子を提供する。
【解決手段】第1透明電極に積層される第1層間絶縁膜と、第1層間絶縁膜の上に配設される第2の信号読み出し部と、第2の信号読み出し部の上に配設され、光の3原色のうち第2の波長の光に感度を有する第2光電変換膜と、第2光電変換膜に積層される第2透明電極と、第2透明電極に積層される第2層間絶縁膜と、第2層間絶縁膜の上に配設される第3の信号読み出し部と、第3の信号読み出し部の上に配設され、光の3原色のうち第3の波長の光に感度を有する第3光電変換膜と、第3光電変換膜に積層される第3透明電極と、第1光電変換膜、第2光電変換膜、及び第3光電変換膜を画素毎に隔離する第1隔壁とを備え、前記第1の信号読み出し部、前記第2の信号読み出し部、及び前記第3の信号読み出し部は、それぞれ複数の画素が2次元方向に配置された画素アレイの各画素の信号読み出し部を形成している。 (もっと読む)


【課題】
単板式の積層型の撮像素子に含まれる有機光電変換膜の劣化を抑制することにより、量子効率の改善を図った撮像素子の製造方法、及び、撮像素子を提供することを課題とする。
【解決手段】
撮像素子の製造方法は、基板の上に第1波長の光に感度を有する第1受光部を形成する工程と、前記第1受光部の上に紫外線を吸収する第1紫外線吸収部を形成する工程と、前記第1紫外線吸収部の上に第2波長の光に感度を有する第2受光部を形成する工程と、前記第2受光部の上に紫外線を吸収する第2紫外線吸収部を形成する工程と、前記第2紫外線吸収部の上に第3波長の光に感度を有する第3受光部を形成する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】高い曲線因子、開放電圧、および光電変換効率を有し、かつ耐久性を有する有機光電変換素子、それを用いた太陽電池、及び光センサアレイを提供する。
【解決手段】陰極、陽極、およびp型半導体材料とn型半導体材料が混合されたバルクヘテロジャンクション層を有する有機光電変換素子であって、前記陰極と陽極の間に、少なくとも下記一般式(1)で表される部分構造を有する化合物を含有する層を有する。


(式中、Xは酸素原子もしくは硫黄原子もしくはセレン原子を表し、YはC−Rまたは窒素原子を表す。R、Rは水素原子もしくは置換基を表す。Z、Zは炭素原子もしくは窒素原子を表す。) (もっと読む)


【課題】
光導電膜の厚膜化や光導電膜への印加電圧の過度な増大を伴わず、大幅に感度を向上させるとともに、高い光電変換効率と安定したアバランシェ増倍を両立できるアバランシェ増倍方式の撮像デバイスを提供する。
【解決手段】
光入射側に配設される第1透光性電極と、第1透光性電極に積層され、第1透光性電極を介して入射する入射光を光電変換する第1光電変換部と、第1光電変換部に積層され、第1光電変換部で生成される電荷が注入されて発光する第1電界発光薄膜部と、第1電界発光薄膜部に積層される第2透光性電極と、第2透光性電極に積層され、第1電界発光薄膜部で発光され第2透光性電極を透過した光を光電変換する第2光電変換部と、第2光電変換部で生成される信号電荷を2次元の画像信号として読み出す信号読み出し部とを含み、第1光電変換部又は第2光電変換部は光電変換部内で電荷のアバランシェ増倍を行う。 (もっと読む)


【課題】放射線による閾値電圧の変化を増幅することができ、また、温度補償を行うことができる二種類の金属酸化物半導体電界効果型トランジスタ(MOSFET)を有する放射線量計およびその操作方法を提供する。
【解決手段】放射線量計は、同じ基板に集積された二つの放射線電界効果型トランジスタ(RADFET)および二つのMOSFETを含む放射線集積回路(RADIC)、または、同じ基板に集積された二つのRADFET、および二つの抵抗器を含むものである。閾値電圧の変化の増幅は、MOSFETインバータの増幅原理を用い、いずれも、第一のRADFETのゲートには順方向のバイアスがかけられ、第二のRADFETのゲートはバイアスが外される。増幅された差分閾値電圧の変化は、示度モードで測定される。放射線感度が高められたため、ミリラッドの線量測定が可能となり、温度効果およびドリフトは、ほぼ除去される。 (もっと読む)


【課題】ダイヤモンドを利用した放射線の検出において検出感度を良好にする。
【解決手段】放射線がダイヤモンド層10に入射すると、ダイヤモンドと放射線の相互作用により二次電子等が発生する。また、放射線が重金属層20に入射すると、重金属層20内には、重金属と放射線の相互作用により二次電子等が発生する。そして、重金属内20で発生した二次電子等が、バイアスを加えられたダイヤモンド層10に入り、検出用の電子等となる。また、重金属内20で発生した二次電子等がダイヤモンド層10内でさらに二次電子等を発生させ、発生した二次電子等も検出用の電子等として利用される。こうして、ダイヤモンドと放射線の相互作用により発生する二次電子等に加えて、重金属から得られる電子等の影響により発生する二次電子等が放射線の検出に利用され、放射線の検出感度が向上する。 (もっと読む)


【課題】暗電流の発生の少ない光電変換素子及び固体撮像素子を提供すること。
【解決手段】 導電性膜と、光電変換膜と、透明導電性膜とを含む光電変換素子であって、前記光電変換膜が、結晶化したフラーレン又はフラーレン誘導体を含み、前記結晶化したフラーレン又はフラーレン誘導体が、前記導電性膜の膜面に対して垂直に(111)方向に配向している、電変換素子。 (もっと読む)


本発明は、電離放射線(116)検出用の検出器(110)に関する。検出器(110)は、電離放射線(116)を電磁線(118)、特には、可視光、紫外光または赤外光に変換するように適合された、少なくとも1つのシンチレーター(112)を含む。検出器(110)はさらに、電磁線(118)を少なくとも1つの電気信号(120)に変換するように適合された、少なくとも1つの有機光起電力要素(114)を含む。

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【課題】短絡などを生じた欠陥画素が存在したとしても、その周囲に異常な出力電流が出力される領域が拡がらないようにして、イメージセンサの生産性を向上させる。
【解決手段】イメージセンサを、第1光伝導体型素子6と第2光伝導体型素子8とを含む複数の画素1と、第1光導電体型素子6及び第2光導電体型素子8に接続された出力電極12Bと、複数の画素1のそれぞれに含まれる第1光導電体型素子6に接続された共通電極12Cと、出力電極12Bと共通電極12Cとの間に設けられ、動作時に流れる電流の方向と逆向きの電流が流れるのを阻止する整流素子7A,7Bとを備えるものとする。 (もっと読む)


【課題】量子ドット層によって光電変換層が形成された量子ドット型赤外線検知素子の量子効率を大きくすること。
【解決手段】半導体基板と、同一平面上に形成された複数の量子ドットと前記量子ドットを覆う中間層を有する複数の量子ドット層が、前記半導体基板上に積層された複数の光電変換層と、前記半導体基板に整合した、p型半導体層とn型半導体層が積層された歪緩衝層を具備し、前記歪緩衝層を介して複数の前記光電変換層が積層されていること。 (もっと読む)


【課題】位置ズレを生じることなく1回のX線の照射で異なるエネルギーのX線による放射線画像を得ることができるX線検出素子を提供する。
【解決手段】基板1の表面及び裏面に、照射されたX線に応じた電荷を発生するX線検出部22A、22Bを設けて、X線の照射方向に対して各画素20毎にX線検出部22A、22Bを積層配置する。 (もっと読む)


本発明はX線を電荷に変換するX線用の光検出器に関する。光検出器の活性有機層内にナノ粒子が加えられる。 (もっと読む)


【課題】空間解像度を維持しつつ、バンド数の増大と小型化を実現した撮像素子を提供することを課題とする。
【解決手段】撮像素子は、一対の第1透明電極と、前記一対の第1透明電極の間にマトリクス状に配列され、有機膜で構成される複数の第1光電変換部とを有し、前記第1光電変換部に結像する画像を読み出す第1撮像部と、一対の第2透明電極と、前記一対の第2透明電極の間にマトリクス状に配列され、有機膜で構成される複数の第2光電変換部とを有し、前記第2光電変換部に結像する画像を読み出す第2撮像部とを含み、前記第1撮像部と前記第2撮像部は積層されており、前記第1光電変換部及び前記第2光電変換部には、光感度が異なる4種類以上の光電変換膜が含まれる。 (もっと読む)


【課題】十分な暗電流抑制効果と高い光電変換効率を両立させることができる光電変換素子及び固体撮像素子を提供する。
【解決手段】一対の電極と、一対の電極の間に配置された光電変換層と、一方の電極と光電変換層との間に形成され、一対の電極への電圧印加時に一対の電極の一方から光電変換層に電荷が注入されるのを抑制する電荷ブロッキング層と、を備えた光電変換素子であって、電荷ブロッキング層が絶縁性材料と導電性材料を含む。 (もっと読む)


放射の検出に使用される第1の活性領域210および第2の活性領域220を有する半導体ボディ2を備えている放射受光器1を開示する。第1の活性領域210および第2の活性領域220は、垂直方向に互いに隔置されている。第1の活性領域210と第2の活性領域220との間にはトンネル領域24が配置されている。トンネル領域24は接続面31に導電接続されており、接続面31は、第1の活性領域210と第2の活性領域220との間で半導体ボディ2に外部から電気的に接触する目的で使用される。さらに、放射受光器を製造する方法も開示する。
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【課題】製造が容易で、高いS/Nの画像を得ることができる光電変換膜積層型撮像素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板に形成された読出回路部1と、読出回路部1の上に積層された複数の光電変換層12r,12g,12bとを備え複数の光電変換層がそれぞれ、光電変換膜14r,14g,14bと、光電変換膜14r,14g,14bの上に形成された対向電極と、光電変換膜14r,14g,14bを対向電極19と挟む位置に形成された画素電極16r,16g,16bとを備え、複数の光電変換層12r,12g,12bの積層方向に貫通するように充填された長尺形状の複数のプラグ部材Pを有し、複数のプラグ部材Pがそれぞれ、異なる画素電極16r,16g,16bに電気的に接続する。 (もっと読む)


【課題】暗電流を従来例に比較して低減し、かつ光電変換効率を従来の有機光電変換膜と同様、あるいは向上させることが可能な光電変換素子を提供する。
【解決手段】本発明の有機光電変換素子は、陽極と、陰極と、これら電極間に介挿された有機半導体層からなる有機光電変換膜であり、有機半導体層が、光電変換層と、この光電変換層の間に形成された注入電荷輸送抑制層とから構成され、注入電荷輸送抑制層のHOMO準位・LUMO準位が、光電変換層に用いられている有機材料のHOMO準位・LUMO準位に比較し、いずれも大きい、またはいずれも小さい有機材料にて形成されている。 (もっと読む)


【課題】高解像度及び高感度で撮像することができるとともに、画像ボケを効果的に抑制することができ、小型化にも対応可能なイメージセンサ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板2と、該基板の面方向に複数配置された一次受光画素4とを有し、一次受光画素は、前記基板の片面において、それぞれ異なる波長域の光を感知する複数の二次受光画素10,20,30が、厚さ方向に隣接する二次受光画素の間に少なくとも封止絶縁膜18,28を介して積層して構成されており、各二次受光画素は、それぞれ、光を光電変換する光電変換部14,24,34と、該光電変換部により生じた電荷に基づいて薄膜トランジスタ40により信号を出力する信号出力部12,22,32とを含み、前記薄膜トランジスタの活性層48が酸化物半導体又は有機半導体により形成されていることを特徴とするイメージセンサ1。 (もっと読む)


【課題】ノイズを効果的に抑制するとともに、高い画質を得ることができる放射線撮像素子を提供する。
【解決手段】被写体を透過した放射線を吸収することにより発光する蛍光体膜8と、上部電極6、下部電極2、及び該上下の電極間に配置された光電変換膜4を有し、該光電変換膜が、前記蛍光体膜が発する光を吸収する有機光電変換材料を含む光電変換部13と、非晶質酸化物により形成された活性層24を有する電界効果型薄膜トランジスタ10を有し、前記光電変換部により発生した電荷に応じた信号を出力する信号出力部14と、前記信号出力部、前記光電変換部、及び前記蛍光体膜が順次積層した基板1と、を備え、前記信号出力部、前記光電変換部、及び前記蛍光体膜により構成される画素部が前記基板上に複数配列されており、各画素部における前記信号出力部と前記光電変換部とが重なりを有している放射線撮像素子12。 (もっと読む)


【課題】 入射するX線を電気信号に変換する効率が高く、高い精度で検出することができる検出素子、検出器、及び検出素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 積層検出器セル15は、板状に形成され、入射したX線を光に変換するシンチレータ素子16と、シンチレータ素子16の主面上に形成され、シンチレータ素子で発生した光を電気信号に変換するフォトダイオード17と、を有する単位検出素子部18が、前記主面と交差する方向に複数層積層されて構成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


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