説明

Fターム[5F088GA02]の内容

受光素子−共通事項、放射線検出 (20,668) | 基板(その上に素子本体が形成されるもの) (729) | 材料 (664) | 絶縁性基板(ガラス等) (299)

Fターム[5F088GA02]に分類される特許

1 - 20 / 299


【課題】、放射線画像の品質を維持したまま放射線の照射に関する検出を行うこができる、放射線検出器、放射線画像撮影装置、及び放射線画像撮影システムを提供する。
【解決手段】照射された放射線が変換された光に応じて電荷を発生するセンサ部103、センサ部103から読み出した電荷を信号配線3に出力するTFTスイッチ4、及び信号配線3と非接続の放射線検知用TFTスイッチ34を備えた画素20Aと、センサ部103、TFTスイッチ4、及び信号配線3と接続され、センサ部103から読み出した電荷を信号配線3に出力する放射線検知用TFTスイッチ34を備えた放射線検知用画素20Bと、を備える。放射線検知用TFTスイッチ34の制御端子は、放射線検知用走査配線109に接続されており、放射線検知用制御回路108から出力されたスキャン信号により、オン、オフが制御される。 (もっと読む)


【課題】 メタライズにより設けられた配線パターンの剥離強度を高め、デバイスの実装に伴う性能低下の減少と電気的導通の安定性を増した、低コストで小サイズな、高信頼性の光センサ装置を提供する。
【解決手段】 光センサ素子は、フィルター機能を有するガラス蓋基板1と、キャビティを有するガラス基板2により構成されたパッケージ内に実装されている。キャビティを有するガラス基板2は、金属を埋め込んだ貫通電極5を有し、表面と裏面にはメタライズにより設けられた配線パターン6,7を有しており、ガラス蓋基板1にメタライズにより設けられた配線パターン4とは導電性粒子8を入れた接着剤によって固着し接続される。キャビティを有する基板2の表面と裏面にメタライズにより設けられた配線パターン6,7と貫通電極に埋め込まれた金属とは構造的、電気的に一体化したものからなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】信頼性が高く且つ小型で低コストの光センサ装置を提供する。
【解決手段】ガラス蓋基板2と、分割されて露出したスルーホール電極5を外周に有するキャビティ付きガラス基板9と、ガラス蓋基板2に実装された光センサ素子3とを備え、ガラス蓋基板2とキャビティ13を有するガラス基板9とが接合された構造の光センサ装置であり、ガラス基板9で密閉し、分割したスルーホール電極を用いる。 (もっと読む)


【課題】性能を落とすことなく小型化が可能なセンサ、太陽電池等の電気素子と、電気素子を容易に製造する方法を提供する。
【解決手段】柱状体2に、蒸着、或いは半導体の溶融、溶解又はゲル状態の半導体8をコーティングする。その回りに、4本の絶縁線6、例えば糸を縞状に接合したものを巻き付ける。次に1本の絶縁線6をはがして、その跡に銅を蒸着して銅線9を形成する。最後に銅線9に隣接しない絶縁線をはがして、その跡にアルミニウムを蒸着してアルミニウム線10を形成する。そして銅線9、アルミニウム線10の間の抵抗値を測ることにより、半導体8に照射している光の強度を知ることができる。4本の絶縁線の太さを調整することにより、銅線9、アルミニウム線10のそれぞれの直径、及びその間隔を決めることができ、設計とシミュレーションの作業が容易になる。また絶縁線6として細い糸を用いることにより、小型の光センサを得ることができる。 (もっと読む)


【課題】水分による下部電極の腐食を抑制することができる、半導体素子、放射線検出器、及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】層間絶縁膜23及びTFT保護層30を一括してエッチングされたコンタクトホールを埋めつつ、ゲートパッド40及びデータパッド50が形成されるため、下部電極11を介さずに、データパッド50と第2信号配線層52が接続されると共に、ゲートパッド40と第1信号配線層42とが接続される。従って、保護層34の開口部には下部電極11が設けられておらず、水分が侵入した場合でも腐食が発生する恐れが少なく、下部電極11の腐食を抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は上記問題点を解決するために成されたものであり、光電変換素子の静電破壊を防止することができると共に、導電体を任意の電圧に設定することができる、光電変換基板、放射線検出器、及び放射線画像撮影装置を提供する。
【解決手段】基板1上に形成されたTFTスイッチ4及びセンサ部103の上面が平坦化層18により平坦化されており、当該平坦化層18の略全面に帯電防止機能を有する導電膜30が形成されている。導電膜30は、接続配線52と一体的に形成されており、切替部54に接続されている。また、切替部54は、制御装置106から入力される制御信号に応じて、接続配線52の接続先を、バイアス電源110、内部電源56、及びグランドのいずれかに切り替える。光電変換基板60の上には、シンチレータ70が形成されており、シンチレータ70は、光電変換基板60に近い方から非柱状部71及び柱状部72を備えている。 (もっと読む)


【課題】複数の検出電流経路が発生することを防止し、光吸収層の表面状態にかかわらず、高感度で安定して検出することができる光検出素子及び光検出装置を提供する。
【解決手段】光検出素子は、透光性基板1、光吸収層2、電極3、電極4、接着層5、絶縁膜6、パッケージ7で構成される。透光性基板1上に光吸収層2が形成され、光吸収層2に電極3と電極4の一部が埋め込まれている。パッケージ7上に光検出部がジャンクションダウンで接着層5により接合されている。光吸収層2は、特定波長の光を選択的に吸収して、電気信号に変換する。測定する光は、透光性基板1の裏面から照射される。 (もっと読む)


【課題】光電変換素子の静電破壊を防止する共に、帯電防止膜を設けたことによる副作用を防止することができる、光電変換基板、放射線検出器、及び放射線画像撮影装置光電変換素子の静電破壊を防止する。
【解決手段】基板1上に形成されたTFTスイッチ4及びセンサ部103の上面が平坦化層18により平坦化されており、当該平坦化層18の略全面(本実施の形態では画素領域20Aの全面)に帯電防止機能を有する導電膜30が形成されている。導電膜30は、接続配線42により接続部44に接続されており、接続部44は、接続配線42を共通電極配線25を介してバイアス電源110またはグランドに接続するように構成されている。また、光電変換基板60(導電膜30)の上には、シンチレータ70が形成されており、シンチレータ70は、光電変換基板60に近い方から非柱状部71及び柱状部72を備えている。 (もっと読む)


【課題】光電変換素子の静電破壊を防止することができると共に、発光層と光電変換基板との密着性を向上させることができる。
【解決手段】放射線検出器10Aは、基板1上に形成されたTFTスイッチ4と、基板1上に形成され、照射された光に応じた電荷を発生する光電変換素子としての半導体層6と、半導体層6上に形成された平坦化層34と、平坦化層34上に形成されたメッシュ状の帯電防止層32と、平坦化層34及び帯電防止層32上に形成され、照射された放射線に応じた光を発生するシンチレータ70と、を備える。 (もっと読む)


【課題】光電変換素子の静電破壊を防止することができる、光電変換基板、放射線検出器、放射線画像撮影装置、及び放射線検出器の製造方法を提供する。
【解決手段】基板1上に形成されたTFTスイッチ4及びセンサ部103の上面が平坦化層18により平坦化されており、当該平坦化層18の略全面に帯電防止機能を有する導電膜30が形成されている。導電膜30は、グランド配線32及びグランド接続端子34と一体的に形成されており、グランド接続端子34を介してグランドに接続可能に構成されている。また、光電変換基板60(導電膜30)の上には、シンチレータ70が形成されており、シンチレータ70は、光電変換基板60に近い方から非柱状部71及び柱状部72を備えている。導電膜30をグランド接続端子34を介してグランドに接続した状態で、光電変換基板60の表面に表面処理を施す。 (もっと読む)


【課題】光の受光により高効率に電子を発光する受光層を備える受光素子、かかる受光素子を備える受発光素子、受発光装置および電子機器を提供すること。
【解決手段】 本発明の受発光素子は、第1の電極と、第2の電極と、前記第1の電極と前記第2の電極との間に設けられ、受光により電子を発生する光導電体層とを有し、該光導電体層は、下記式(1A)で表されるテトラフェニルポルフィリン骨格を有する化合物を主材料として含有する。


[式(1A)中、Bは、白金、パラジウム、マグネシウム、ニッケルまたは亜鉛を表す。
Rは置換基を意味し、水素原子、フッ素原子、アルキル基、アリール基を表す。] (もっと読む)


【課題】光電変換素子の静電破壊を防止することができると共に、画像がぼけやすくなるのを防ぐことができる。
【解決手段】放射線検出器10Aは、基板1上に形成されたTFTスイッチ4と、基板1上に形成され、照射された光に応じた電荷を発生する光電変換素子としての半導体層6と、半導体層6上に形成され、一部に帯電防止性を有する遮光部材32が形成された平坦化層34と、平坦化層34上に形成され、照射された放射線に応じた光を発生するシンチレータ70と、を備える。 (もっと読む)


【課題】 変換素子の不純物半導体層への有機材料の混入を低減し、且つ、変換素子の電極の剥離を低減し得る検出装置を提供する。
【解決手段】 複数の画素11を基板100の上に有し、画素11が、スイッチ素子13と、スイッチ素子13の上に配置され画素毎に分離されスイッチ素子13と接合された透明導電性酸化物からなる電極122の上に設けられた不純物半導体層123を含む変換素子12と、を有し、複数のスイッチ素子13を覆うように複数のスイッチ素子13と複数の電極122との間に設けられた有機材料からなる層間絶縁層120を有する検出装置の製造方法であって、層間絶縁層120に接する複数の電極122の間において層間絶縁層120を覆うように配置された無機材料からなる絶縁部材121を形成する工程と、絶縁部材121と複数の電極122とを覆うように不純物半導体膜123’を成膜する工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】 変換素子の不純物半導体層への有機材料の混入を低減し得る検出装置を提供する。
【解決手段】 画素11がスイッチ素子13と電極122の上に設けられた不純物半導体層123を含む変換素子12とを有し、複数のスイッチ素子13と複数の電極122との間に設けられた無機材料からなる保護層137と有機材料からなる層間絶縁層120とに設けられたコンタクトホールにおいてスイッチ素子13と電極122とが接続されている検出装置の製造方法であって、複数の電極122の間に層間絶縁層120を覆うように無機材料からなる絶縁部材121を形成する工程と、絶縁部材121と複数の電極122とを覆う不純物半導体膜123’を成膜する工程と、絶縁部材121を形成する際に層間絶縁層120のコンタクトホール内に位置する電極122の段差の部分の正射影が位置する保護層137の領域が被覆されるように、被覆層160を形成する工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】昇華精製に適さない有機材料を、純度を低下させることなく、長時間安定して連続蒸着させる方法を提供すること。
【解決手段】昇華精製による精製ができない有機材料を蒸着製膜して得られる膜であって、該有機材料と該有機材料の蒸着温度Tより低い沸点又は昇華点Tを有する化合物(A)とを含有する蒸着用材料を用い、前記蒸着用材料を、第1加熱により、前記化合物(A)の沸点又は昇華点Tより高く、かつ前記有機材料の蒸着温度Tより低い温度Tまで昇温後、該温度Tに維持し、該第1加熱の後に、第2加熱により、前記有機材料の蒸着温度T以上、前記有機材料の分解温度以下の温度まで昇温後、該温度に維持して前記有機材料の蒸着製膜を行うことにより得られる膜。 (もっと読む)


【課題】小型化・薄型化を図りつつ信頼性および光学特性を良好にする。
【解決手段】平板状のガラス材料からなるガラス部材20と、光を受光する受光部12を有し、ガラス部材20の表面に受光部12を対面させて実装され、ガラス部材20を透過して受光部12により受光した光を光電変換する光電変換素子11と、光電変換素子11の少なくとも受光部12とは反対側に配される面を覆う絶縁性の樹脂からなる保護部材35と、ガラス部材20の表面から保護部材35よりも板厚方向に張り出すように延びる導電性材料からなる複数の柱状部材17と、ガラス部材20の表面に形成され、一端が光電変換素子11に接続され他端が柱状部材17に接続された複数の内部配線13と、柱状部材17の保護部材35よりも板厚方向に張り出した端面に形成された複数の外部電極15とを備える光学センサ1を提供する。 (もっと読む)


【課題】光センシング装置及びその駆動方法を提供する。
【解決手段】光センシング画素内の光センサートランジスタとスイッチトランジスタとが、それぞれ同じ構造の酸化物半導体トランジスタで形成される光センシング装置、及び前記光センシング装置の動作信頼性を向上させることができる駆動方法が提供される。光センシング装置によれば、光センシング画素内の光センサートランジスタとスイッチトランジスタとは、一つの基板上で同じ構造に隣接して形成され、スイッチトランジスタへの光の入射を防止するために、スイッチトランジスタの光入射面には光遮蔽膜がさらに配される。また、光センシング装置の駆動方法によれば、経時的なスイッチトランジスタのしきい電圧シフトを防止するために、光遮蔽膜には負(−)のバイアス電圧が印加される。 (もっと読む)


【課題】 放射線検出素子のイメージセンサーには複数の画素があるが、シンチレータの発光が画素間に渡って拡散すると、撮像されたイメージの解像度が低下する。また基板からシンチレータが剥がれることを課題とする。
【解決手段】 複数の光検出部と、それぞれが複数の凸部を有する複数の凸領域とを備え、複数の凸領域のそれぞれが複数の光検出部のそれぞれと重なるように配列されている基板の上に、複数の凸領域に跨るようにシンチレータ層を形成する工程と、シンチレータ層が形成された基板を降温し、シンチレータ層の隣り合う凸領域間の部分の積層方向に対応するシンチレータ層に亀裂を形成する工程とを有し、複数の凸領域は、特定の関係を満たす放射線検出素子およびその製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】気相Clを安定に均一に供給することができる放射線検出器の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】主ソース用サセプタ35aに収納されたソースSは、Cdの単体、Teの単体、Znの単体、CdTe、ZnTe、CdZnTeの少なくとも一つを含む材料からなり、検出層の形成過程では、主ソース用サセプタ35aに収納されたソースSを支持基板に供給することにより、多結晶膜または多結晶の積層膜(検出層)を形成する。一方、ソースSおよびそれを収納する主ソース用サセプタ35aの底面を貫通する複数個の開孔35Aを設け、主ソース用サセプタ35aの底面よりも下部に配置されたCl化合物からなる付加ソースS’ によるCl蒸気を、開孔35Aを通して支持基板に供給することにより、複数個の開孔35Aが設けられた箇所において、気相Clを安定に均一に供給することができる。 (もっと読む)


【課題】光学系の部品を削減でき、小型化と低コスト化を図ることを可能とすると共に、モニタ検出精度を向上させることができる光検出用モニタ装置を提供する。
【解決手段】面発光型のレーザアレイ32から出射され走査される光37を受光して電気信号に変換する光モニタ38を具備し、光モニタ38は、光37の走査方向に平行なスリット状からなり、このスリット状の光モニタ38を、レーザアレイ32から出射され走査光の周辺光を検出する位置に、複数、副走査方向に並べて配置する。さらに、レーザアレイ32が出射する光を反射する反射部材34上に、光モニタ38を設ける。 (もっと読む)


1 - 20 / 299