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Fターム[5F088KA02]の内容

受光素子−共通事項、放射線検出 (20,668) | 周辺回路 (670) | バイアス回路 (230) | 増幅回路を含むもの (101)

Fターム[5F088KA02]に分類される特許

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【課題】複数の受光部間での高周波特性のばらつきを抑制することが可能な技術を提供することを目的とする。
【解決手段】光受信モジュール1は、多芯ファイバ81からの複数の信号光を同時に受光可能な光受信モジュールであって、信号光を受光するアレイ状に配列された複数の受光部11a〜11dを有し、複数の受光部11a〜11dで受光した信号光に基づいて電気信号を出力する受光素子10と、複数の第1導電部材41a〜41dと、チップコンデンサ30a〜30dとを備える。各受光部11a〜11dの受光面積は、受光部11a〜11dと接続された第1導電部材41a〜41dの寄生インダクタンスに対応している。 (もっと読む)


【課題】 所望の回数の非破壊読み出しを行うことが出来ないフレームレート要求による動画像撮影を防止する放射線撮像装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 入射した放射線を電気信号に変換して放射線画像を取得する放射線検出手段と、前記放射線検出手段で放射線動画像を取得する際のフレームレートの設定要求を取得する取得手段と、前記放射線検出手段による単位フレームごとの非破壊読み出し回数を設定する設定手段と、前記設定要求されたフレームレートにおいて、前記非破壊読み出し回数の読み出しが可能か否かを判定する判定手段と、前記判定手段による判定結果を出力する出力手段と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】低フラックスを用いている間のノイズレベルを減少することを可能にするような検出回路を提供する。
【解決手段】ソースフォロワ検出器型の検出回路は、結合ノードNに接続されたフォトダイオード1を備える。バイアス回路3は、逆バイアスである第1の状態とフローティングである第2の状態との間にフォトダイオード1をバイアスすることを可能にする。読み出し回路4は、結合ノードNに接続され、フォトダイオード1により測定された現状を示す信号を生成する。金属シールド5は結合ノードNの周りに配置される。金属シールド5は、読み出し回路4の出力に接続され、結合ノードNの電位と同じ方向に変動する電位を持つように構成される。 (もっと読む)


【課題】本発明は、例えば、薄膜状電極、正孔注入阻止層などにキズや、ムラが発生した場合でも、それによる陰の出現が起きないようにすることを目的とするものである。
【解決手段】そしてこの目的を達成するために本発明は、下方側がX線入射面となったX線透過性基板17と、このX線透過性基板17の上面側の上方に順次設けた薄膜状電極18、正孔注入阻止層19、光変換膜層20、電子注入阻止層21とを備え、前記正孔注入阻止層19および薄膜状電極18を貫通し、前記X線透過性基板の上面に達する凹部32を形成。 (もっと読む)


【課題】本発明は、例えば、薄膜状電極、正孔注入阻止層などにキズや、ムラが発生した場合でも、それによる陰の出現が起きないようにすることを目的とするものである。
【解決手段】そしてこの目的を達成するために本発明は、下方面側がX線入射面となったX線透過性基板17と、このX線透過性基板17の上面の上方側に順次設けた薄膜状電極18、正孔注入阻止層19、光変換膜層20、電子注入阻止層21とを備え、前記電子注入阻止層21から前記X線透過性基板17の上方面に到達する凹部32を形成し、この凹部32内の前記X線透過性基板17の上方面には電子注入阻止層21を形成した。 (もっと読む)


【課題】回路層に対するIa族元素の拡散を防止しながら光電変換効率を向上する。
【解決手段】回路層20は、基板10の面上に形成されてトランジスター12を含む。光電変換素子14は、第1電極41および第2電極42との間に介在するカルコパイライト型半導体の光電変換層43を含む。供給層34は、回路層20と光電変換層43との間に形成されてIa族元素を含む。光電変換層43に対するIa族元素の拡散で光電変換効率が向上する。保護層32は、供給層34と回路層20との間に形成されて回路層20に対するIa族元素の拡散を防止する。 (もっと読む)


【課題】放射線を短時間で精度よく検出することができる放射線検出装置を提供する。
【解決手段】放射線検出素子10は、予め定めた放射線検出領域に均一に配置され、被写体に照射された放射線を検出し、検出した放射線に応じた画像用電気信号をスイッチング素子を介して信号配線に出力する複数のフォトダイオード12Aと、前記画像用放射線検出素子の一部を分割した放射線検出素子であると共に予め定めた繰り返しパターンで配置され、前記被写体に照射された放射線を検出し、検出した放射線に応じたモニタ用電気信号を配線に直接出力する複数のフォトダイオード12Bと、を備える。 (もっと読む)


【課題】小型化を図ったとしても、光ファイバーの先端部の接続強度が確保されて信頼性が高い光電変換モジュールを提供する。
【解決手段】光電変換モジュール(24)は、透光性及び可撓性を有する回路基板(26)の一方の面に実装されたICチップ(34)及び光電変換素子(32)と、回路基板(26)の他方の面に設けられた樹脂層(40)に形成された保持溝(42)内に配置された先端部を有する光ファイバー(23)と、保持溝(42)を覆う補強部材(46)と、光ファイバー(23)の先端と光電変換素子(32)とを回路基板(26)を通して光学的に結合する光学要素とを備える。保持溝(42)は、ICチップ(34)及び光電変換素子(32)の配列方向でみて、ICチップ(34)側に位置する樹脂層(40)の端に開口端を有し、光ファイバー(23)の先端部の少なくとも一部は、ICチップ(34)に沿って延びている。 (もっと読む)


【課題】信号の広帯域化を満足する広帯域特性を得ること。
【解決手段】基板110には、光伝送路171〜174が配列された光伝送路アレイ170が接続される。PDアレイ120は基板110に搭載される。PDアレイ120には複数のPD121〜124が配列される。PD121〜124は光伝送路171〜174からの光をそれぞれ受光する。TIA131〜134は、PD121〜124のカソードにバイアス電圧を印加する。TIA131〜134は、PD121〜124のアノードに流れる電流信号を電圧信号に変換して出力する。キャパシタ141〜144は、一端がPD121〜124のカソードに接続され他端が接地されている。 (もっと読む)


【課題】光受信モジュールにおいて、同一設計の受光素子を用いながら入力インピーダンスの異なるプリアンプを用いた場合にでも良好な周波数通過特性(S21)を実現する。
【解決手段】受光素子を搭載した半導体チップ6と、受光素子の出力信号を増幅するプリアンプ2と、受光素子を搭載する絶縁性キャリア基板3と、受光素子の出力信号がキャリア基板上の電極5を介してプリアンプに入力されるように接続し、受光素子を搭載しない状態でキャリア基板上の2電極間の容量値を40fF以上とした2電極4、5を有することより解決できる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、光電変換膜が半導体基板上に積層された積層型の固体撮像装置に関する。
【解決手段】複数の画素が二次元配置されてなる固体撮像装置であって、半導体基板と、半導体基板上に形成された層間絶縁膜と、層間絶縁膜上に、画素毎に隙間を空けて形成された下部電極と、真性半導体材料からなり、画素毎に、隙間を空けて、各下部電極上に形成された光電変換膜と、不純物半導体材料からなり、前記光電変換膜上に、複数の画素に亘って形成され、光電変換膜間の隙間に相当する部位が当該隙間に入り込んで、光電変換膜の側面の一部または全部を覆っているブロッキング層と、ブロッキング層上に、複数の画素に亘って形成された透光性を有する上部電極とを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】逆方向耐圧を向上させることができる半導体装置を提供する。
【解決手段】一導電型の半導体層100と、絶縁体層130と、絶縁体層中に設けられた半導体層210と、半導体層210に設けられた能動素子20と、半導体層100の前記一主面201に設けられた他の導電型の半導体領域112と、半導体領域112内に設けられた他の導電型であって半導体領域112よりも高不純物濃度の半導体領域114と、絶縁体層130に設けられたスルーホール144内に半導体領域144に接続して設けられた導電体154と、絶縁体層130上または中に設けられた導電体214であって、導電体154の周囲に設けられ、外側端部が半導体領域114よりも外側にある導電体214と、導電体154と導電体214とを接続して設けられた導電体192と、半導体層100に接続して設けられた導電体152,120と、を備える。 (もっと読む)


【課題】放射線による閾値電圧の変化を増幅することができ、また、温度補償を行うことができる二種類の金属酸化物半導体電界効果型トランジスタ(MOSFET)を有する放射線量計およびその操作方法を提供する。
【解決手段】放射線量計は、同じ基板に集積された二つの放射線電界効果型トランジスタ(RADFET)および二つのMOSFETを含む放射線集積回路(RADIC)、または、同じ基板に集積された二つのRADFET、および二つの抵抗器を含むものである。閾値電圧の変化の増幅は、MOSFETインバータの増幅原理を用い、いずれも、第一のRADFETのゲートには順方向のバイアスがかけられ、第二のRADFETのゲートはバイアスが外される。増幅された差分閾値電圧の変化は、示度モードで測定される。放射線感度が高められたため、ミリラッドの線量測定が可能となり、温度効果およびドリフトは、ほぼ除去される。 (もっと読む)


【課題】製造コストを低減し、設計の自由度を向上させ、特性の劣化を防ぐことができる光受信モジュールを得る。
【解決手段】導電性のステム10の主面に、導電性のサブマウント12が接続されている。サブマウント12は、ステム10の主面に対して傾いた傾斜面12aと、実装面12bと、実装面12bから突出した突出部12cとを有する。サブマウント12の傾斜面12a上に受光素子16が実装されている。サブマウント12の実装面12b上にプリアンプ18が実装されている。プリアンプ18は、入力端子18aと、出力端子18bと、GND端子18cとを有する。そして、プリアンプ18は、入力端子18aから入力した受光素子16の出力信号を増幅して出力端子18bから出力する。サブマウント12の突出部12cとプリアンプ18のGND端子18cはワイヤ20cにより接続されている。 (もっと読む)


【課題】光電素子を複数備えると共に、レンズを備えない構成であっても通信精度を向上することができる光通信モジュール及びこの光通信モジュールの製造方法を提供する。
【解決手段】コネクタ部品が装着される装着凹部11、及び、導電板30が底部に設けられた凹所12が形成されたベース10を備え、装着凹部11に装着されたコネクタ部品が有する光ファイバの端部に受光部22及び発光部27がそれぞれ対向するように、フォトダイオード20及びレーザダイオード25を凹所12内に配設し、凹所12内に透光性の合成樹脂を充填した封止部14を設けて、透光性の合成樹脂により受光部22及び発光部27を覆う。封止部14は、ベース10の凹所12内に透光性の合成樹脂をポッティングにより充填して設ける。 (もっと読む)


【課題】 高周波特性が改善された光レシーバ装置を提供する。
【解決手段】 光レシーバ装置は、出力端子となる第1電極と接地電位とは異なる電源が接続される第2電極とを有する受光素子と、アンプ素子を搭載するとともに上面に信号電極および接地電極からなる接続端子が設けられてなるアンプ回路と、信号電極に対し上面側から受光素子の第1電極の電位を接続する第1導体と、接地電極に対し上面側から受光素子の第2電極の電位を、第1コンデンサを介して接続する第2導体と、を備える。 (もっと読む)


【課題】画素化された撮像装置を提供する。
【解決手段】数個の画素を含む撮像装置であって、各々の画素は少なくとも、
−第1の電極(122)及び第2電極(102)の間に配置され、及び光子及び/または高エネルギー粒子放射の電気信号への変換を達成することができるダイアモンド層(104)の一部と、
−前記電気信号を増幅及び/または読出すための電子回路(110)であって、少なくとも前記第1の電極に電気接続され、及び前記ダイアモンド層及び該ダイアモンド層と前記電子回路との間に位置された誘電層(106)を含むSOD型基板の表面層を形成し、おおよそ1μmに等しいかそれより薄い厚さを有している半導体材料層(108)の一部で作られた電子回路と、
を含んでいる。 (もっと読む)


【課題】光受信モジュールにおいて、組立て作業性を損なうことなく、周波数特性を向上させ得る技術の提供。
【解決手段】光受信モジュールの基台部は、下段面と立ち上がり面と上段面とがこの順に連なる階段状の部分を有しており、光受信素子を配置するキャリアは、下面の幅よりも上面の幅が短くなっており、上面と前面に渡って配置される基準電圧用膜状配線及び信号電圧用配線が位置し、前記下段面と前記立ち上がり面に沿って配置され、前置増幅回路は、前記上段面に配置される。 (もっと読む)


【課題】暗電流の発生の少ない光電変換素子及び固体撮像素子を提供すること。
【解決手段】 導電性膜と、光電変換膜と、透明導電性膜とを含む光電変換素子であって、前記光電変換膜が、結晶化したフラーレン又はフラーレン誘導体を含み、前記結晶化したフラーレン又はフラーレン誘導体が、前記導電性膜の膜面に対して垂直に(111)方向に配向している、電変換素子。 (もっと読む)


【課題】効率よく光電変換ができる光吸収体を有する半導体基板、半導体基板の製造方法、および当該半導体基板を含む光センサを提供する。
【解決手段】シリコンを含むベース基板と、ベース基板上方に設けられたシード体と、シード体に格子整合または擬格子整合し、光または熱を吸収してキャリアを生成する3−5族化合物半導体からなる光熱吸収体とを備え、光熱吸収体が、光熱吸収体に入射する入射光または光熱吸収体に加わる熱に応じて電気信号を出力するセンサを提供する。また、シリコンを含むベース基板と、ベース基板の上方に形成され、ベース基板の表面を露出する開口を有し、結晶成長を阻害する阻害体と、開口の内部に設けられたシード体と、シード体に格子整合または擬格子整合し、光または熱を吸収してキャリアを生成する3−5族化合物半導体からなる光熱吸収体とを備える半導体基板を提供する。 (もっと読む)


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