説明

Fターム[5F092AA04]の内容

ホール/MR素子 (37,442) | 目的、効果 (2,233) | 低消費電力化 (130)

Fターム[5F092AA04]に分類される特許

1 - 20 / 130



【課題】書き込みエラーを生じることなく、短い時間で書き込み動作を行うことができる記憶素子を提供することを目的とする。
【解決手段】記憶素子は、情報に対応して磁化の向きが変化される記憶層と、非磁性体による中間層と、上記記憶層に対して、上記中間層を介して設けられ、磁化の向きが固定された磁化固定層とを有する層構造を備える。
そして、上記記憶層は、少なくとも2つの強磁性層が結合層を介して積層され、上記2つの強磁性層が上記結合層を介して磁気的に結合し、上記2つの強磁性層の磁化の向きが膜面に垂直な方向から傾斜しており、上記層構造の積層方向に電流を流すことにより、上記記憶層の磁化状態が変化して、上記記憶層に対して情報の記録が行われる。 (もっと読む)


【課題】少ない電流で高速に動作させることが可能な記憶素子・記憶装置を提供する。
【解決手段】記憶層14と磁化固定層12とこれらの間に配された非磁性体による中間層13とキャップ層15とを少なくとも含み、上記記憶層として、第1の強磁性層14iと第2の強磁性層14pとが結合層14cを介して磁気的に結合され、上記第1の強磁性層が上記中間層に接し、上記第2の強磁性層が上記キャップ層に接しており、上記第1の強磁性層と上記第2の強磁性層のうち一方が膜面内磁化が優位な面内磁化層とされ、他方が垂直磁化が優位な垂直磁化層とされ、上記第1の強磁性層及び上記第2の強磁性層の磁化の向きが膜面に垂直な方向から傾斜しているものを用いる。記憶層の磁化の向きが傾斜しているので、記憶素子に対し膜面に垂直な方向の電流を流すと速やかに強磁性層の磁化の歳差運動の振幅増加が始り、短い時間の反転動作が可能になる。 (もっと読む)


【課題】磁気トンネル接合を有する磁気ランダムアクセスメモリ(MRAM)セルを提供する。
【解決手段】磁気トンネル接合2は、シンセティック記憶層23、可逆性であるセンス磁化方向211を呈するセンス層21、及びこのセンス層とこの記憶層との間のトンネル障壁層22から構成される。正味の漂遊局所磁界が、前記記憶層を前記センス層に結合させる。前記正味の漂遊局所磁界は、センス層に結合する前記正味の漂遊局所磁界が50エルステッド未満であるような漂遊局所磁界である。また、MRAMセルに書き込み、MRAMセルを読み出すための方法に関する。当該開示されたMRAMセルは、従来のMRAMセルに比べてより低い消費電力で書き込まれ且つ読み出され得る。 (もっと読む)


【課題】
大きな乗算信号を取り出すことが可能で、さらに受信用バンドパスフィルタ機能を有した混合器を提供することを主目的とする。
【解決手段】
磁化固定層、磁化自由層、および前記磁化固定層と前記磁化自由層との間に配設された非磁性スペーサー層を備え、高周波信号S1およびローカル信号S2を入力したときに磁気抵抗効果によって当該両信号S1,S2を乗算して電圧信号(乗算信号)S4を生成する磁気抵抗効果素子2から得た乗算信号は、共振特性の強度に応じて増減し、共振周波数f0と両信号S1,S2のそれぞれ周波数f1、f2が一致するときに最大強度を示し、共振周波数f0から周波数f1、f2の両方またはいずれか一つが離れると減衰する。あたかもバンドパスフィルタを挿入したときと同じ効果があり、磁場印加部3による磁場を制御することで、所望のバンドパスフィルタを有する周波数変換装置を提供できる。 (もっと読む)


【課題】
乗算信号の出力低下を回避しつつ、低いローカルパワーで作動可能とする。
【解決手段】
磁化固定層、磁化自由層、および前記磁化固定層と前記磁化自由層との間に配設された非磁性スペーサー層を備え、高周波信号S1およびローカル信号S2を入力したときに磁気抵抗効果によって両信号S1,S2を乗算して電圧信号(乗算信号)S3を生成する磁気抵抗効果素子2の磁化自由層に対し、磁場印加部3より発生する磁場を膜面法線方向、または膜面方向から膜面法線方向に傾けて掛けることで、Q値の高い共振特性を得ることができ、大きな乗算信号を得ることができ、さらに狭帯域周波数選択性の機能を有する周波数変換装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】精度の高い磁界検出方法を提供する。
【解決手段】
トンネル磁気抵抗効果素子10を用いて外部磁界を検出する磁界検出方法が提供される。磁界検出方法は、トンネル磁気抵抗効果素子10の自由層15の磁化方向を変化させるバイアス磁界Hbと外部磁界Hexとを同時に、もしくはバイアス磁界Hbと外部磁界Hexとを個別にトンネル磁気抵抗効果素子10に印加したときの電気特性を測定するステップと、バイアス磁界Hbおよび外部磁界Hexに応じて測定されたトンネル磁気抵抗効果素子10の電気特性に基づいて外部磁界を算出するステップとを含む。 (もっと読む)


【課題】高周波磁界アシスト記録方式において、低電流でも安定した発振が得られるスピントルク発振器を実現し、高記録密度を可能とする磁気記録ヘッドを提供する。
【解決手段】高周波磁界を発する発振器110を備える磁気記録ヘッドにおいて、二層の磁性層112a,112bが反平行方結合した積層構造のスピン注入層構造112を用いる。二層の磁性層のうち、高周波磁界発生層111に近い第一の磁性層112aの飽和磁化Msと膜厚tとの積Ms×tは、高周波磁界発生層から遠い第二の磁性層112bのMs×tよりも小さい。 (もっと読む)


【課題】MR素子の消費電力を低減する。
【解決手段】MR素子10は、基板11と、基板11上に設けられたMR膜12とを備えている。MR膜12は、ジグザグ状に折れ曲がる直線12aが更に多重にジグザグ状に折れ曲がる形状12bを有する。直線12aは、複数の形状部121,122,123を形成している。それぞれの形状部121,122,123は、互いに平行な複数の長方形12cがジグザグ状に直列に接続された形状を有し、かつジグザグ状に互いに直列に接続されている。 (もっと読む)


【課題】高速かつ消費電力が極めて小さい不揮発性メモリを提供する。
【解決手段】不揮発性磁気メモリに、高出力なトンネル磁気抵抗効果素子を装備し、スピントランスファートルクによる書込み方式を適用する。トンネル磁気抵抗効果素子1は、CoとFeとBを含有する体心立方構造の強磁性膜304と、(100)配向した岩塩構造のMgO絶縁膜305と、強磁性膜306とを積層した構造を有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、光信号の情報を記憶させておくために電力を消費することがなく、光信号の情報の書込み、および読出しを高速にかつ簡単な構成で行なうことができる不揮発性光メモリを提供する。
【解決手段】本発明は、電子のスピン偏極状態を利用して光信号を記憶する半導体レーザー構造を備えた不揮発性光メモリ10である。不揮発性光メモリ10は、GaAs基板1と、GaAs基板1上に、異なる屈折率の半導体膜を交互に積層することで形成してある分布ブラッグ反射層2と、分布ブラッグ反射層2上に、量子井戸構造を有する半導体活性層3とを備えている。発光領域10aの半導体活性層3上に、異なる屈折率の半導体膜を交互に積層することで形成してある分布ブラッグ反射層4と、受光領域10bの半導体活性層3上の一部に、半導体活性層3の表面に対して垂直の磁化方向を有する強磁性電極5とを備えている。 (もっと読む)


【課題】読み出し時の誤書き込みのリスクをより抑制し、かつ、より正確な読み出しを可能とする。
【解決手段】磁気ランダムアクセスメモリは、スピン注入により変更される自由強磁性層の磁化の向きでデータを書き込み可能な第1磁気抵抗素子を含むメモリセルと、スピン注入により変更される自由強磁性層の磁化の向きでリファレンス用データを記憶する複数の第2磁気抵抗素子を含み、メモリセルの読み出し動作時に用いられるリファレンスセルとを具備する。複数の第2磁気抵抗素子は、互いに直列に接続され、自由強磁性層の磁化の向きが互いに逆の向きで、固定強磁性層の磁界の向きが互いに同じ向きで、固定強磁性層同士又は自由強磁性層同士が電気的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】磁気異方性物質の自由層を含むストレージノードと、これを含む磁気メモリ素子及びこれらの製造方法を提供する。
【解決手段】下部磁性層と、下部磁性層上に形成されたトンネルバリアと、トンネルバリア上に形成され、スピン電流により磁化方向がスイッチングされる自由層と、を含み、自由層は水平または垂直磁気異方性物質層を含み、自由層下に形成された少なくとも一つの物質層を包むキャップ構造を持つ磁気メモリ素子のストレージノード。 (もっと読む)


【課題】磁気メモリに用い得る磁気素子を作製するための方法及びシステムを提供する。
【解決手段】磁気素子には、固定層と、非磁性スペーサ層と、自由層とが含まれる。スペーサ層は固定層と自由層との間にある。自由層は、書き込み電流が磁気素子を通過する時にスピン転移を用いて切換え得る。磁気素子には更に、バリア層と第2固定層とを含み得る。他の選択肢として、第2固定層と第2スペーサ層と自由層に静磁気的に結合された第2自由層とが含まれる。少なくとも1つの自由層が高垂直異方性を有する。高垂直異方性は、面外減磁エネルギの少なくとも20%であり且つ100パーセント未満である垂直異方性エネルギを有する。 (もっと読む)


【課題】マルチビット磁気ランダムアクセスメモリセルの不揮発性メモリセルのための装置およびプログラム方法を提供する。
【解決手段】第1の磁気トンネル接合(MTJ)192は、磁気フィルタ208を有する第2のMTJ192に隣接する。第2のMTJ192がプログラムされることを防ぐために第1の磁束212を磁気フィルタ208が吸収しつつ、第1の磁束212を用いて第1のMTJ192が第1の論理状態にプログラムされる。 (もっと読む)


【課題】 MAMR用途において、低電流密度下で磁界生成層(FGL)を発振させ得るスピントランスファー発振器(STO)構造を得る。
【解決手段】
主磁極20とライトシールド26との間に形成されるSTO構造に、垂直磁気異方性(PMA)を有する2つのアシスト層27a,32を設ける。このSTO構造は、シード層21/スピン注入層(SIL)22/第1のスペーサ層23/第1のPMAアシスト層27a/複合FGL40/第2のスペーサ31/第2のPMAアシスト層32/キャップ層25なる構成を有する。複合FGL40は、下部FGL27bと、上部FGL29と、これらの間の中間結合層28とからなるシンセティック反強磁性構造を有する。SIL22および2つのPMAアシスト層27a,32は、それぞれ、(CoFe/Ni)x 等からなる積層体である。 (もっと読む)


【課題】低電流密度下においてマイクロ波を生成可能なスピントルク発振器を提供する。
【解決手段】スピントルク発振器は、第1および第2の外表面を有する非磁性スペーサ層16と、上記第1の外表面と接触する磁界生成層33と、非磁性スペーサ層16の表面に対して垂直な永久磁化を有し上記第2の外表面と完全接触するスピン注入層12とを備える。磁界生成層33は、垂直磁気異方性を示すと共に第1の外表面と完全接触する第1のFGLサブ層331と、面内異方性を示すと共に第1のFGLサブ層331と完全接触する第2のFGLサブ層332とからなる二層構造を有する。従来の磁界生成層に代えて、一方の層が垂直磁気異方性を示し他方の層が面内異方性を示す二重層を設け、垂直異方性を示す層を非磁性スペーサ層16に最も近接させるようにしたので、1×108 A/cm2 という低電流密度下においてマイクロ波が生成可能となる。 (もっと読む)


【課題】磁気メモリ素子へのデータを書込む方法を改善する。
【解決手段】スピントルクトランスファランダムアクセスメモリ(STRAM)メモリセルのような磁気メモリ素子に、データを書込むための方法および装置。さまざまな実施形態に従えば、書込電流が磁気メモリセルを通して印加されて、所望の磁化状態への素子の磁気歳差運動を開始する。フィールドアシスト電流の流れは、書込電流の連続した印加の間に磁気メモリ素子に隣接して実質的に印加されて、素子上に磁場を誘起する。フィールドアシスト電流は、書込電流が停止された後も持続され、所望の磁化状態へのフィールドアシストされた歳差を提供する。 (もっと読む)


【課題】メモリ素子の信頼性と消費電流の抑制を両立させることができる半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置は、複数の磁気メモリセルMCと、複数のディジット線DLと、ディジット線ドライブ回路28Bと、ビット線BL[0:95」とを備える。複数のビット線BL[0:95」は、たとえば12本ごとの複数の群に分割される。半導体装置は、複数のビット線の各々を少なくとも2段階の強度で駆動可能に構成されたビット線ドライブ回路22L,22Rとをさらに備える。ビット線ドライブ回路22L,22Rは、書込群に対しては、書込データに対応する極性の電流で2段階のうち強い強度でビット線を駆動し、非書込群に対しては、2段階のうち弱い強度で自分自身のデータに対応する極性のデータ保持電流を流す。 (もっと読む)


【課題】 本発明の実施形態によれば、スピン波素子のスピン波の集積化が行えて、スピン波素子が発生するスピン波の相互干渉を抑制することができるスピン波素子を提供することができる。
【解決手段】 基板と、前記基板上に設けられた電極層と、前記電極層上に設けられ、磁化が積層方向又は積層方向に対して垂直方向に向いている第1の強磁性層を含む多層膜と、前記多層膜上の第1の領域に設けられた第2の強磁性層と、前記第2の強磁性層上に設けられた中間層と、前記中間層上に設けられた第3の強磁性層と、前記多層膜上の前記第1の領域と離間して設けられた前記多層膜上の第2の領域に設けられた検出部と、前記第3の強磁性層上に設けられた第1の電極と、前記検出部上に設けられた第2の電極と、を備える。 (もっと読む)


1 - 20 / 130