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Fターム[5F092AD03]の内容

ホール/MR素子 (37,442) | 素子の動作 (2,918) | 印加電流又は電圧 (1,470) | 検出電流方向 (1,342) | 基板主面膜面に垂直(CPP含む) (1,068)

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【課題】より広い電流レンジの測定を可能とする。
【解決手段】電流を検知するための素子として、磁界の強度に応じて抵抗値が変化する磁気抵抗効果を利用した磁気抵抗素子を用いる。磁気抵抗素子の近傍に配置した配線に測定対象の電流が流れた際に発生する磁界に応じた当該磁気抵抗素子の抵抗に基づき、当該測定対象電流の電流値を測定する。また、磁気抵抗素子を、IV特性の直線領域において純抵抗として用いて、当該磁気抵抗素子に測定対象電流を直接流して電流値の測定を行う。これらの、磁気抵抗素子の磁気抵抗効果を利用した電流測定と、磁気抵抗素子を純抵抗として用いた電流測定とを、測定対象電流の電流値に応じて切り替える。 (もっと読む)


【課題】熱安定性の情報書き込み方向に対する非対称性をすくなくし特性バランスに優れた記憶素子を実現する。
【解決手段】記憶素子は、膜面に垂直な磁化を有し、情報に対応して磁化の向きが変化される記憶層と、上記記憶層に記憶された情報の基準となる膜面に垂直な磁化を有する磁化固定層と、上記記憶層と上記磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層とを有する層構造を備える。そして上記層構造の積層方向に電流を流すことで記憶層の磁化の向きが変化して、記憶層に対して情報の記録が行われる。この場合に、磁化固定層を少なくとも2層の強磁性層とCrを含む非磁性層とを有する積層フェリピン構造とする。 (もっと読む)


【課題】熱安定性を確保して特性バランスに優れた記憶素子を実現する。
【解決手段】記憶素子は、膜面に垂直な磁化を有し、情報に対応して磁化の向きが変化される記憶層と、上記記憶層に記憶された情報の基準となる膜面に垂直な磁化を有する磁化固定層と、上記記憶層と上記磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層とを有する層構造を備える。その上で、上記層構造の積層方向に電流を流すことで記憶層の磁化の向きが変化して、記憶層に対して情報の記録が行われる。そして記憶層は、Co−Fe−B磁性層と、少なくとも1つの非磁性層を有し、酸化物層、Co−Fe−B磁性層、非磁性層が順に積層された積層構造が形成されているようにする。 (もっと読む)


【課題】書き込みエラーを生じることなく、短い時間で書き込み動作を行うことができる記憶素子及び記憶装置を提供する。
【解決手段】情報に対応して磁化の向きが変化される記憶層と、磁化の向きが固定された磁化固定層と、上記記憶層と上記磁化固定層との間に配された非磁性体による中間層とを含む層構造を有する記憶素子を構成する。そして上記磁化固定層が、少なくとも2つの強磁性層が結合層を介して積層され、上記2つの強磁性層が上記結合層を介して磁気的に結合し、上記2つの強磁性層の磁化の向きが膜面に垂直な方向から傾斜している。このような構成により、上記記憶層及び上記磁化固定層のそれぞれの磁化の向きがほぼ平行又は反平行とされてしまうことによる磁化反転時間の発散を効果的に抑えることができ、書き込みエラーを低減し、より短い時間で書き込みができる。 (もっと読む)


【課題】熱安定性の情報書き込み方向に対する非対称性をすくなくし特性バランスに優れた記憶素子を実現する。
【解決手段】記憶素子は、膜面に垂直な磁化を有し、情報に対応して磁化の向きが変化される記憶層と、上記記憶層に記憶された情報の基準となる膜面に垂直な磁化を有する磁化固定層と、上記記憶層と上記磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層とを有する層構造を備える。そして上記層構造の積層方向に電流を流すことで記憶層の磁化の向きが変化して、記憶層に対して情報の記録が行われる。この場合に、磁化固定層を少なくとも2層の強磁性層と非磁性層とを有する積層フェリピン構造とし、かつ、いずれかの上記強磁性層に接して反強磁性酸化物層が形成されているようにする。 (もっと読む)


【課題】熱安定性を確保して特性バランスに優れた記憶素子を実現する。
【解決手段】記憶素子は、膜面に垂直な磁化を有し、情報に対応して磁化の向きが変化される記憶層と、上記記憶層に記憶された情報の基準となる膜面に垂直な磁化を有する磁化固定層と、上記記憶層と上記磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層とを有する層構造を備える。その上で、上記層構造の積層方向に電流を流すことで記憶層の磁化の向きが変化して、記憶層に対して情報の記録が行われる。記憶層は、少なくともCo−Fe−B磁性層を有する。また記憶層に接する中間層と、該中間層とは反対側で記憶層が接する他方の層は、少なくとも記憶層と接する界面が酸化物層とされており、さらに上記他方の層は、酸化物層が、Liを含むLi系酸化物層とされている。 (もっと読む)


【課題】書き込みエラーを生じることなく、短い時間で書き込み動作を行うことができる記憶素子及び記憶装置を提供する。
【解決手段】情報に対応して磁化の向きが変化される記憶層14と、磁化の向きが固定された磁化固定層12と、上記記憶層14と上記磁化固定層12との間に配された非磁性体による中間層13と、垂直磁気異方性誘起層15とを含む層構造を有する記憶素子3を構成する。そして、上記記憶層14が、第1の強磁性層14aと第1の結合層14bと第2の強磁性層14cと第2の結合層14dと第3の強磁性層14eとが同順に積層されて、上記第1の強磁性層14aが上記中間層13に接し、上記第3の強磁性層14eが上記垂直磁気異方性誘起層15に接し、上記結合層14b,14dを介して隣接する上記強磁性層14a,14c,14eの磁化の向きが膜面に垂直な方向から傾斜している。 (もっと読む)


【課題】より小さい磁場で磁性層の磁化方向を所定の方向に設定する。
【解決手段】磁気メモリ10の磁場印加装置(製造装置)30は、磁気メモリ10の磁性層15に磁場を印加し、磁性層15の磁化方向を初期化する磁石32A及び32Bと、磁性層15に磁場(反転磁場)が印加されている間に、磁性層15に高周波磁場(マイクロ波磁場)を印加する磁場発生器33と、制御回路34とを含む。磁性層15に磁場を印加すると同時に、高周波磁場を印加することで、小さい反転磁場で磁性層15の磁化方向を所定の方向に設定することができる。 (もっと読む)


【課題】記録密度を向上できる高周波磁界発生素子、磁気ヘッド、磁気ヘッドアセンブリ及び磁気記録装置を提供する。
【解決手段】実施形態に係る高周波磁界発生素子は、第1固定層と、第1自由層と、第2自由層と、を備える。第1固定層は、磁化の方向が固定であって磁化の方向に第1方向と平行な成分が含まれる。第1自由層は、第1固定層と積層される。第1自由層は、磁化の方向が可変であって磁化の方向に第1方向と直交する成分が含まれる。第2自由層は、第1固定層と積層される。第2自由層は、磁化の方向が可変であって磁化の方向に第1方向と直交する成分が含まれる。第1固定層は、第1自由層と第2自由層との間に設けられる。第1自由層の磁化及び第2自由層の磁化は、第1自由層、第2自由層及び第1固定層に流れる電流により発振する。第1自由層の発振における磁化の回転方向は、第2自由層の発振における磁化の回転方向に対して逆である。 (もっと読む)


【課題】トンネル磁気抵抗素子を利用した生体磁気センサーにおいて、トンネル磁気抵抗素子の高感度を達成し、高精度に生体磁気を計測する。
【解決手段】ゼロ磁界での強磁性金属磁化自由層4の容易磁化軸4aは、強磁性金属磁化固定層6の容易磁化軸6aに対してねじれの位置にある。好ましくはねじれの角が45度から135度である。また、当該固定層が自由層より上層に積層され、固定層の面積は自由層の面積に対して小さくされる。当該固定層及び自由層がそれぞれ3層とされ、極薄非磁性体金属層を介して第1の強磁性体の磁化の向きと前記第2の強磁性体の磁化の向きとが反平行になる交換結合力を有する反平行結合膜構造体とされる。絶縁層としてはMgO、極薄非磁性体金属層としてはRuが適用される。 (もっと読む)


【課題】より小さい磁場で磁性層の磁化方向を所定の方向に設定する。
【解決手段】磁気メモリ21の磁場印加装置30は、磁気メモリ21の磁性層に磁場を印加し、磁性層の磁化方向を初期化する磁石32A及び32Bと、磁性層に磁場が印加されている間に、磁気メモリ21の温度を上昇させる温度上昇機構33と、制御回路34とを含む。磁石32A及び32Bはそれぞれ、設定する磁化方向に応じて、磁場を発生し、磁気メモリ21の上から下へ向かう磁場、又は下から上へ向かう磁場が印加される。 (もっと読む)


【課題】メモリセルへのデータの書き込みと読出しの信頼性を高くした不揮発性メモリを提供する。
【解決手段】2つのメモリセルを隣接させた基本ユニットを単位にするメモリセルアレイを有し、前記基本ユニットの2つのメモリセルのメモリセル選択用トランジスタのソース端子を共通のソース線に接続し、前記2つのメモリセルを2つのビット線に接続した抵抗変化型メモリであって、前記ソース線の配線パターンと前記ビット線の配線パターンを平行に走行させ、前記ソース線の配線パターンと前記ビット線の配線パターンの一部の領域を上下で重ねあわせて対向させる。 (もっと読む)


【課題】第1の磁性部分と、第2の磁性部分と、第1の磁性部分と第2の磁性部分の間の
バリア層とを有するセンサスタックを含む磁気センサを提供する。
【解決手段】第1の磁性部分及び第2の磁性部分のうち少なくとも一方が、バリア層に隣接する正の磁気ひずみを有する第1の磁性層と、第2の磁性層と、第1の磁性層と第2の磁性層の間の中間層とを有する多層構造を含む。この磁気センサは、その抵抗−面積(RA)積が約1.0Ω・μmであるとき、少なくとも約80%のMR比を有する。 (もっと読む)


【課題】高出力、高Q値で且つ、膜厚が薄いSTOを備えた磁気ヘッド、磁気センサ、および磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】一実施形態の磁気ヘッドは、スピントルク発振素子を備え、スピントルク発振素子は、第1強磁性層と、第2強磁性層と、第2強磁性層に対して前記第1強磁性層と反対側に設けられた第3強磁性層と、第1強磁性層と第2強磁性層との間に設けられた第1非磁性層と、第2強磁性層と第3強磁性層との間に設けられた第2非磁性層と、第1強磁性層に対して第1非磁性層と反対側の面に設けられた第1電極と、第3強磁性層に対して第2非磁性層と反対側の面に設けられた第2電極と、を備え、第2強磁性層と第3強磁性層は、第2非磁性層を介して反強磁性結合をし、前記第1および第2電極間に電流を流さない場合に第1強磁性層と第2強磁性層の磁化の向きが反平行配置であり、第1および第2電極間に電流を流すと、第1乃至第3強磁性層においてそれぞれ、磁化の歳差運動が誘起される。 (もっと読む)


【課題】磁気トンネル接合を有する磁気ランダムアクセスメモリ(MRAM)セルを提供する。
【解決手段】磁気トンネル接合2は、シンセティック記憶層23、可逆性であるセンス磁化方向211を呈するセンス層21、及びこのセンス層とこの記憶層との間のトンネル障壁層22から構成される。正味の漂遊局所磁界が、前記記憶層を前記センス層に結合させる。前記正味の漂遊局所磁界は、センス層に結合する前記正味の漂遊局所磁界が50エルステッド未満であるような漂遊局所磁界である。また、MRAMセルに書き込み、MRAMセルを読み出すための方法に関する。当該開示されたMRAMセルは、従来のMRAMセルに比べてより低い消費電力で書き込まれ且つ読み出され得る。 (もっと読む)


【課題】書き込み電流を低減する。
【解決手段】磁気記憶素子10は、膜面に垂直方向の磁気異方性を有し、かつ磁化方向が可変である記憶層12と、記憶層12上に設けられた非磁性層13と、非磁性層13上に設けられ、かつ膜面に垂直方向の磁気異方性を有し、かつ磁化方向が不変である参照層14とを含む。記憶層12の面積は、参照層14の面積より大きく、記憶層12の端部の磁化は、記憶層12の中央部の磁化より小さい。 (もっと読む)


【課題】半導体集積回路の内蔵メモリとしてのMRAMへの不正アクセスに対する保護を改善すること。
【解決手段】半導体集積回路(10)は、プロセッサ(1)と不揮発性メモリ(3)とを具備する。不揮発性メモリ(3)は、複数の磁気ランダムアクセスメモリセルと、複数の磁気リードオンリーメモリセルとを含む。複数の磁気ランダムアクセスメモリセルはプロセッサ(1)による通常書き込みによって書き換えが可能とされ、複数の磁気リードオンリーメモリセルはプロセッサ(1)による通常書き込みによって書き換えが不可能とされる。不揮発性メモリ(3)と接続された感知回路(2)は、不揮発性メモリ(3)の不正アクセスによる複数の磁気リードオンリーメモリセルの状態遷移を感知する。状態遷移に応答して、感知回路(2)は不正アクセスの検出結果をプロセッサ(1)に通知する。 (もっと読む)


【課題】記憶層に印加される漏れ磁界を低減する。
【解決手段】磁気記憶素子10は、膜面に垂直方向の磁気異方性を有し、かつ磁化方向が可変である記憶層11と、記憶層11上に設けられた非磁性層12と、非磁性層12上に設けられ、かつ膜面に垂直方向の磁気異方性を有し、かつ磁化方向が不変である参照層13と、参照層13上に設けられた非磁性層14と、非磁性層14上に設けられ、かつ参照層13からの漏れ磁界を低減する調整層15とを含む。調整層15は、界面層16と、膜面に垂直方向の磁気異方性を有する磁性層17とが積層されて構成され、界面層16の飽和磁化は、磁性層17の飽和磁化より大きい。 (もっと読む)


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