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Fターム[5F092BE21]の内容

ホール/MR素子 (37,442) | 各素子に共通の特徴 (1,980) | 結晶配向 (293)

Fターム[5F092BE21]に分類される特許

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【課題】環境温度によらず、熱安定性を確保して特性バランスに優れた記憶素子を実現する。
【解決手段】記憶素子は、膜面に垂直な磁化を有し、情報に対応して磁化の向きが変化される記憶層と、上記記憶層に記憶された情報の基準となる膜面に垂直な磁化を有する磁化固定層と、上記記憶層と上記磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層とを有する層構造を備える。そして上記層構造の積層方向に電流を流すことで記憶層の磁化の向きが変化して、記憶層に対して情報の記録が行われる。この場合に、記憶層は正の磁歪定数を持つ磁性層を有するようにし、上記層構造に加えてさらに、負熱膨張材料層が設けられるようにする。 (もっと読む)


【課題】熱安定性を確保して特性バランスに優れた記憶素子を実現する。
【解決手段】記憶素子は、膜面に垂直な磁化を有し、情報に対応して磁化の向きが変化される記憶層と、上記記憶層に記憶された情報の基準となる膜面に垂直な磁化を有する磁化固定層と、上記記憶層と上記磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層とを有する層構造を備える。
そして、上記記憶層は非磁性体と酸化物が積層された積層構造層を含み、上記層構造の積層方向に電流を流すことにより、上記記憶層の磁化の向きが変化して、上記記憶層に対して情報の記録が行われる。 (もっと読む)


【課題】向上した磁気性能および堅牢性を有する磁気読み出しセンサを提供する。
【解決手段】磁気センサは、磁化自由層構造310と磁化固定層構造とを含む。磁化固定層構造は、非磁性結合層318によって互いに分離させた第1の磁性層314および第2の磁性層316を含む。磁化固定層構造の第2の磁性層はCoFeBTaの層を含んでおり、この層が原子の拡散を防止し、さらには所望のBCC結晶粒成長を促進する。磁化自由層構造は、原子拡散をさらに防止し、所望のBCC粒成長をさらに促進するためのかかるCoFeBTa層を含むこともできる。 (もっと読む)


【課題】電流で書き込み動作を行うことができる大容量の磁気メモリ及び磁気メモリ装置を提供する。
【解決手段】磁化が固定された第1の磁性層10と、磁化が可変の第2の磁性層30と、第1の磁性層10と第2の磁性層30との間に設けられた第1の中間層20と、第1の磁性層10と第2の磁性層30とを結ぶ第1の方向に直交する第2の方向に延在し、第2の磁性層30に隣接し、スピン波を伝搬する第1の磁性細線40と、第1の磁性細線40の一端に設けられた第1のスピン波入力部と、第1の磁性細線40の他端に設けられた第1のスピン波検出部と、を備える。 (もっと読む)


【課題】実施形態による、磁壁制御が容易な磁気メモリ素子を提供する。
【解決手段】磁気メモリ素子100は、第1方向に延在し、磁壁により隔てられた複数の磁区を有する磁性細線20と、前記磁性細線20に対して前記第1の方向又は前記第1の方向と逆方向に通電可能な一対の第1の電極30と、前記第1の方向に直交する第2の方向において、前記磁性細線20上に設けられた第1の絶縁層40と、前記第2の方向であって前記第1の絶縁層40上に離間して設けられた複数の第2の電極50と、複数の前記第2の電極50と電気的に接続された第3の電極60と、を備える。 (もっと読む)


【課題】磁気抵抗効果素子の特性劣化を抑制する。
【解決手段】本実施形態の磁気抵抗効果素子は、膜面に対して垂直方向に磁気異方性と不変な磁化方向とを有する第1の磁性体30と、膜面に対して垂直方向に磁気異方性と可変な磁化方向とを有する第2の磁性体10と、磁性層10,30の間の非磁性体20とを、含む。第1及び第2の磁性体のうち少なくとも一方は、ボロン(B)及び希土類金属及び遷移金属を含む磁性層301を備え、磁性層301において、希土類金属の含有量は、20at.%以上であり、遷移金属の含有量は、30at.%以上であり、ボロンの含有量が、1at.%以上、50at.%以下である。 (もっと読む)


【課題】磁気メモリの動作不良を抑制する。
【解決手段】本実施形態の磁気抵抗効果素子は、垂直磁気異方性を有し、磁化の向きが可変な記憶層と、垂直磁気異方性を有し、磁化の向きが不変な参照層と、記憶層と参照層との間の非磁性層11と、磁化の向きが不変なシフト調整層と、を含む。参照層は第1の磁化温度依存性LM1を有し、シフト調整層は参照層と異なる第2の磁化温度依存性LM2を有する。メモリ動作温度下において、参照層の漏れ磁場とシフト調整層の漏れ磁場とは互いにキャンセルされ、実装温度下において、参照層の漏れ磁場及びシフト調整層のうち一方に起因するシフト磁界が、記憶層の磁化に印加される。 (もっと読む)


【課題】
乗算信号の出力低下を回避しつつ、低いローカルパワーで作動可能とする。
【解決手段】
磁化固定層、磁化自由層、および前記磁化固定層と前記磁化自由層との間に配設された非磁性スペーサー層を備え、高周波信号S1およびローカル信号S2を入力したときに磁気抵抗効果によって両信号S1,S2を乗算して電圧信号(乗算信号)S3を生成する磁気抵抗効果素子2の磁化自由層に対し、磁場印加部3より発生する磁場を膜面法線方向、または膜面方向から膜面法線方向に傾けて掛けることで、Q値の高い共振特性を得ることができ、大きな乗算信号を得ることができ、さらに狭帯域周波数選択性の機能を有する周波数変換装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】
大きな乗算信号を取り出すことが可能で、さらに受信用バンドパスフィルタ機能を有した混合器を提供することを主目的とする。
【解決手段】
磁化固定層、磁化自由層、および前記磁化固定層と前記磁化自由層との間に配設された非磁性スペーサー層を備え、高周波信号S1およびローカル信号S2を入力したときに磁気抵抗効果によって当該両信号S1,S2を乗算して電圧信号(乗算信号)S4を生成する磁気抵抗効果素子2から得た乗算信号は、共振特性の強度に応じて増減し、共振周波数f0と両信号S1,S2のそれぞれ周波数f1、f2が一致するときに最大強度を示し、共振周波数f0から周波数f1、f2の両方またはいずれか一つが離れると減衰する。あたかもバンドパスフィルタを挿入したときと同じ効果があり、磁場印加部3による磁場を制御することで、所望のバンドパスフィルタを有する周波数変換装置を提供できる。 (もっと読む)


【課題】
本発明は磁気抵抗効果素子を用いて乗算信号を生成する混合器に関し、受信帯域幅を調整するため、複数の混合器を有した周波数変換装置を提供する。
【解決手段】
磁化固定層、磁化自由層、および前記磁化固定層と前記磁化自由層との間に配設された非磁性スペーサー層を備え、第1高周波信号およびローカル用の第2高周波信号を入力したときに磁気抵抗効果によって当該両高周波信号を乗算して乗算信号を生成する磁気抵抗効果素子と、前記磁化自由層に磁場を印加する磁場印加部とを有する混合器を複数備え、これら複数の混合器に対して、前記第1高周波信号と、前記複数の混合器毎にそれぞれ異なるローカル用の前記第2高周波信号とを入力したときに生成する複数の乗算信号を加算して出力することで、周波数変換装置とする。 (もっと読む)


【課題】小さいバンドギャップを持つ障壁膜を岩塩構造の(001)方向に高配向させて、低抵抗かつ高効率なスピン注入素子を提供する。
【解決手段】下地膜300、非磁性シード膜310、強磁性膜305、障壁膜307、強磁性膜308、保護膜309を積層してトンネル磁気抵抗効果素子1を形成する。非磁性シード膜310として、格子定数が強磁性膜305の格子定数の√2倍よりも小さい面心立方格子の物質を用いる。 (もっと読む)


【課題】チップ面積の縮小を図る。
【解決手段】磁気ランダムアクセスメモリは、メモリセル部の素子領域10a上に形成された第1の拡散層17aと、第1の拡散層に接続された第1のコンタクトCB1と、第1のコンタクト上に形成された第1の下部電極層21aと、第1の下部電極層上に形成された第1の抵抗変化層22a及び第1の上部電極層23aと、周辺回路部において互いに異なる素子領域に形成された第2乃至第4の拡散層17d、17eと、第2乃至第4の拡散層に接続された第2乃至第4のコンタクトCS1、CS2と、第1の下部電極層、第1の抵抗変化層、第1の上部電極層と同じ高さに形成された第2の下部電極層21b、第2の抵抗変化層22b、第2の上部電極層23bとを具備する。第2の下部電極層は、第2及び第3のコンタクトを接続する第1のローカル配線L1として機能する。 (もっと読む)


【課題】半導体中のスピン偏極キャリアの輸送距離を、より長くできるようにする。
【解決手段】半導体からなるチャネル層101と、スピン偏極キャリア生成部102と、表面弾性波発生部103と、スピン軌道相互作用調整部104とを備える。スピン偏極キャリア生成部102は、チャネル層101のキャリア生成箇所にスピン偏極キャリアを生成する。表面弾性波発生部103は、キャリア生成箇所を通過する表面弾性波131をチャネル層101の上に発生させる。スピン軌道相互作用調整部104は、チャネル層101内の伝導帯電子に働く異なる2つのスピン軌道相互作用の大きさを一致させる。 (もっと読む)


【課題】MgOを障壁層として磁化反転電流を低減したTMR素子構造を備える光変調素子を提供する。
【解決手段】光変調素子5は、磁化固定層11、MgOからなる障壁層12、磁化自由層13を積層してなるTMR素子構造1と、その上下に接続した上部電極3、下部電極2を備える。下部電極2は、組成がCu1-xCrx(0.07<x<0.42)である非晶質のCu−Cr合金からなり、磁化固定層11は非晶質の磁性体からなり、このような非晶質の層の上に、障壁層12としてMgO膜が形成されるため、MgO膜が強い(001)面配向を示して、TMR素子構造1の磁化反転電流を低減できる。 (もっと読む)


【課題】CCP−CPP素子のMR変化率を向上させる。
【解決手段】磁化が実質的に一方向に固着された磁化固着層と、前記磁化固着層と対向するようにして形成され、磁化が外部磁界に対して変化する磁化自由層と、前記磁化固着層と前記磁化自由層との間に位置し、絶縁層、及びこの絶縁層を層方向に電流を通過させる導電体とを有する電流狭窄層を含むスペーサ層と具える磁気抵抗効果素子において、前記磁化固着層の層中、前記磁化自由層の層中、前記磁化固着層及び前記スペーサ層の界面、並びに前記磁化自由層及び前記スペーサ層の界面の少なくとも一か所に、Si、Mg、B、Alを含む機能層を設ける。 (もっと読む)


【課題】高熱安定性を有する高速超低消費電力不揮発性メモリを提供する。
【解決手段】不揮発性磁気メモリに、高い熱安定性をもつ自由層を適用した高出力なトンネル磁気抵抗効果素子を装備し、スピントランスファートルクによる書込み方式を適用する。トンネル磁気抵抗効果素子1は、CoとFeとBを含有する体心立方構造の第一の強磁性膜306と第二の強磁性膜308と第一の非磁性膜307で構成される自由層を持ち、自由層に(100)配向した岩塩構造のMgO絶縁膜305を介して固定層3021を積層した構造を有する。 (もっと読む)


【課題】熱的に安定であると共に、磁気抵抗比の低下が抑制できるスピン注入書き込み方式の磁気抵抗素子を提供する。
【解決手段】固定層2は、非磁性層4に接するように設けられた第1磁性材料膜2aと、第1磁性材料膜2aに接するように設けられた非磁性材料膜2bと、非磁性材料膜2bに接するように設けられた第2磁性材料膜2cと、第2磁性材料膜2cに接するように設けられた第3磁性材料膜2dとが積層された構造を備える。第2磁性材料膜2cは第1磁性材料膜2aよりも高いCo濃度を有する。固定層2と記憶層3との間に非磁性層4を介して電流を流すことにより、記憶層3の磁化の向きを可変する。 (もっと読む)


【課題】記憶層にかかる参照層からの漏れ磁場をキャンセルするシフト調整層の膜厚を低減することできる磁気抵抗素子を提供する。
【解決手段】磁化の向きが一方向に固定された参照層3と、磁化の向きが可変である記憶層2と、参照層3と記憶層2との間に設けられた非磁性層4と、参照層3の、非磁性層4が配置された面と反対の面側に配置され、参照層3が有する磁化の向きと反平行な磁化の向きを有する上部シフト層6と、記憶層2の、非磁性層4が配置された面と反対の面側に配置され、参照層3が有する磁化の向きと反平行な磁化の向きを有する下部シフト層8と、参照層3と上部シフト層6との間に配置された非磁性層5と、記憶層2と下部シフト層8との間に配置された非磁性層7とを備える。下部シフト層8の膜厚は、上部シフト層6の膜厚より薄い。 (もっと読む)


【課題】微細化に伴って増大する固定層からの漏れ磁場を低減でき、記憶層における磁化の平行と反平行の2つの状態を安定に存在できるようにした磁気抵抗素子を提供する。
【解決手段】磁気抵抗素子1は、固定層2、記憶層3、及び非磁性層4を備える。固定層2は、非磁性層4に接する第1強磁性材料31、第2強磁性材料32、第1強磁性材料31と第2強磁性材料32との間に設けられた第1非磁性材料33を有する。第1強磁性材料31は、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、Wのうちの少なくとも1つの元素と、Coとを含む。 (もっと読む)


【課題】磁気抵抗素子の微細化に伴って増大する漏洩磁界をキャンセルする。
【解決手段】実施形態に係わる磁気抵抗素子は、垂直及び可変の磁化を持つ記憶層2と、垂直及び不変の磁化を持つ参照層4と、垂直、不変及び参照層3の磁化に対して逆向きの磁化を持つシフト調整層6と、記憶層2及び参照層4間の第1の非磁性層3と、参照層4及びシフト調整層6間の第2の非磁性層5とを備える。参照層4の反転磁界は、記憶層2の反転磁界と同じ又はそれよりも小さく、参照層4の磁気緩和定数は、記憶層2の磁気緩和定数よりも大きい。 (もっと読む)


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