説明

Fターム[5F103BB31]の内容

半導体装置を構成する物質の物理的析出 (6,900) | 析出装置 (1,132) | 基板取扱機構 (210)

Fターム[5F103BB31]の下位に属するFターム

Fターム[5F103BB31]に分類される特許

1 - 1 / 1


【課題】生産性に優れるとともに、優れた発光特性を備えた素子が得られる、III族窒化物半導体発光素子の製造方法、及びIII族窒化物半導体発光素子、並びにランプを提供する。
【解決手段】基板11上に、V族元素を含むガスと金属材料とをプラズマで活性化して反応させるスパッタ法により、III族窒化物化合物からなる中間層12を成膜し、該中間層12上に、III族窒化物半導体からなるn型半導体層14、発光層15、及びp型半導体層16を順次積層する方法であり、中間層12を成膜する際、基板11とスパッタターゲットとを対向して配置するとともに、前記プラズマに曝される位置に基板11を配してスパッタを行なう。 (もっと読む)


1 - 1 / 1