Fターム[5F136GA00]の内容
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Fターム[5F136GA00]に分類される特許
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放熱材料及びその製造方法
【課題】セラミックス基板、ダイヤモンド基板等の無機系材料の放熱材料は硬度が高く難加工性であり、グラファイトフィルム、カーボンナノチューブ等の炭素系材料は放熱性が低かった。
【解決手段】アルミニウム含浸グラファイト基板の表面に析出したアルミニウムを塩酸によるウェットエッチング法によって除去する(ステップ101)。次に、アルミニウム含浸グラファイト基板の表面にナノメートルのオーダの凹凸構造を加工する(ステップ102)。
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放熱板製造方法
【課題】ジグのコストを節減可能で、加工の利便性を向上させられ、金属粉末の均一敷設を達成し、放熱片の移動による金属粉末の移動を効果的に防止することができる放熱板製造方法を提供することである。
【解決手段】放熱板製造方法は、放熱片2を粉充填設備1の下ジグ11に設置し、粉充填設備1の上ジグ12と下ジグ11とを相互に緊密に結合させ、上ジグ12が延伸する間隔部品121を放熱片2に緊密に接合させ、金属粉末3を上ジグ12の入粉口122から、正圧方式により放熱片2上に充填し、放熱片2に震動を与え、金属粉末3を放熱片2上に均一に塗布し、上ジグ12を取り出し、放熱片2上に充填した金属粉末3に対して有機液体4を噴射し、金属粉末3は放熱片2上において定型化し、最後に放熱片2を下ジグ11から取り外し焼結を行うものである。
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シート状構造体の製造方法
【課題】炭素元素の線状構造体を用いた熱伝導度及び電気伝導度が極めて高いシート状構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板12上に炭素元素の線状構造体16を形成し、基板12上に形成した線状構造体16を熱収縮性を有する基板20上に転写し、線状構造体16を転写した基板20を加熱して収縮させ、収縮した基板20上に形成された線状構造体16間に線状構造体16を支持する充填層28を形成する。
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パワーモジュール用基板、パワーモジュール用基板の製造方法及びパワーモジュール
【課題】比較的面積の大きくても、セラミック基板の反り、割れの発生を抑制することが可能なパワーモジュール用基板、このパワーモジュール用基板の製造方法及び、このパワーモジュール用基板を用いたパワーモジュールを提供する。
【解決手段】セラミックス基板11と、このセラミックス基板11の一方の面上に配設され、銅または銅合金からなる回路層12と、を備え、セラミックス基板11が、Si3N4または強化Al2O3のいずれかで構成されており、回路層12の厚さtcが、0.8mm≦tc≦2.0mmの範囲内に設定されるとともに、セラミックス基板11の一方の面の面積の25%以上60%以下を占めるように構成されていることを特徴とする。
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パワーモジュール用基板、パワーモジュール用基板の製造方法及びパワーモジュール
【課題】比較的面積の大きくても、セラミック基板の反り、割れの発生を抑制することが可能なパワーモジュール用基板、このパワーモジュール用基板の製造方法及び、このパワーモジュール用基板を用いたパワーモジュールを提供する。
【解決手段】アルミニウム又はアルミニウム合金の板材からなる金属層13と、この金属層13の一方の面に配設されたセラミックス基板と、このセラミックス基板の上に配設され、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる回路層と、を備え、金属層13は、セラミックス基板よりも面積が大きく設定されており、金属層13には、前記一方の面側部分において、アルミニウムの母相中に第2相が分散した硬化層31と、アルミニウムの単一相からなる軟質層32と、が設けられていることを特徴とする。
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マイクロチャネルヒートシンクの低コスト製造
【課題】冷却装置を提供する。
【解決手段】本冷却装置10は、外側平坦表面18に接合された金属層22を有するセラミック基板16を含む。本冷却装置10はまた、セラミック基板16の反対側面に接合されたチャネル層24と該チャネル層24の外側表面28に接合されたマニフォルド層26とを含む。基板層16、22、24、26は、ろう付けのような高温処理法を用いて互いに接合されて単一の基板組立体14を形成する。プレナムハウジング30は、接着剤接合のような低温接合法により単一の基板組立体14に接合され、また延長マニフォルド層入口及び出口ポート32、34を形成するように構成される。
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絶縁層付きヒートシンクの製造方法
【課題】絶縁シートの外形加工が簡便で、外形加工した絶縁シート片とヒートシンクとの一体化が容易に行える、絶縁層付きヒートシンクの製造方法、ボイドの少ない絶縁層とすることにより熱伝導性に優れた絶縁層付きヒートシンクとし得る、絶縁層付きヒートシンクの製造方法を提供することを課題としている。
【解決手段】無機フィラーと熱硬化性樹脂とを含む絶縁組成物をシート状に成形して絶縁シートを形成し、該絶縁シートを外形加工して絶縁シート片を切り出し、該絶縁シート片をヒートシンクと一体化させて絶縁層を形成し、しかも、発熱素子が実装されたモジュールに対して前記絶縁層が接着されて用いられ得るように、未硬化の前記熱硬化性樹脂で前記絶縁層を形成する、絶縁層付きヒートシンクの製造方法であって、前記外形加工する前に前記絶縁シートを少なくとも1回熱プレスする熱プレス工程を実施する絶縁層付きヒートシンクの製造方法を提供する。
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電子機器用冷却装置
【課題】各種電子機器内のICチップ周辺などを局所的に冷却する冷却性能の優れた電子機器用冷却装置を提供する。
【解決手段】ICチップなどの発熱源50に直接又は間接的に接触させると共に、そのベース部21に多数の冷却フィン22を適宜間隔で平行に立設させてなるヒートシンク20を用いた電子機器用冷却装置10において、ヒートシンク20の多数の冷却フィン22の一方側に、多数の冷却フィン22、22間の間に冷風を送る冷却送風装置30を設置させると共に、ヒートシンク20の反対側の多数の冷却フィン22側から、多数の冷却フィン22、22間の間に、板状圧電素子への交流電圧の印加により平板状の弾性金属板43が振動する圧電ファン装置40を挿入させた電子機器用冷却装置10にあり、これらの配置構造により、各部品の冷却性能の相乗効果により、大きな冷却性能を得ることができる。
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グラファイト熱伝導片の加工方法。
【課題】 熱伝導効率を大幅に高め、折り曲げ箇所においてグラファイトの密度低下による熱伝導効率の低下が発生せず、挿入した放熱部材が安定するグラファイト熱伝導片の加工方法を提供する。
【解決手段】 一定の輪郭の外形を有するグラファイト熱伝導片の加工方法であって、
対応するオス型とメス型によってグラファイト熱伝導板材を挟み、押し圧して裁断し、
一定の輪郭の外形を有し、かつ第1の厚さを具えるグラファイト熱伝導片を形成するステップと、該オス型とメス型によって該グラファイト熱伝導片を継続して押し圧して、該第1の厚さから予め設定された第2の厚さにするとともに、該第2の厚さにした状態におけるグラファイトの密度を該第1の厚さの状態に比して高くするステップとを含む。
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ヒートシンクおよび半導体レーザ装置
【課題】ガルバニック腐食による水路内壁の構造劣化を防止し、信頼性の向上を図ることができるようにする。
【解決手段】水路3内を、接合部4の端部41のわずかな部分を除いて、各層21〜25を構成する薄板(母材)の表面が露出する構成とする。これにより、接合金属5を用いた接合を行っているにもかかわらず、接合金属5の露出は最小限に抑えられ、水路3内には実質的にほとんど異種金属が存在しない構造となる。これにより、ガルバニック腐食による信頼性への影響を少なくすることができる。
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プリント配線基板へのダイオードの実装構造
【課題】放熱性に優れ、コスト面でも有利なプリント配線基板へのダイオードの実装構造を提供する。
【解決手段】ダイオード1のリード線1a,1aをプリント配線基板2の貫通孔2a,2aに挿通して配線パターンに半田3a,3aで固定する実装構造において、ダイオード1が嵌め込まれる凹部4aを備えた放熱板4をプリント配線基板2のダイオード実装箇所に立設してダイオード1を凹部4aに嵌め込み、リード線1a,1aを放熱板4に半田3b,3bで密着固定した、プリント配線基板へのダイオードの実装構造とする。ダイオード1で発生した熱が、リード線1aと半田3bで形成される熱伝導経路を通って放熱板4にすみやかに伝導され、放熱板4の表面から効率良く放熱される。従って、ダイオードとして放熱性の良くない安価な所謂ストレート品を使用できるのでコスト面でも有利となる。
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電子部品用パッケージ
【目的】 金属板に形成されたキャビティ部底面に形成された回路に半導体素子等の部品を搭載する。金属基板の有する高い熱伝導性、電気特性を確保して、一括の積層を行った後にキャビティ加工を行う事から絶縁の信頼性および接続の信頼性に優れた電子部品用パッケージを低コストにて提供することを可能とする。
【構成】 厚い金属板(0.2mm〜4.0mm)を用い、この金属板にエッチング等を用いて絶縁間隔となる凹みを形成した後に、前記金属板の片面もしくは両面に電気的絶縁層を積層被着させ、その後絶縁層の表層に単層または複数層の回路を形成し、さらに必要箇所はレーザービア等を用いて前記金属板と接続させる。
しかる後に金属板の凹みを形成した逆面より、ザグリ等を用いて前記凹の底面より多く削り込み、前記金属板の一部厚さ部分を残してキャビティ部を形成し、この残された金属部分を回路として用いる事を特徴とする。
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熱伝播器
電子装置用の熱伝播器は、連続的で制御されないピット又は孔が無く、ダイヤモンド装填材料上に成長したCVDダイヤモンド層を有する。ダイヤモンド装填材料は、母材中のダイヤモンド粒子の塊を含み、露出したダイヤモンド粒子を備える表面を有し、その上にCVDダイヤモンドが成長する。CVDダイヤモンド層は少なくとも部分的にエピタクシによってダイヤモンド装填材料の露出したダイヤモンド粒子に結合する。 (もっと読む)
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