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Fターム[5F157AB41]の内容

半導体の洗浄、乾燥 (54,359) | 被洗浄物の取扱い (8,692) | 処理槽(室)の配置 (915)

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Fターム[5F157AB41]に分類される特許

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【課題】基板に対して、高温の処理液を用いた処理を良好に施すことができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】内側成部材20の案内部24の外側壁面37におけるSPM液の着液位置には、その外側壁面37に着液するSPM液を冷却するための第1冷却管38が配設されている。第1冷却管38は、回転軸線Cを中心軸線とする螺旋形状に形成されている。外構成部材30の内側壁面47におけるSPM液の着液位置には、その内側壁面47に着液するSPM液を冷却するための第2冷却管48が配設されている。第2冷却管48は、回転軸線Cを中心軸線とする螺旋形状に形成されている。
【効果】内構成部材20および外構成部材30の変形をそれぞれ防止することができる。 (もっと読む)


【課題】洗浄具の洗浄部材の有無を検知する洗浄部材検出センサを設けた基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】被洗浄基板Wfの洗浄面に接触する洗浄部材を有する洗浄具21を装着する洗浄具装着機構20を具備し、基板保持回転機構で保持され回転する被洗浄基板Wfに洗浄具21の洗浄部材を接触させて洗浄する基板洗浄装置において、洗浄具装着機構20に装着された洗浄具21が所定位置にある状態で、該洗浄具21の洗浄部材の有無を検出する洗浄部材センサ(投光器27a、受光器27b)を設けた。 (もっと読む)


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