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Fターム[5F157AB46]の内容

半導体の洗浄、乾燥 (54,359) | 被洗浄物の取扱い (8,692) | 処理槽(室)の配置 (915) | 複数の処理槽(室) (413) | 上下方向に配置 (74) | 直線的に配置 (41)

Fターム[5F157AB46]に分類される特許

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【課題】露光前に基板の裏面洗浄を行う機能を備えた基板処理システムにおいて、基板搬送の負荷を低減させる。
【解決手段】塗布現像処理システムのインターフェイスステーション5は、ウェハを露光装置に搬入する前に少なくともウェハの裏面を洗浄するウェハ洗浄部141と、洗浄後のウェハの裏面について、当該ウェハの露光が可能かどうかを露光装置に搬入前に検査するウェハ検査部142と、ウェハ洗浄部141とウェハ検査部142との間でウェハWを搬送する搬送手段143を有している。ウェハ洗浄部141、ウェハ検査部142及び搬送手段143は、筐体140の内部に設けられている。 (もっと読む)


【課題】処理液を廃棄することなくフィルタに蓄積される気泡を効率よく除去することが可能な処理液供給装置、基板処理装置、気泡の除去方法および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板の処理時には、フィルタ250により気泡が除去された処理液が配管L9,L11を通してノズル28に供給される。気泡の除去時には、バルブv5が開放されるとともにバルブv2が閉止されることにより、気体を含む処理液がフィルタ250から配管L8を通して気液分離トラップタンク230に戻される。気液分離トラップタンク230内の上部空間に一定量の気体が蓄積されることにより気液分離トラップタンク230内の処理液の液面が予め定められた所定の位置まで低下した場合に、バルブv5が閉止されるとともにバルブv2が開放される。 (もっと読む)


【課題】大口径の基板に対する裏面洗浄性の確保及び裏面洗浄性の向上を図ると共に、裏面洗浄液の省薬液化を図れるようにした基板裏面洗浄方法及びその装置を提供すること。
【解決手段】鉛直軸回りに回転するウエハの表面に処理液を供給(レジスト塗布)した後、ウエハ裏面に洗浄液を緩やかに拡散すべく第1の回転数で回転して洗浄液を供給する洗浄液吐出工程と、第1の回転数より高速の第2の回転数で回転してウエハ裏面の洗浄液を急速に拡散して振り切る洗浄液振り切り工程と、を交互に複数回繰り返し行う。 (もっと読む)


【課題】ウェハ表面に残った水の表面張力によりウェハが貼り付くことを防ぐウェハカセット搬送装置を得ること。
【解決手段】対向する一対の側面の内壁に設けられた複数のリブが形成する複数の保持溝の各々によって、複数のウェハ2を立てた状態で前後に並べて収容するウェハカセットを搬送するウェハカセット搬送装置10であって、ウェハカセット1を把持する把持装置6と、一対の側面と略同じ間隔で二列に配列され、複数の保持溝と同じピッチで配置された複数の歯を有するクシ5と、把持装置6及びクシ5を移動させる移送装置4と、を備え、移送装置4は、把持装置6がウェハカセット1を把持するのに先だって、複数の保持溝の各々において、ウェハ2とリブとの間に歯が挿入されるように把持装置6及びクシ5を移動させる。 (もっと読む)


【課題】超臨界工程を遂行する基板処理装置及びこれを利用する基板処理方法が提供される。
【解決手段】本発明による基板処理装置の一実施形態は、一面に基板が出入する開口が形成され、高圧工程が遂行される空間を提供するハウジングと、前記ハウジング内に設置され、前記基板を支持する支持部材と、前記開口を開閉するドアと、前記高圧工程の時、前記ハウジングが密閉されるように前記ドアへ力を加圧する加圧部材と、を含む。 (もっと読む)


【課題】基板の周縁部を良好に洗浄処理することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】 周縁部981に凝固対象液としてのDIWが付着した基板Wを略水平に保持しながら回転し、基板Wの周縁部981に、凝固手段35から凝固用気体である窒素ガスを供給して基板Wの周縁部981に付着するDIWを凝固し、凝固手段35から窒素ガスが供給されているとは離間した位置に、融解手段41から融解液であるDIWを供給してDIWの凝固体を融解する。これにより、基板Wを回転しながら連続して凝固対象液の凝固と融解を行うことが可能となり、処理に要する時間を短縮することができる。 (もっと読む)


【課題】その表面にレジスト膜からなるマスクが形成され、周縁部のレジスト膜の膜厚が中央領域よりも厚い基板にダメージを与えずに、当該基板の表面に形成されたレジスト膜を確実に除去できる技術を提供すること。
【解決手段】前記基板の表面全体にレジスト膜を酸化するための酸化性の処理流体を供給し、レジスト膜を除去する第1の工程と、前記基板の周縁部に当該基板の辺に沿ってアルカリ性の処理液をノズルから吐出して、基板の端部のレジストを除去する第2の工程と、を実施することにより、基板の端部におけるレジスト膜の残留を防ぎ、基板に与えるダメージを抑えることができる。 (もっと読む)


【課題】基板を清浄な状態で露光装置に搬入することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】裏面洗浄処理ユニットRSWにより裏面洗浄された基板Wがインターフェース用搬送機構IFR1のハンドH12により保持されて冷却ユニットCPに搬送される。冷却ユニットCPにより温度調整された基板Wがインターフェース用搬送機構IFR1のハンドH11により保持されて露光装置に搬送される。露光装置により露光処理された基板Wがインターフェース用搬送機構IFR1のハンドH13により保持されて露光装置から基板載置部PASS9に搬送される。 (もっと読む)


【課題】基板表面全体に均一性高く現像液の液膜を形成すると共に高いスループットが得られる塗布、現像装置を提供すること。
【解決手段】現像モジュールと、洗浄モジュールと、前記現像モジュールにより現像された基板を前記洗浄モジュールに搬送する搬送機構と、を備え、前記現像モジュールは、処理雰囲気を形成する気密な処理容器と、この処理容器内に設けられ、基板を載置し、冷却するための温調プレートと、前記処理容器内に現像液のミストを含む雰囲気ガスを供給する蒸気供給部と、前記温調プレートを、前記蒸気が基板上に結露する温度に調整するための温度調整部と、を備えるように塗布、現像装置を構成する。現像モジュールと洗浄モジュールとで並行して処理を行えるので、高いスループットが得られる。 (もっと読む)


【課題】微細なレジストパターンが形成された基板からリンス液を除去する際にパターン倒れを防止でき、また、疎水化剤の使用量を低減し、基板処理を行う際の処理コストを低減できる基板処理方法を提供する。
【解決手段】レジストパターンが形成された基板にリンス液を供給するリンス液供給工程S12と、レジストパターンを疎水化する第1の処理液の蒸気を含む雰囲気で、リンス液が供給された基板からリンス液を除去するリンス液除去工程S14〜S16とを有する。 (もっと読む)


【課題】スループットの向上を図り、不具合が発生した場合でも、装置全体の稼働率の低下を抑えることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】キャリアCに対してウエハの受け渡しを行う搬入出アームBを備えた基板搬入ブロックの後段側に、第1の処理ブロック31と第2の処理ブロック32と第3の処理ブロック33とを順に配置する。基板搬入ブロックに、前記搬入出アームBから第1の処理ブロック31にウエハを受け渡すための受け渡しステージ(21a 21b)と、第2の処理ブロックにウエハを受け渡すための受け渡しステージ22と、第3の処理ブロックにウエハを受け渡すための受け渡しステージ23と、を設け、受け渡しステージ22上のウエハを第1直接搬送機構A1により第2の処理ブロック32に直接搬送し、受け渡しステージ23上のウエハを第2直接搬送機構A2により第3の処理ブロック33に直接搬送する。 (もっと読む)


【課題】不具合が発生した場合でも、装置全体を停止することなく基板処理を継続できる可能性の高い基板処理装置を提供する。
【解決手段】
基板処理装置1は、基板Wを搬送するための第1、第2の基板搬送機構141a、141bと、当該基板搬送機構141a、141bの左右両側に各々設けられ、同一の処理が行われる処理ユニットの列U1〜U4と、を備えた第1、第2の処理ブロック14a、14bを備えている。処理ユニットの列U1、U3及び、他方側の処理ユニットの列U2、U4は各々共通化された処理流体の供給系3a、3bと接続されている。そしていずれかの基板搬送機構141a、141b、処理流体の供給系3a、3bに不具合が発生すると、健全な基板搬送機構141b、141a、処理流体の供給系3b、3aが受け持つ処理ユニットの列U1〜U4にて基板Wを処理する。 (もっと読む)


【課題】他の基板に優先して処理開始すべき基板と、通常のスケジュールで処理される基板とを並行して処理することが可能な基板処理装置等を提供する。
【解決手段】
処理ブロック14a(14b)は、基板搬送部141a、141bを用いて、基板搬入ブロック11から搬入された基板Wに対し、複数の処理ユニット2にて同種の処理を行い、制御部5は他の基板Wよりも処理を優先する優先基板WPが搬送される場合に、複数の処理ユニット2の一部または全部が割り振られた優先処理ユニット2Pのうち、次の基板Wの搬入が可能になった優先処理ユニット2Pに、他の基板Wに優先して優先基板WPを搬入して処理を行う。 (もっと読む)


【課題】液処理部等を含むあるエリアにおいて発生したミスト又はパーティクルが、搬送部又は他の処理部等を含む他のエリアに流出することを防止できる液処理システムを提供する。
【解決手段】薬液を用いて基板を液処理する液処理部COTと、基板を液処理部COTに搬入出する搬送部8と、液処理部COTと搬送部8との間を仕切るとともに、搬送部8が基板Wを液処理部COTに搬入出するための開口部51が設けられた仕切板50とを備え、仕切板50に、液処理部COTが設けられた空間27の雰囲気を排気する排気孔52が設けられたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 基板の表面をスピン洗浄するにあたり、基板上に残存する水滴を低減し、例えば露光後の加熱処理時における水滴あるいはウオータマークによる加熱むらを抑えること。
【解決手段】 洗浄液ノズル5の吐出口よりもウエハWの回転方向における下流側に洗浄液を拘束する液押さえ面部を設ける。具体的には洗浄液ノズル5の底面70は長方形状に成形され、底面70にはスキャン方向前方に向けて開いている概ねV字状の凹部71が形成されると共に凹部71の天井面72における根元側に吐出口73が形成される。洗浄液ノズル5からの洗浄液の供給位置を基板の中央部から周縁に向かって移動させると、洗浄液ノズルから吐出された洗浄液は、液押さえ面部により拘束されて液の塊ができるので、低回転でも遠心力が大きくなってその液の塊が外に向かう作用が大きくなる。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハに対してレジスト膜を形成し、露光後のウエハに対して現像を行う、塗布、現像装置において、例えばレジスト膜形成前のウエハに対して疎水化流体により疎水化処理を行うことによりウエハの裏面の周縁部が疎水化状態になる。このウエハの裏面を洗浄液とブラシとを用いて洗浄するとブラシが削れてウエハの裏面が汚染され、露光に不具合が生じる。そこでウエハの裏面を良好に行える手法を提供する。
【解決手段】露光前のウエハWを水平保持し、鉛直軸周りに回転させるスピンチャック10と、回転するウエハWの裏面51を、自転しながら洗浄する洗浄ブラシ30と、洗浄時にウエハWの裏面51に洗浄液Sを供給する洗浄液ノズル15と、を用い、少なくともウエハWの周縁部52を洗浄するときに、ウエハWの回転数80rpm以下となるように制御する。 (もっと読む)


【課題】複数の基板処理部が搬送路に沿って配列されている場合でも、基板搬送時間の増加を抑制または回避することができる基板処理装置および基板搬送方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置1は、複数の処理ユニット6と、シャトルSTと、メインロボットMRと、MR移動機構7と、シャトル移動機構とを含む。複数の処理ユニット6は、それぞれ基板Wを1枚ずつ処理するためのものであり、搬送路C1に沿って配列されている。また、シャトルSTは、基板Wを待機させておくためのものであり、搬送路C1に沿って移動可能に設けられている。また、メインロボットMRは、シャトルSTと各処理ユニット6との間で基板Wを搬送するためのものであり、搬送路C1に沿って移動可能に設けられている。シャトル移動機構は、搬送路C1に沿ってシャトルSTを移動させる。また、MR移動機構7は、搬送路C1に沿ってメインロボットMRを移動させる。 (もっと読む)


【課題】メンテナンスを行う場合であっても、処理効率の低下を抑制することができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】薬液供給源14には、第1循環配管CP1、第2循環配管CP2、第3循環配管CP3および第4循環配管CP4の両端が接続されている。第1循環配管CP1における第1処理部P1の流通方向の上流側の部分には、第1薬液バルブ21が介装されている。第1循環配管CP1における第1薬液バルブ21と第1処理部P1と間の部分には、第1純水配管22の先端が分岐接続されている。第1循環配管CP1における第1処理部P1の流通方向の下流側の部分には、第1廃液配管24が分岐接続されている。第1循環配管CP1における第1廃液配管24の廃液分岐部分DW1には、第1の3方弁25が介装されている。 (もっと読む)


【課題】基板のフォトリソグラフィー処理前に、基板の周縁部に付着した付着物を適切に除去する。
【解決手段】洗浄装置1は、ウェハWを保持して回転させるスピンチャック20を有している。洗浄装置1には、内部に常温より高い温度の純水を貯留する浸漬容器30が設けられている。浸漬容器30のウェハW側の側面には、ウェハWの周縁部Bを挿入するための側面開口部33が形成されている。浸漬容器30は、高温の純水でウェハWの周縁部Bを浸すことができる。洗浄装置1には、ウェハWの周縁部Bに常温より高い温度の洗浄液を所定の圧力で吹き付ける第1の洗浄液ノズル50と第2の洗浄液ノズル51が設けられている。これらノズル50、51から供給される洗浄液は、洗浄液供給部70で純水と不活性ガスが混合された洗浄液である。 (もっと読む)


【課題】 ベースに接着された基板に対し、十分な洗浄ができる基板洗浄装置、基板の製造方法、および歩留まりが向上され特性が優れた太陽電池素子を提供することを目的とする。
【解決手段】 スライスベースに接着されたブロックをスライスして複数の基板を形成するスライス工程、スライスベースに接着された基板を洗浄液の入った洗浄槽に浸漬して洗浄する洗浄工程、洗浄後に基板をスライスベースから剥離する剥離工程、を有する基板の製造方法において、スライスベースが側面となるように基板を洗浄槽に浸漬し、洗浄槽の下部に設けられた複数の開口を有するノズルから基板のスライスベースがある側面とは反対側の側面に対して洗浄液を槽内に噴出する。 (もっと読む)


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