説明

Fターム[5F157AC41]の内容

半導体の洗浄、乾燥 (54,359) | 洗浄、すすぎ、乾燥工程の態様 (3,638) | 多槽(室) (264)

Fターム[5F157AC41]の下位に属するFターム

Fターム[5F157AC41]に分類される特許

1 - 4 / 4


【課題】複数の液体を混合してなる混合液を用いる液処理装置における混合液の濃度について、大きなコストをかけることなく、よりワイドレンジな調整を実現すること。
【解決手段】液処理装置10は、主配管20と、主配管に接続された液供給機構40と、主配管から分岐する複数の分岐管25と、各分岐管に接続された複数の処理ユニット50と、を有する。液供給機構40は、主配管上に設けられた混合器43と、第1液源からの第1液を前記混合器へ供給する第1液供給管41bと、第2液源からの第2液を前記混合器へ供給する第2液供給管42bと、を有する。第2液供給管42bに流量調整バルブ42dが設けられると共に、主配管20を液供給機構40に対して他側から開閉し得る主開閉機構22が設けられている。前記混合比に基づいて流量調整バルブ42dと主開閉機構22とが制御される。 (もっと読む)


【課題】被洗浄物に欠陥が発生してもその成長を抑えることができるとともに、洗浄作業を行う際に洗浄装置の各種異常を目視で検知することができる半導体ウエハの洗浄方法及び洗浄装置を提供する。
【解決手段】半導体ウエハWを、洗浄液3が満たされた洗浄槽40に浸漬して洗浄ユニットで半導体ウエハW表面の洗浄を行う半導体ウエハWの洗浄方法において、少なくとも、半導体ウエハWの洗浄液3浸漬中及び洗浄槽40から引き上げた後の半導体ウエハW表面に洗浄液3が付着している間、半導体ウエハWに対して可視光のうち所定の短波長域の光のみを照射する。 (もっと読む)


【課題】搬送途中で被処理体の表面が酸化したり汚染されるのを防止すること。
【解決手段】本発明では、被処理体(ウエハ2)に対して所定の処理を行う第1の処理室(たとえば、第1の洗浄室12)と第2の処理室(たとえば、第2の洗浄室13)との間で被処理体(ウエハ2)を搬送する搬送装置(搬送手段15)において、被処理体(ウエハ2)の表面に液体(36)を供給する液体供給口(34)と、前記液体供給口(34)から供給された液体(36)によって被処理体(ウエハ2)の表面を被覆した状態に保持するために被処理体(ウエハ2)の周縁上方に配置した液体保持具(33)とを有し、液体(36)で被処理体(ウエハ2)の表面を被覆した状態で被処理体(ウエハ2)を搬送することにした。 (もっと読む)


【課題】基板表面の必要な範囲に均一なめっき処理を行うためのめっき前処理を確実に行うことができるようにする。
【解決手段】基板Wの表面に無電解めっきを施すに先だって、めっき前処理としての洗浄処理と触媒付与処理を行うにあたり、触媒付与処理によって基板W表面に触媒を付与する範囲より広範囲に洗浄処理を行う(触媒付与範囲S<洗浄範囲S)。触媒付与処理によって基板表面に触媒を付与する範囲は、例えば、基板W表面の均一にめっき処理を行う必要がある範囲と同じ範囲である。 (もっと読む)


1 - 4 / 4