Fターム[5F157BA00]の内容
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Fターム[5F157BA00]に分類される特許
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研磨方法、洗浄方法、研磨装置及び洗浄装置
【目的】基板への金属汚染を低減させる研磨装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の研磨装置500は、基板300を研磨する研磨パッド525が配置される研磨テーブル520と、研磨パッド525と相対的に移動可能に配置され、研磨パッド525の表面と相対的に摺動する、イオン交換樹脂とキレート樹脂とのうち少なくとも1つの樹脂を用いた樹脂部材554,556と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、基板への金属汚染を低減させることができる。
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汚染および表面分解を最小限に抑えるための層間絶縁膜の表面改質
【課題】汚染および表面分解を最小限に抑えるための層間絶縁膜の表面改質
【解決手段】半導体システムは、誘電体層(104)を提供することと、誘電体層(104)内に、誘電体層(104)の上部に露出される導体(108)を提供することと、露出された導体(108)をキャッピングすることと、誘電体層(104)の表面を改質することであって、導体(108)を低pH溶液に溶解させて誘電体層(104)から導体(108)イオンを洗浄すること、導体(108)イオン下方の誘電体層(104)を溶解させること、機械的に強化された洗浄を行うこと、または誘電体層(104)上に疎水性層(800)を化学吸着させることを含むことと、を含む。
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