Fターム[5F157BC01]の内容
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Fターム[5F157BC01]に分類される特許
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基板処理装置および基板処理方法
【課題】処理液による処理の際に電荷の移動による基板の損傷を防止するとともに、処理液と他の液体との混合による悪影響を防止する。
【解決手段】基板処理装置1では、除電液供給部6により、SPM液よりも比抵抗が大きい除電液が基板9上に供給され、基板9の上面91全体が除電液にてパドルされることにより、基板9が比較的緩やかに除電される。続いて、基板回転機構5により基板9が回転することにより、基板9上から除電液が除去された後、処理液供給部3により基板9上にSPM液が供給されてSPM処理が行われる。これにより、SPM処理の際に、基板9からSPM液へと大量の電荷が急激に移動することが防止され、基板9の損傷を防止することができる。また、除電液とSPM液との混合による悪影響(例えば、除電液中の水とSPM液中の硫酸との反応熱による基板9の損傷)を防止することができる。
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レジスト剥離用界面活性剤及びこれを用いた基板処理方法
【課題】 水蒸気と水の混相流体による基板処理において、広い面積のレジスト膜を剥離可能な添加剤の提供。
【解決手段】 連続相の水蒸気と分散相の水とを含む混相流体を噴射して基板上のレジストを剥離するために添加される界面活性剤であって、
前記界面活性剤が、一級アルキル部位と、ポリオキシエチレン部位とを有するノニオン系界面活性剤であることを特徴とする、レジスト剥離用界面活性剤。
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半導体デバイス用基板洗浄液及び洗浄方法
【課題】基板表面を腐食することなく微粒子付着による汚染、有機物汚染及び金属汚染を同時に除去することができ、しかも水リンス性も良好で、短時間で基板表面を高清浄化することができる半導体デバイス用基板洗浄液を提供する。
【解決手段】
半導体デバイス製造における化学的機械的研磨工程の後に行われる、半導体デバイス用基板の洗浄工程に用いられる洗浄液であって、以下の成分(A)〜(D)を含有してなる半導体デバイス用基板洗浄液。
(A)有機酸
(B)スルホン酸型アニオン性界面活性剤
(C)ポリビニルピロリドン及びポリエチレンオキシド−ポリプロピレンオキシドブロック共重合体から選ばれる少なくとも1種の高分子凝集剤
(D)水
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基板処理装置および基板処理方法
【課題】処理液消費量の低減を実現できるとともに、基板の広範囲に処理液を行き渡らせることができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】ノズル3の対向面23には吐出口26が形成されている。対向面23を、水平姿勢のウエハW表面に微小間隔Sを隔てて対向配置させる。ウエハWの回転開始後、ウエハW表面の対向領域A1と対向面23との間の空間にDIWを供給し、当該空間を液密状態とするとともにDIWの供給を停止して、当該空間にDIWの液溜まりDLを形成する。液溜まりDLの形成後、吐出口26からDIWが吐出される。ウエハWの表面にDIWの液膜が形成された後、吐出口26からDIWに代えて薬液が吐出される。ウエハWの表面を覆う液膜が、DIWから薬液へと置換される。
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基板処理装置および基板処理方法
【課題】基板上面の周縁部における処理幅を精密に制御することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】ウエハWはスピンチャックにより水平姿勢で保持されている。スピンチャックに保持されたウエハWの下面の中央部には、下ノズル6からの処理液が供給される。下下ノズル6は、ウエハWの下面から間隔G1を隔てて対向する上面52を有している。上面52には、処理液吐出口6aが形成されている。ウエハWを回転させつつ、処理液吐出口6aから処理液を吐出すると、その吐出された処理液によって、ウエハWの下面と下ノズル6の上面52との間の空間53が液密状態にされる。ウエハWの下面に接液する処理液は、ウエハWの回転による遠心力を受けて回転半径外方側へと広がり、ウエハWの周端面102から上面に回り込む。
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基板処理システム、基板処理装置、基板処理方法及び基板処理プログラムを記録した記録媒体
【課題】基板の洗浄時において基板の回路パターンの倒壊を防止すること。
【解決手段】本発明では、基板の回路パターンを形成した表面を洗浄液で洗浄した後に、洗浄後の基板の表面をリンス液でリンス処理し、その後、基板の回路パターンの間に形成される凹部に残留するリンス液を充填剤で置換して凹部を充填剤で充填固化した後に、基板の表面から充填剤を除去することにした。また、前記充填剤としてポリマーを用い、前記除去工程でプラズマ処理により充填剤としてのポリマーを除去することにした。また、前記充填剤としてフォトレジストを用い、前記除去工程で現像処理により充填剤としてのフォトレジストを除去することにした。
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基板の洗浄方法及び基板の洗浄装置
【課題】基板の表面に形成された半導体デバイス等へのダメージを抑制し、基板の表面から、異物を除去することができる、基板の洗浄方法及び基板の洗浄装置を提供する。
【解決手段】被処理基板上に、第1の洗浄液による第1の洗浄液層と、第1の洗浄液層上に形成され第1の洗浄液よりも比重の小さい第2の洗浄液による第2の洗浄液層とを形成し、第2の洗浄液層に超音波を印加して被処理基板を洗浄する。
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ヒドロキシルラジカル含有水供給装置
【課題】 生成したヒドロキシルラジカル含有水の濃度を高精度に測定することを可能とするヒドロキシルラジカル含有水供給装置を提供すること。
【解決手段】 ヒドロキシルラジカル含有水を生成して供給する生成手段と、生成手段により生成されたヒドロキシルラジカル含有水の140〜210nmの範囲内における1以上の波長での吸光特性を測定することにより、ヒドロキシルラジカル濃度を定量する定量手段とを備えたヒドロキシルラジカル含有水供給装置。
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基板の洗浄方法
【課題】たとえCMP後洗浄の場合等、残留物が基板に強固に付着して、既存の二流体ジェット洗浄を単に適用するだけでは十分な洗浄性能が得られない場合であっても、二流体ジェット洗浄をより有効に利用して、洗浄能力を高めた洗浄を行うことができるようにする。
【解決手段】基板に付着した汚染物を洗浄する基板の洗浄方法において、基板と基板上に付着している汚染物のゼータ電位の絶対値を増加させる処理を行い、しかる後、基板の表面に洗浄具を接触させて基板の表面を洗浄する接触洗浄と、ガスと液体を基板表面に向け同時に噴射して基板表面を洗浄する二流体ジェット洗浄とを行う。
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基板の帯電除去装置及び帯電除去方法
【課題】この発明は基板に帯電した電荷を確実に除去することができるようにした帯電除去装置を提供することにある。
【解決手段】基板に帯電した電荷を除去する帯電除去装置であって、
基板が供給される処理槽1と、基板の被処理面の電位レベルを検出する表面電位計31と、表面電位計が検出する基板の被処理面の電位レベルに応じて所定の電子配置の気体を選択する制御装置20と、液体及び制御装置によって選択された気体が供給されこれら液体と気体によって微細気泡を含む処理液を生成して上記基板の被処理面に供給するナノバブル発生器11を具備する。
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金属の分析方法および半導体ウェーハの製造方法
【課題】溶液中の金属を高感度に分析する手段の提供。
【解決手段】溶液中の金属濃度を分析する方法。分析対象の金属と錯体を形成し得るキレート剤を含む溶液(分析対象の金属が含まれている場合、前記キレート剤の少なくとも一部は前記金属と錯体を形成する)を、前記錯体を捕獲し得る充填剤を含むカラムに通液する工程、前記カラムに金属分離用溶液を通液する工程、および、前記カラムを通過した金属分離用溶液中の分析対象の金属濃度を測定する工程を含む。または、分析対象の金属と錯体を形成し得るキレート剤および前記錯体を捕獲し得る充填剤を含むカラムに溶液を通液する工程、前記カラムに金属分離用溶液を通液する工程、および、前記カラムを通過した金属分離用溶液中の分析対象の金属濃度を測定する工程を含む。
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パターン形成方法及び洗浄装置
【課題】基板表面を好適に洗浄可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板上にレジスト膜を形成し、洗浄の際に洗浄液と前記基板との界面に作用するせん断応力が、液浸露光の際に液浸液と前記基板との界面に作用するせん断応力よりも大きくなるような制御の下、前記基板の表面を洗浄し、前記レジスト膜を前記液浸露光により露光して、前記レジスト膜に潜像を形成し、前記レジスト膜を現像して、前記基板上にレジスト膜パターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。
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基板処理装置および基板処理方法
【課題】省スペースで、しかも処理液により基板の被処理面を均一に処理するとともに、乾燥不良の発生を防止しながら基板を良好に乾燥させることができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】保持ローラ11により直立姿勢に立てた状態で保持された基板Wの表裏面Wf,Wbにそれぞれ、対向部材12A,12Bが近接しながら離間配置される。間隙空間S11,S12に処理液(薬液およびリンス液)が液密に満たされた状態に供給され、基板Wの表裏面Wf,Wbが処理液により均一に処理される。また、基板Wを乾燥させる際に、処理液が自然落下する状態に基板Wが直立姿勢で保持されているので、乾燥ガスの吐出により処理液(リンス液)を押し出すとともに該処理液に作用する重力を利用して基板Wの表裏面Wf,Wbからリンス液が除去される。このため、乾燥不良の発生を防止しながら基板を良好に乾燥させることができる。
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超音波洗浄装置
【課題】高い周波数の超音波を用いて大型の被洗浄物を効率よく洗浄できる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄槽12を三分割し、各ブロック12L、12C、12Rの間にシート状に形成された隔壁16L、16Rを挟んで一体化することにより、洗浄槽12の内部に隔壁16L、16Rで仕切られた超音波伝播液貯留空間20L、20Rと洗浄液貯留空間18を形成する。これにより、隔壁16L、16Rを薄くしても、十分に強度を確保できるようになり、洗浄槽の大型化に対応することができるようになる。
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基板処理装置
【課題】パーティクル除去性能を少なくとも低下させることなく、かつ、基板のダメージを低減できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】制御部47は、処理槽1の基板処理環境を大気圧よりも高い加圧環境とするように圧力調整ユニット45を制御し、かつ、純水供給源19から処理槽1内へ供給される純水に気体を溶存させるように気体溶存ユニット25を制御するとともに、処理槽1内に貯留された処理液に超音波振動を付与するように超音波発生部51を制御しているので、処理槽1の基板処理環境が大気圧よりも高い加圧環境とすることができ、大気圧下での気体溶存量よりも多くの気体を純水に溶存させることができ、キャビテーションを和らげるクッションとして作用する溶存気体を増加させることができ、ダメージを低減できるだけでなく、気体溶存量の増加によってパーティクルの除去性能も上がる。
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液処理装置
【課題】フットプリントを小さくすることができ、排気と排液との分離機構を特別に設ける必要のない液処理装置を提供すること。
【解決手段】ウエハWを水平に保持し、ウエハWとともに回転可能なウエハ保持部1と、ウエハ保持部1に保持されたウエハWを囲繞し、ウエハWとともに回転可能な回転カップ3と、回転カップ3およびウエハ保持部1を一体的に回転させるモータ2と、ウエハWの表面に処理液を供給する表面処理液供給ノズル4と、回転カップ3の排気および排液を行う排気・排液部6とを具備し、排気・排液部6は、主にウエハWから振り切られた処理液を取り入れて排液する環状をなす排液カップ41と、排液カップ41の外側を囲繞するように設けられ、回転カップ3およびその周囲からの主に気体成分を取り入れて排気する排気カップ42とを有し、排液カップ41からの排液と排気カップ42からの排気が独立して行われる。
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マイクロエレクトロニクスの基板用の洗浄組成物
マイクロエレクトロニクスの基板を洗浄するための剥離および洗浄組成物であって、少なくとも1種の有機剥離溶媒、少なくとも1種の求核性アミン、剥離組成物が約9.6ないし約10.9の水中pHを有するように、求核性アミンの重量の約3%ないし約75%を中和するのに十分な量の少なくとも1種の窒素不含弱酸であって、水性溶液中のpK値2.0またはそれ以上および140より小さい当量を有する弱酸、ジエチレングリコールおよびジエチレングリコールアミンからなる群から選択される少なくとも1種の金属除去化合物、および水を含む組成物、並びにこれらの組成物を用いてマイクロエレクトロニクスの基板を洗浄する方法。 (もっと読む)
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