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Fターム[5F157BF00]の内容

半導体の洗浄、乾燥 (54,359) | 洗浄液成分による洗浄(有機) (1,513)

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Fターム[5F157BF00]に分類される特許

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【課題】レジスト被膜の除去性を低下させないで、長期間に渡る剥離液の繰返し再使用が可能であるばかりか、導電性高分子の表面抵抗や導電性高分子と基材との密着性も悪化さず、さらに、経済性や安全性にも優れており、廃棄物が少なくできるため環境にも悪影響を及ぼさない導電性高分子膜上のレジスト被膜の除去方法を提供。
【解決手段】レジスト被膜を除去後の剥離液を、細孔径2〜5nmであって、分画分子量が1000〜4000のセラミックフィルターを用いて膜濾過することにより、レジスト被膜を該剥離液から取り除き、導電性高分子膜上のレジスト被膜の除去に再使用する。 (もっと読む)


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