移動可能な対象物洗浄装置となれる少なくとも一つの対象物洗浄装置を使用して、半導体ウェーハのような対象物を研磨するための装置及び方法である。該移動可能な洗浄装置は、保持管理のために該装置の他の部品に接近が許容される。 （もっと読む）

【解決手段】多孔質低誘電率材料に又はこれを貫通してエッチングされた構造の底又は側壁に露出した孔を密封するのに、ミセル溶液を使用する。ミセル溶液は、エッチングされた構造からエッチング残渣を洗い流すのにも効果を発揮する。 （もっと読む）

本発明は、エッチング残渣を除去するための改善された特性を有する新規溶液及び半導体製造におけるその使用に関する。本発明は、特に、半導体の製造プロセスの間にエッチング残渣及びパーティクルを除去しなければならないメタライジング部に対して及び表面に対して低いエッチング速度を有する水溶液に関する。 （もっと読む）