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Fターム[5F157CD36]の内容

半導体の洗浄、乾燥 (54,359) | 検知制御 (665) | 検知情報 (664) | 洗浄液、洗浄剤 (245) | 濁度、汚染度 (24)

Fターム[5F157CD36]に分類される特許

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【課題】過硫酸を含む硫酸溶液を洗浄液として、循環利用して電子材料を洗浄する際に、洗浄排液の廃棄と循環とを効果的に選り分けることを可能にする。
【解決手段】過硫酸を含む硫酸溶液を洗浄液として電子材料に供給することにより該電子材料に前記洗浄液を接触させて該電子材料を枚葉式で洗浄し、洗浄排液を系内に循環させ過硫酸を再生して前記洗浄液として再利用する洗浄方法において、前記電子材料ごとの洗浄開始から洗浄終了までの間に、前記洗浄開始から、第1のタイミングまでは、前記洗浄排液を系内に循環させ、前記第1のタイミング後、第2のタイミングまでは、前記洗浄排液を系外に廃棄し、前記第2タイミング後、洗浄終了まで、前記洗浄排液を系内に循環させることで、レジスト濃度の高い時間帯の洗浄排液は系外に廃棄し、それ以外の時間帯の洗浄排液は系内に循環し再利用することが可能になり、効果的な選り分けが可能になる。 (もっと読む)


【課題】酸化性物質を含む硫酸溶液に水溶液を混合して電子材料を洗浄する際に、水溶液使用量、廃液処理量、硫酸濃度の低下を招く課題を解決する。
【解決手段】過硫酸物質を含む硫酸濃度70質量%以上の硫酸溶液を洗浄液として電子材料に供給することにより前記洗浄液を前記電子材料に接触させて前記電子材料を洗浄する枚葉式の電子材料洗浄方法において、前記洗浄液に水溶液を混合させて、混合直後に該洗浄液を前記電子材料に接触させる第1洗浄工程と、該第1洗浄工程の後に、前記洗浄液に前記水溶液を混合させることなく前記洗浄液を前記電子材料に接触させる第2洗浄工程とを含むことで、洗浄効果を良好に維持したままで、水溶液使用量、廃液使用量、硫酸濃度の低下を抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】水分濃度が低い有機溶媒を処理部又は被処理体に供給して処理を行うことにより、被処理体や処理部の腐食を抑えること。
【解決手段】イソプロピルアルコール(IPA)の供給源30からIPAを貯留タンク3に供給し、貯留タンク3内のIPAを、水分除去フィルタ4及び濃度測定部5を備えた循環路32を介して循環供給する。IPAは、循環路32内を循環させることにより、水分除去フィルタ4により徐々に水分が除去される。そして、濃度測定部5により測定された水分濃度が0.01重量%以下であるときには、中間タンク6にIPAを送液する。中間タンク6からは、処理チャンバ11に水分濃度が0.01重量%以下のIPAが供給され、処理チャンバ11では、当該IPAを高温、高圧状態として、ウエハWの処理が行われる。 (もっと読む)


【課題】液浸液中の洗浄液の濃度を確実に規定値以下とすることが可能な液浸露光装置を提供する。
【解決手段】投影光学系14下端部の鉛直下方に配設可能で、露光対象膜を有する半導体基板を載置し、退避可能な基板ステージ17、投影光学14系下端部と露光対象膜との間に液浸液を満たすように供給する液浸液供給部32及び液浸液を排出する液浸液排出部36と液浸液排出管37、基板ステージ17を置き換えて、投影光学系14下端部の鉛直下方に配設可能で、供給口から排出口へ流れる洗浄液25または液浸液を保持し、退避可能な洗浄ステージ15、洗浄ステージ15中に、液浸液と接した接触領域を含むように洗浄液25を供給する洗浄液供給部21及び洗浄液を排出する洗浄液排出管28、並びに、液浸液排出管37に配設され、液浸液中の洗浄液25の濃度を測定する濃度測定器30を備える。 (もっと読む)


【課題】再生済の剥離液が所望の剥離性能を有し、かつ再生済の剥離液で基板表面から有機樹脂成分を剥離する際に、基板及び基板上の膜に対しダメージが与えられたり残渣が残ることを抑制可能な剥離液の再生方法を提供する。
【解決手段】
水溶性カルボニル化合物を含む剥離液を用いて基板表面の有機樹脂成分を溶解剥離した後、該剥離液に溶解している有機樹脂成分をオゾンガスにより分解し、さらにイオン交換樹脂で処理する剥離液の再生方法であって、
前記剥離液が水を含み、
前記イオン交換樹脂による処理が、イオン交換樹脂を使用して前記有機樹脂成分を分解することによって生じた生成物を除去する処理であることを特徴とする剥離液の再生方法。 (もっと読む)


【課題】薬液が所要の洗浄能力を維持していない状態になった場合に、これを即時に認識して不具合発生を防止することができるとともに、薬液交換のタイミングの最適化を図ることができる洗浄処理装置および洗浄処理方法を提供する。
【解決手段】薬液洗浄槽6内の薬液の劣化度合いを示すパラメータを計測する計測器21〜23を備える。判定部243は、薬液の劣化度合いを示すパラメータの計測結果が予め設定された許容範囲内であるか否かに基づいて薬液交換の要否を判定する。判定の結果が薬液交換要である場合、判定部243は薬液交換を実施する。また、薬液の劣化度合いを示すパラメータの計測結果が予め設定された許容範囲外であり、かつ先の薬液交換の実行時点からの経過時間が予め設定された規定時間未満である場合には、判定部243は、薬液交換をすることなく報知部28に異常発生の報知を指示する。 (もっと読む)


【課題】半導体基板を超音波洗浄したときに微細なパターンやホール等がダメージを受けることを極力防止する。
【解決手段】半導体基板1を薬液を用いて洗浄する構成において、薬液に含まれる水分の濃度を検出する水分濃度検出装置5を備え、薬液または半導体基板1に超音波を印加して超音波洗浄を実行する超音波振動子9を備え、水分濃度検出装置5により検出された水分濃度に基づいて超音波振動子9をオンオフする制御装置6を備えた。 (もっと読む)


【課題】純水との懸濁液を生成後に処理することにより、吸着フィルタの破過寿命を向上できる溶剤再生装置及びその方法を提供する。
【解決手段】回収タンク5内の回収溶剤に純水を供給した後に回収溶剤と純水との懸濁液を生成する。回収溶剤と純水との懸濁化により、溶剤よりも純水に溶けやすい酸や有機成分などが溶剤から引き出されて溶剤から分離する。回収溶剤と純水との懸濁液を所定時間の間、放置し沈静化させると、比重に応じて酸や有機成分などと溶剤成分とが分離するので、溶剤成分だけを一次調整溶剤として油水分離フィルタ7に通し、残っている純水等を除去して、二次調整溶剤としてバッファタンク9に貯留する。二次調整溶剤を吸着フィルタ11に通して貯留タンク13に溶剤成分を貯留するが、吸着フィルタ11にダメージを与える成分が除去されており、吸着フィルタ11の破過寿命が短くなるのを防止できる。 (もっと読む)


【課題】乾燥溶剤の再生手順を工夫することにより、スループットを向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】制御部51は、第1の貯留タンク11と第2の貯留タンク13の一方だけから処理槽5に乾燥溶剤を供給して、処理槽5にて基板Wを乾燥処理させる。そして、乾燥溶剤を供給した第1の貯留タンク15の乾燥溶剤が寿命に達した場合には、基板Wの処理が終了した後、第1の貯留タンク15とは異なる第2の貯留タンク13だけから処理槽5に乾燥溶剤を供給して、処理槽5にて次の基板Wを処理させる。これとともに、制御部51は、第1の貯留タンク11から溶剤再生装置3に乾燥溶剤を供給して再生処理を行わせるので、再生処理に伴って基板処理装置の乾燥処理装置1における処理を中断する必要がなく、基板処理装置のスループットを向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】より適切にフィルタを交換することが可能な薬液のフィルタリング方法を提供する。
【解決手段】第1のタンクに貯留された第1の薬液をフィルタによりフィルタリングし、このフィルタリングにより得られた第2の薬液を第2のタンクに貯留する、薬液のフィルタリング方法であって、第1回目から第n回目までに第1のタンクに各々貯留された各々の第1の薬液に対応する捕獲量を積算することにより、積算捕獲量を取得する工程と、積算捕獲量と予め規定されたフィルタの限界捕獲量とを比較し、この比較結果に基づいて、フィルタを交換する工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】洗浄部材の摩耗・汚染の状態をモニターすることで、その交換時期を判断して、常に洗浄部材を清浄で摩耗していない状態に保つ基板洗浄装置の洗浄部材交換時期判定方法及び基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄部材と基板の少なくとも一方を回転させた状態でこれらを当接させて洗浄部材と基板の相対運動により基板をスクラブ洗浄する際に、回転測定手段により洗浄部材の回転状態又は基板の回転状態を測定し、回転状態の変化から洗浄部材の表面状態を検知し、検知した表面状態の変化から洗浄部材の交換時期を判定する。 (もっと読む)


【課題】溶液中の金属を高感度に分析する手段の提供。
【解決手段】溶液中の金属濃度を分析する方法。分析対象の金属と錯体を形成し得るキレート剤を含む溶液(分析対象の金属が含まれている場合、前記キレート剤の少なくとも一部は前記金属と錯体を形成する)を、前記錯体を捕獲し得る充填剤を含むカラムに通液する工程、前記カラムに金属分離用溶液を通液する工程、および、前記カラムを通過した金属分離用溶液中の分析対象の金属濃度を測定する工程を含む。または、分析対象の金属と錯体を形成し得るキレート剤および前記錯体を捕獲し得る充填剤を含むカラムに溶液を通液する工程、前記カラムに金属分離用溶液を通液する工程、および、前記カラムを通過した金属分離用溶液中の分析対象の金属濃度を測定する工程を含む。 (もっと読む)


【課題】使用済みの薬液について、再生に有用な薬液と洗浄液が混入して再生に適さない薬液とを、効率よく、かつ簡易な装置構成により分別して回収することができる薬液回収装置及び薬液回収方法を提供する。
【解決手段】薬液が流入する薬液流入口と、薬液流入口から流入した薬液の所定量を貯留することができる薬液貯留部と、薬液貯留部の所定量を超えた薬液を排出する薬液排出口と、を有する薬液受け部材1と、薬液貯留部に貯留した回収薬液を吸引する薬液回収ポンプ23と、薬液回収ポンプで吸引した回収薬液を収容する回収タンク24と、薬液排出口から排出される廃棄薬液を収容する廃棄タンク25と、を有する薬液回収装置21。 (もっと読む)


【課題】膜厚を考慮して部分液交換を行うことにより、処理レートを一定の範囲に保持することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】制御部25は、カウンタ37で計数された基板Wの枚数のうち、厚膜のものに相当する基板Wの枚数が通常ライフカウントに達したことに基づき、部分液交換を実施しながら基板Wを処理させる。つまり、燐酸溶液の劣化度合いが大きな厚膜のものに相当する基板Wの処理枚数を基準にして部分液交換を実施するので、燐酸溶液のエッチングレートを一定の範囲に保持することができる。 (もっと読む)


【課題】複数枚の基板を基板保持手段により保持し処理槽内の処理液中に浸漬させて処理する装置において、基板表面からパーティクルや残留薬液を除去して効率良く処理槽外へ排出することができ、処理時間の短縮と処理液の使用量の低減を図ることができる装置を提供する。
【解決手段】処理液を貯留する処理槽10と、鉛直姿勢で水平方向に配列された複数の基板Wの最下端部および両側の各下端部をそれぞれ保持する第1保持部34および第2保持部36a、第3保持部36bを有し処理槽10の内方位置と上方位置との間で上下方向へ移動する基板保持具12と、処理槽10の底部近傍に設けられた吐出口から処理液を吐出する一対の吐出管18と、基板保持具12を処理槽10内において、第2保持部36a、第3保持部36bが吐出管18の吐出口からの処理液に当たる位置と当たらない位置とに移動させる移動制御手段とを備えて装置を構成した。 (もっと読む)


【課題】複数枚の基板を基板保持手段により保持し処理槽内の処理液中に浸漬させて処理する装置において、基板表面からパーティクルや残留薬液を除去して効率良く処理槽外へ排出することができ、処理時間の短縮と処理液の使用量の低減を図ることができる装置を提供する。
【解決手段】処理液を貯留する処理槽10と、鉛直姿勢で水平方向に配列された複数の基板Wを保持し処理槽10の内方位置と上方位置との間で上下方向へ移動する基板保持具12と、処理槽10の底部近傍に設けられた吐出口から処理液を吐出する一対の吐出管18と、各吐出管18に対向するように吐出管18の長手方向に沿って基板保持具12に固着され吐出管18の吐出口から吐出される処理液の流れを遮る一対の邪魔板部材38a、38bと、基板保持具12を処理槽10内において、邪魔板部材38a、38bが吐出管18の吐出口からの処理液に当たる位置と当たらない位置とに移動させる移動制御手段とを備えて装置を構成した。 (もっと読む)


【課題】基板に対する処理の開始が通常のタイミングよりも遅れた場合に、その処理の開始までに生じた不具合を解消することができる、基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置では、プロセスレシピに従ったプロセスレシピ制御が25回繰り返し実行されることにより、25枚のウエハに対する処理が行われる。25回のプロセスレシピ制御中に、タイマにより、ウエハへの薬液の供給の停止から次回のプロセスレシピ制御の開始までの時間が計測される。そして、タイマによる計測時間が予め定める基準時間以上であれば、プロセスレシピ制御に割り込んで、プリレシピに従った制御が実行され、プリディスペンス動作が行われる。プリディスペンス動作により、ノズルなどに溜まった薬液が廃棄されるので、プロセスレシピ制御の再開後に、劣化した薬液がウエハに供給されることを防止できる。 (もっと読む)


ウエハのような半導体基材の表面を洗浄、調整する装置である。回転可能なチャックやチャンバー、1つ以上のドレン排出口を有して洗浄液を集める回転可能なトレイ、多数の洗浄液を集める多数の受容器、チャックを駆動する第1のモータ、トレイを駆動する第2のモータを含む。トレイのドレン排出口は、その下方に配置された所定の受容器の直上に位置させることができる。トレイに集められた洗浄液は、所定の受容器に導くことができる。最小限の相互汚染での確実で正確に制御された洗浄溶液の再利用がこの装置の1つの特徴である。
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【課題】環境汚染を引き起こすことなく、しかも細部まで確実に洗浄し得る洗浄装置および洗浄方法を提供する。
【解決手段】液体と窒素とを混合およびせん断して窒素マイクロバブル含有水を作製する第1気体せん断部21と、窒素マイクロバブル含有水を更にせん断して窒素ナノバブル含有水を作製する第2気体せん断部22と、窒素ナノバブル含有水に対して磁場をかける第1活性化手段28と、磁場がかけられた後の窒素ナノバブル含有水を更にせん断する第3気体せん断部4と、第3気体せん断部によって更にせん断された窒素ナノバブル含有水が吐出される槽1と、を有する洗浄装置によって洗浄対象3を洗浄する。 (もっと読む)


【課題】処理液感知器を有するバルブ、これを利用する基板処理装置及び基板処理方法が提供される。
【解決手段】前記バルブは、本体、入口、出口、シャッタ及び感知器を含む。前記本体の内部には、基板の処理液が移動する通路が備えられる。前記入口は前記通路の一端部に連結され、前記本体の内部に前記処理液が流入する。前記出口は前記通路の他の端部に連結され、前記本体の外部に前記処理液が流出する。前記シャッタは、前記入口と前記通路を連結する領域で、前記通路を開放または遮断する。前記感知器は、前記通路を移動する前記処理液に接触するように前記本体に結合され、前記処理液の成分を感知する。 (もっと読む)


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