説明

Fターム[5F157CE01]の内容

半導体の洗浄、乾燥 (54,359) | 検知制御 (3,601) | 制御対象 (3,445)

Fターム[5F157CE01]の下位に属するFターム

Fターム[5F157CE01]に分類される特許

1 - 5 / 5


【課題】
超音波洗浄において、被洗浄物表面の局所部分において生じるダメージを抑制し、かつ安定した洗浄性能を得るようにする。
【解決手段】
洗浄液を収容した処理槽の内部で被洗浄物を洗浄液に浸漬して保持し、超音波振動発信器によりある範囲で周波数を変化させて発生させた高周波電力を超音波振動発生部に印加して超音波振動を発生させ、この発生させた超音波振動を処理槽の内部の被洗浄物が浸漬されている洗浄液に伝播させ被洗浄物を超音波洗浄する超音波洗浄方法において、超音波振動発信器から超音波振動発生部に印加するある範囲で周波数を変化させて発生させた高周波電力のうち被洗浄物の共振周波数帯に相当する周波数帯の高周波電力を他の周波数帯の高周波電力に対して変化させて超音波振動発生部に印加するようにした。 (もっと読む)


処理チャンバの中で基板のはす縁をエッチングするための方法を提供する。該方法は、基板の中心領域より上側で画定される処理チャンバの中心領域に、不活性ガスを流し込むステップと、基板のエッジ領域の上に不活性ガスおよび処理ガスの混合物をエッジ領域流すステップとを含む。該方法は、エッジ領域でプラズマを発生させるステップをさらに含み、不活性ガス流および混合物流は、処理ガスの質量分率を実質的に一定に維持する。基板のはす縁を洗浄するように構成される処理チャンバも提供する。
(もっと読む)


【課題】処理カップの開口部に薬液を良好に進入させることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】第1薬液の供給中において、CPU61は、回転数センサ16から出力された検出値を監視している(ステップS7)。そして、回転センサ16から出力された検出値が回転数範囲外となると(ステップS7でNO)、CPU61は、第1薬液表面側バルブ23を閉じるとともに、その後の開成を禁止し(ステップS9)、その第1薬液表面側バルブ23の開成が禁止された旨の警報を出力した後(ステップS10)、このインターロック処理を終了する。 (もっと読む)


【課題】プラズマ処理を効率よく行うことができるプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】プラズマ処理装置1は、印加電極2と、ワーク100を載置するとともに印加電極2の対向電極としての機能を併有するパレット(第1の電極)4と、プラズマ処理用のガスを供給するガス供給手段11と、印加電極2とパレット4との間に電圧を印加する第1の回路(電源部)8を備え、パレット4を載置するテーブル6の下面63には、振動子9が配設され、振動子9の振動数を調整する周波数調整手段74と、周波数調整手段74の作動を制御する制御手段70とを有しており、この振動子9によりパレット4とワーク100とを一体的に振動させながらワーク100の被処理面110を処理するに際し、制御手段70により、周波数調整手段74が作動するよう構成されている。 (もっと読む)


【課題】流体混合ノズルを用いて疎水性ウェハの処理を行うことができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】処理液を供給する処理液供給手段66と,不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段67と,前記処理液に前記不活性ガスを混合し、不活性ガスによって圧力を加えられた処理液を基板に吐出する二流体混合ノズル65を備え,前記処理液によって基板を処理する基板処理装置であって,前記処理液供給手段66に,前記処理液の表面張力を低下させる流体と前記処理液とを混合する流体混合手段12を備えた。 (もっと読む)


1 - 5 / 5