Fターム[5F157CF00]の内容
半導体の洗浄、乾燥 (54,359) | 構成要素細部 (6,182)
Fターム[5F157CF00]の下位に属するFターム
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Fターム[5F157CF00]に分類される特許
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基板処理装置および基板処理方法
【課題】処理液から引き上げられる複数の基板の全面を短時間で効率的に乾燥させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板保持具330は、基板Wの外周端部を保持する3本の保持アームx1,x2,x3を有する。中央に位置する保持アームx2は、外側に位置する保持アームx1,x3よりも少し低い高さに配置される。中央の保持アームx2は、棒状保持枠422、帯状保持片421,423、ボルトおよびナットからなる。棒状保持枠422の一方側には帯状保持片421が取り付けられ、棒状保持枠422の他方側には帯状保持片423が取り付けられる。この保持アームx2においては、一方側の帯状保持片421が棒状保持枠422の下端部から下方に突出せず、他方側の帯状保持片423が棒状保持枠422の下端部から下方に所定の高さD突出する。基板Wの乾燥処理時には、一方側から他方側にドライエアが供給される。
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