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Fターム[5F157CF06]の内容

半導体の洗浄、乾燥 (54,359) | 構成要素細部 (6,182) | 超音波振動 (179)

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【課題】液体が付着した板状物を短時間で乾燥することができる乾燥装置を提供する。
【解決手段】板状物に付着した液体を除去して乾燥するための乾燥装置であって、板状物を保持する保持面を有する保持テーブルと、保持テーブルに超音波振動を付与する超音波振動付与手段とを具備し、超音波振動付与手段を作動して保持テーブルに超音波振動を付与し、保持テーブルに保持された板状物に超音波振動を付与することにより、板状物に付着した液体を微粒子にして飛散せしめる。 (もっと読む)


【課題】被処理物に形成された凸パターンに対する超音波洗浄時のダメージを抑え、かつ凹パターンの底部及び側壁部も十分に洗浄し得る超音波処理技術を提供する。
【解決手段】被処理物を超音波により洗浄処理する超音波処理装置を、超音波振動を放射する超音波振動部と、前記超音波振動部に電力を印加する発振部と、前記被処理物と該被処理物を処理する処理液を収容する収容部を有し該収容部内へ前記処理液を供給する処理液供給部とを備えるように構成し、前記処理液供給部が、前記収容部内へ供給される前の前記処理液を脱気する。 (もっと読む)


【課題】被処理層を所望の形状に形成することが可能な基板処理方法を提供する。
【解決手段】この現像方法(基板処理方法)は、基板100上に配置されたレジスト層101を現像する現像方法であって、レジスト層101上に現像液を供給し、現像液の表面張力を利用してレジスト層101上に液層102を形成する液層形成工程と、液層102によるレジスト層101の現像を進行させる処理工程と、を備える。処理工程は液層102を攪拌する攪拌工程を含む。 (もっと読む)


【課題】従来、基板の超音波洗浄に用いられているオゾンガス溶解水よりも更に微粒子除去効果に優れた電子材料用洗浄水を提供する。
【解決手段】溶存ガスとしてオゾンとアルゴンとを含むガス溶解水よりなる電子材料用洗浄水。溶存オゾンガス濃度が0.5mg/L以上であり、溶存アルゴンガス濃度が、当該ガス溶解水の水温における飽和アルゴンガス溶解濃度の2体積%以上である。このオゾン/アルゴンガス溶解水であれば、オゾンによる有機物及び微粒子除去効果と、アルゴンガスによる微粒子除去効果で著しく優れた洗浄効果を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】密閉された真空容器の内部を洗浄し、真空容器内に堆積した塩化物を除去することができるドライ洗浄装置を提供する。
【解決手段】真空容器10と、前記真空容器10内にハロゲン系ガスを導入するガス供給手段11と、前記真空容器10内を排気して所定の圧力にする排気手段12と、前記真空容器10内に被処理物を載置するための置台13と、前記真空容器10内を加熱する加熱手段14とを具備するドライ洗浄装置1において、前記真空容器10内に洗浄液20を導入して排出する液導入排出手段15と、前記排気手段12とは別に設けられ前記真空容器10内を排気して乾燥する乾燥排気手段16とを具備する。 (もっと読む)


【課題】超音波の減衰や洗浄槽内での不均一な液流の影響を受けることなくウェーハ面内をムラ無く均一に洗浄することが可能なウェーハ洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄液2で満たされた洗浄槽11と、洗浄槽11内でウェーハ1を揺動可能に保持する受け台12と、ウェーハ1を保持して上下方向に移動させるウェーハチャック13とを備えている。ウェーハ1の回転動作時には、受け台12の揺動角度が−θ度の位置でウェーハ1が受け台12から浮いた状態となるようにウェーハチャック13でウェーハ1を持ち上げる。次に、受け台12だけを回動させて+θの角度まで傾けた後、ウェーハチャック13を開放してウェーハ1を再び受け台12に載せることによって、ウェーハ1を周方向に回転させる。 (もっと読む)


【課題】電子材料上のレジストを短時間で確実に剥離除去する。
【解決手段】電子材料を過硫酸含有硫酸溶液で洗浄してレジストを剥離洗浄し、その後ガス溶解水でウェット洗浄する。過硫酸含有硫酸溶液によるレジスト剥離後のウェット洗浄を、ガス溶解水を用いて行うことにより、洗浄に要する時間を従来法に比べて大幅に短縮することができる。過硫酸含有硫酸溶液は、硫酸溶液を電気分解することによって製造されたものであることが好ましく、レジストの剥離洗浄装置からの過硫酸濃度が低下した硫酸溶液を電解反応装置に送給して再生し、過硫酸濃度を十分に高めた硫酸溶液を洗浄装置に循環することにより、高濃度の過硫酸によりレジストを効率的に剥離除去すると共に、硫酸溶液を繰り返し使用することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】煩雑な作業を要することなく洗浄液中の溶存窒素濃度をリアルタイムで精度良くモニタリングすることができ、加えてコストを低減することができる溶存窒素濃度のモニタリング方法を提供する。
【解決手段】超音波照射時の溶存酸素濃度DO2を溶存酸素濃度計43で測定し、測定された溶存酸素濃度DO2から初期溶存酸素濃度Dを差し引いて溶存酸素濃度の増加量ΔDO2を算出する。次いで、所定のオーバーフロー量或いは超音波の所定出力に適合する近似式を記憶部46から読み出し、記憶部46から読み出された近似式を用いて、溶存酸素濃度の増加量ΔDO2から混合超純水の溶存窒素濃度DN2を算出する。 (もっと読む)


【課題】溶剤の取り扱い上の危険性を解決し、半導体基板に付着したワックス、研磨剤、パーティクル(研削屑等の異物)等に対し高い洗浄性を発揮し、ファイナル洗浄後の基板清浄度が飛躍的に向上する半導体基板の洗浄方法の提供。
【解決手段】本発明の半導体基板の洗浄方法は、炭化水素化合物、グリコールエーテル、アニオン界面活性剤、及び水を少なくとも含有する洗浄剤組成物(A)により、半導体基板を洗浄する第1の洗浄工程と、水により、前記半導体基板を洗浄する第2の洗浄工程と、水酸化第4級アンモニウム、ドナー原子である窒素とカルボキシル基とを含むキレート剤、及び水を少なくとも含有する洗浄剤組成物(B)により、前記半導体基板を洗浄する第3の洗浄工程と、を少なくとも含み、前記第1の洗浄工程、前記第2の洗浄工程、前記第3の洗浄工程の順に、前記半導体基板を洗浄する。 (もっと読む)


【課題】 基板に付着したパーティクルなどの異物汚染を効率的に除去することができ、半導体装置などの製品歩留りを向上させることができる基板のウェット洗浄方法を提供する。
【解決手段】 例えば洗浄薬液に超音波を与えてウエハを洗浄する場合、洗浄前のウエハ上に付着したパーティクル数の基板内分布と超音波洗浄槽内の音圧分布に基づいて、洗浄効率が最大となるような洗浄液中のウエハ配置方向を求め、求めたウエハ配置方向を洗浄すべきウエハに設定し、その配置方向を洗浄液中で維持しながら洗浄処理を行う。 (もっと読む)


【課題】ナノバブル水(ゼータ高電位水)の生成に適用される気体溶解液生成装置を提供する。
【解決手段】気体溶解液生成装置は、気体と液体とを混合する気液混合部101と、この気体を含む液体が流入し、この液体中に含まれる気体をマイクロバブルに変換するマイクロバブル生成部104と、このマイクロバブルを含む液体が流入し、この液体中に含まれるマイクロバブルをナノバブルに変換するナノバブル生成部105と、このナノバブルを含む液体を、気液混合部、マイクロバブル生成部、及びナノバブル生成部を介して循環させることで、この液体中の気体溶解濃度を高める循環機構201とを備える。 (もっと読む)


【課題】基板の全域を均一に洗浄処理することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】本発明による基板処理装置1は、洗浄液を貯留する洗浄槽10と、基板Wを保持して洗浄液に浸漬させる基板保持装置20とを備えている。このうち基板保持装置20は、個別に移動自在な第1基板保持部20aと第2基板保持部20bとを有している。第1基板保持部20aおよび第2基板保持部20bは、第1保持棒21a、21bと、基板Wの中心を通る垂直方向軸線に対して第1保持棒21a、21bとは反対側に設けられた第2保持棒22a、22bとをそれぞれ有している。 (もっと読む)


【課題】溶剤中の純水濃度を極力低くすることにより、純水に起因する乾燥不良を防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】制御部97は、基板Wを純水で洗浄する純水洗浄処理の後、溶剤を注入して純水を溶剤で置換する置換処理を行い、処理液の流れを第1の分岐配管49に切り換え、油水分離フィルタ51によって純水を処理液から除去する分離除去処理の後、処理液の流れを第2の分岐配管53に切り換え、吸着フィルタ55により吸着除去処理を行う。したがって、分離除去処理によっても除去しきれない微量の純水だけを吸着フィルタ55によって吸着除去することができ、溶剤中の純水濃度を極力低くすることができる。その結果、溶剤中の純水に起因する乾燥不良を防止できる。 (もっと読む)


【課題】枚葉式、バッチ式のいずれの超音波洗浄装置であっても、形状・材質に依存せずに、低出力から高出力まで、洗浄液に印加された超音波の音圧をスムースに制御、特に微調整することができることによって、被洗浄物の表面にダメージを与えることなく十分に清浄な表面を得られる超音波洗浄装置と、それを利用した被洗浄物の洗浄方法、並びに超音波の発振方法を提供する。
【解決手段】被洗浄基板を超音波を印加した洗浄液によって洗浄する洗浄装置であって、少なくとも、超音波振動子で発振させた超音波を印加した洗浄液によって前記被洗浄物を洗浄するための洗浄機構と、前記超音波振動子から超音波を発振させるための主発振器とを具備し、前記主発振器は、発振波形としてバースト波を用いるものであることを特徴とする洗浄装置。 (もっと読む)


【課題】従来の半導体ウェーハの超音波洗浄装置の、保持具等により超音波が遮蔽された部分のウェーハ表面の洗浄が不十分となるという問題のない半導体ウェーハの超音波洗浄方法及び半導体ウェーハの超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハの超音波洗浄装置100において、洗浄液6中の半導体ウェーハ4の上方に超音波反射板20が傾斜して設けられている。超音波発生装置1から発振される入射超音波8が超音波反射板20に反射される。超音波反射板20は、反射面として平面20aを有しており、超音波反射板20は、平面20aの法線方向に、影部分7が位置するように位置決めされている。 (もっと読む)


【課題】超音波洗浄で問題となっていた洗浄ムラを解消し、パーティクル除去を効果的に行うことのできる超音波洗浄方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、洗浄槽中の洗浄液に被洗浄物を浸漬し、超音波振動子から発生する超音波を伝播槽中の伝播水を介して前記洗浄液に伝播させて前記被洗浄物を洗浄する超音波洗浄方法であって、前記伝播水として、脱気した純水に、溶存ガスを飽和濃度に対して35〜70%の濃度で溶解させたものを用いることを特徴とする超音波洗浄方法。 (もっと読む)


【課題】 超音波洗浄で問題となっていた洗浄ムラ(洗い残し)の問題を解消し、パーティクル除去を効果的に行うこのできる超音波洗浄方法を提供することにある。
【解決手段】 少なくとも、洗浄槽中の洗浄液に被洗浄物を浸漬し、超音波振動子から発生する超音波を前記洗浄槽中の洗浄液に伝播させて前記被洗浄物を洗浄する超音波洗浄方法であって、前記超音波振動子から発生する超音波による被洗浄物の洗浄を、少なくとも2以上の超音波出力条件で行うことを特徴とする超音波洗浄方法。 (もっと読む)


【課題】ペリクルを損傷させることなく、異物を除去することができる異物除去装置を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様に係る異物除去装置10は、ペリクルフレーム23を介してペリクル22が装着されたマスク20のペリクル22上の異物を除去する異物除去装置であって、ペリクル22側から超音波を照射して、ペリクル22の近傍を腹とする定在波を発生させる超音波発生手段11を備える。また、ペリクル22と異物25との間の静電気を除去するイオナイザ12をさらに備える。 (もっと読む)


【解決手段】ガスを分散されて含む洗浄流体は、ガスを溶解されて含む液体をバブルマシン内で減圧して気液分散を発生させることによって、キャビテーションを誘発するための超音波エネルギの使用を回避している。洗浄流体は、ホルダと、超音波エネルギまたはメガソニックエネルギを物品に供給するための振動器とを含む装置を使用して半導体ウエハなどの物品を洗浄するために使用することができる。 (もっと読む)


【課題】疎水性表面を有するシリコンウェハの洗浄方法、洗浄液を提供する。
【解決手段】洗浄液として、HFが0.01〜0.05重量%と、かつオゾンが含有されている洗浄液を用いることを特徴とする。 (もっと読む)


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