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Fターム[5F157CF14]に分類される特許
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基板処理装置
エッチング装置
【課題】本発明は、樹脂及びワークの側面にエッチング液が付着することを低減し、樹脂のエッチング及びワークの表面のエッチングを防止することを目的とする。
【解決手段】エッチング装置1は、ワークセット2を保持して回転可能な保持テーブル3と、ワークセット2の上方に配設されエッチング液40を滴下するエッチングノズル4と、保持テーブル3に保持したワークセット2の周囲に配設されワークセット2の側面に向けて水を供給する水供給手段5とを備え、水供給手段5は、水供給源51と、水供給バルブ52と、水供給ノズル50とを少なくとも備え、水供給ノズル50は、リング形状に形成されワークセット2の周囲からワークセット2の側面に向かう方向に複数の水供給口50aを備えている。そして、水供給ノズル50から供給される水がエッチング液40を薄めて洗い流すことにより、樹脂21及びワークWの下面Waのエッチングを防止することができる。
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基板洗浄チャンバ及び構成部品
【課題】特定のイオン種洗浄ガスから除外する洗浄チャンバ、簡単に交換又は再調整できるチャンバ構成部品、基板汚染を抑え均等な加熱を可能にする基盤加熱台座部を提供する。
【解決手段】基板洗浄チャンバ24は、例えば消耗セラミックライナ60、基板加熱台座部80及び処理キット114等の様々な構成部品を備える。消耗セラミックライナは、遠隔ガスエナジャイザ52のガス出口チャネル62を基板洗浄チャンバのガス入口チャネル40に接続するために設置される。基板加熱台座部は、配列された凹部内に複数のセラミックボール90が位置決めされた基板受け面を有する環状プレート82を備える。処理キットは、トッププレート116、トップライナ118、ガス分散プレート120、ボトムライナ122及びフォーカスリング124を備える。
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基板処理装置および基板処理方法
【課題】処理液による処理の際に電荷の移動による基板の損傷を防止する。
【解決手段】基板処理装置10は、基板9を1枚ずつ処理する枚葉処理装置1、比抵抗がSPM液の比抵抗よりも大きい目標比抵抗に維持された除電液を貯溜する除電液貯溜部71、および、基板9に対する減圧乾燥処理を行う基板乾燥部75を備える。基板処理装置10では、カートリッジ73に保持された複数の基板9が、除電液貯溜部71内の除電液に浸漬され、基板9の両側の主面が全面に亘って除電液に接触する。これにより、基板9が比較的緩やかに除電される。そして、除電処理、および、基板乾燥部75による乾燥処理の終了後に、処理液供給部3により基板9の上面91上にSPM液が供給されてSPM処理が行われる。これにより、SPM処理の際に、基板9からSPM液へと大量の電荷が急激に移動することが防止され、基板9の損傷を防止することができる。
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基板処理装置および基板処理方法
【課題】コストの増加を抑制しながら、基板の主面全域を覆う液膜を速やかに形成でき、それによって、基板処理の品質を向上できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、基板Wを保持して回転させる基板保持回転機構2,3と、基板Wの主面に向けて処理液を吐出する処理液ノズル11を有する処理液供給機構4と、基板Wの主面の全域を覆う液膜を形成するのに十分な量の処理液を貯留する処理液溜まり5と、処理液溜まり5に貯留された処理液を一気に基板Wの主面に供給することにより、基板Wの主面の全域を覆う液膜を形成する液膜形成ユニット6と、制御ユニット7とを含む。制御ユニット7は、基板Wの主面の全域を覆う液膜を形成させた後に、処理液ノズル11から基板Wの主面に向けて処理液を吐出させる。
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液体供給装置
【課題】構造の簡素化と流通させる液体の清浄度向上との両立を図り、液体の供給停止後に生じる使用部における液垂れを抑制することができる新たな構造を備えた液体供給装置を提供する。
【解決手段】液体の供給部10と、液体の使用部20と、供給部から使用部へ液体を流通させる供給配管部30とを有する液体供給装置1Aであって、供給配管部は、供給部側から供給される液体を流通させる主配管部31と、主配管部に接続されるアスピレータ50と、アスピレータにより分岐され使用部側に液体を供給する使用側配管部32及び副配管部33と、副配管部に接続され開閉機能を有する弁16とを備えており、アスピレータの主流路側に主配管部及び副配管部が接続され、アスピレータの吸引流路側に使用側配管部が接続される。
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基板処理装置および基板処理方法
【課題】基板上への処理液の落下を回避でき、かつすぐれた生産性を実現できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、処理液を加圧して送り出すポンプ5と、処理液供給路6と、処理液供給路6から分岐した第1、第2および第3分岐路11,12,13とを有する。基板処理装置は、さらに、第1、第2および第3分岐路11,12,13にそれぞれ接続され、第1、第2および第3処理ユニット1,2,3にそれぞれ配置された第1、第2および第3ノズルN1,N2,N3を有する。第1、第2および第3分岐路11,12,13には、第1、第2および第3一次側バルブP1,P2,P3が介装されている。制御装置7は、第1一次側バルブP1を閉じるときに、ポンプ5を駆動状態に保持したまま、第2一次側バルブP2または第3一次側バルブP3を開く。
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基板処理装置
【課題】処理に必要な最小限の量の処理液を循環させる構成を採ることにより、処理液の使用量を低減することができる。
【解決手段】内槽3と、外槽5と、循環配管15とには、処理状態では内槽3から外槽5に処理液が溢れ、非処理状態では内槽3から外槽5への処理液の溢れがない処理液の量が貯留されている。一方、非処理循環状態では、開閉弁35を開放して内槽3から外槽5へ処理液を流通させて、循環配管15を介して処理液の循環を行わせる。したがって、リフタ27が基板Wとともに処理位置にない状態であっても、処理液を循環させることができ、処理に使用する処理液の量を低減することができる。その結果、温調や薬液濃度の調整を行う際には、その処理を短時間で行うことができる。
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液処理装置、液処理方法および記憶媒体
【課題】簡易な構成の液処理装置を提供する。
【解決手段】液処理装置10は、ウエハ21に対してSPM液を吐出する吐出機構50と、吐出機構50に硫酸を供給する第1液供給機構12と、吐出機構50に過酸化水素水を供給する第2液供給機構14と、を備えている。第1液供給機構12は、第1温度に加熱された第1の液を保持する一次温調機構30と、一次温調機構30に接続された二次温調機構40と、二次温調機構40と吐出機構50を接続する吐出ライン51と、を有している。二次温調機構40は、一次温調機構30の第1循環ライン33から分岐し、一次温調機構30に戻る第2循環ライン41と、第2循環ライン41に設けられ、第1の液を第1温度よりも高い供給温度に加熱する第2加熱器42と、を有している。吐出ライン51は、第2加熱器42よりも下流側で第2循環ライン41から切替弁44を介して分岐している。
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液処理装置、液処理装置の制御方法、コンピュータプログラム、及びコンピュータ可読記憶媒体
【課題】基板に液体を供給する供給部からの液体の液だれを防ぐことが可能な液処理装置を提供する。
【解決手段】液処理の対象となる基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部が保持する基板に対して前記所定の液体を供給する供給手段と、液体供給部から前記供給手段に液体を供給する供給管と、前記供給管に設けられ、前記液体の供給を開始し、又は停止する供給弁と、前記供給弁に対して設けられ、前記供給弁の開閉速度を制御する速度制御器と、前記供給弁よりも前記液体供給部側において前記供給管から分岐し、前記供給管を流れる前記液体を排液するドレイン管と、前記ドレイン管に設けられる第1の開閉弁とを備える液処理装置により上記の課題を達成する。
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基板処理装置
【課題】硫酸の温度の変更に容易に対応可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】この基板処理装置は、硫酸と過酸化水素水とを混合して生成したレジスト剥離液を基板Wの表面に供給する。この基板処理装置は、レジスト剥離液を基板に向けて吐出するノズル2と、ノズル2に向けて過酸化水素水を流通させる過酸化水素水供給路30と、過酸化水素水供給路30上においてノズル2までの流路長が異なる複数の混合位置MP1,MP2,MP3,MP4にそれぞれ接続された複数の硫酸供給路31,32,33,34と、硫酸供給源25からの硫酸を前記複数の硫酸供給路から選択された硫酸供給路に導入する硫酸供給路選択ユニット35とを含む。
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基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体
【課題】高圧流体と接触させて基板に付着した液体を除去する処理を実施する過程で、基板にパーティクルが付着しにくい基板処理装置等を提供する。
【解決手段】基板Wの表面の乾燥防止用の液体を除去する処理が行われる処理容器31内に高圧流体を供給する際、流体供給路351に設けられた遮断部を開き、流量調整部354により流量を調整した状態で開閉弁352を開いて処理容器31に高圧流体を導入し(または原料流体を処理容器31内で高圧流体に変化させ)、基板Wの表面から乾燥防止用の液体を除去するステップと、次いで、前記遮断部を遮断状態とする一方、開閉弁352と減圧弁342とを開き、処理容器31に接続された排出路341を介して流体供給路351と処理容器31とを併せて減圧するステップと、その後、前記基板Wを当該処理容器31から搬出するステップと、を実行するように制御信号を出力する。
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硫酸溶液供給システムおよび硫酸溶液供給方法
【課題】簡略な装置構成で電解装置への固形物の混入を防止して連続的かつ安定的な運転を実現する硫酸溶液供給システム及び硫酸溶液供給方法を提供する。
【解決手段】硫酸溶液を冷却する冷却器25、硫酸溶液を電解する電解セル4、バッチ式洗浄機2で使用された硫酸溶液を冷却器25、電解セル4をこの順に介してバッチ式洗浄機2に戻す電解側循環ラインと、バッチ式洗浄機2で使用された硫酸溶液を冷却器25を介さずにバッチ式洗浄機2に戻す使用側循環ラインを備え、電解側循環ラインと使用側循環ラインが、バッチ式洗浄機2から排液された硫酸溶液が流れる共通した共通排液ライン10を有し、共通排液ライン10の下流側端部にある分岐点10aからそれぞれが分岐しており、共通排液ライン10に固形物を捕捉する洗浄機側フィルタ21を備える。
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基板処理装置、基板処理方法、及び表示用パネル基板の製造方法
【課題】薬液の消費量を抑えながら、基板の処理を均一に行う。
【解決手段】基板1を移動しながら、薬液2が入った薬液タンク23から、可変出力ポンプ25及び制御弁80が設けられた配管24を介して、薬液ノズル21へ薬液2を供給し、薬液ノズル21から基板1へ薬液2を吐出する。薬液ノズル21から基板1へ吐出した薬液2を回収して薬液タンク23へ戻し、薬液タンク23から薬液ノズル21へ供給する薬液2の濃度を検出し、薬液2の濃度の検出結果に応じ、可変出力ポンプ25を制御し又は制御弁80を作動させて、薬液タンク23から配管24を介して薬液ノズル21へ供給する薬液2の量を変更する。
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基板処理装置
【課題】 設備コスト、設置場所の縮小を図ることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】 基板Wに対して剥離処理と洗浄処理を行なう基板処理装置において、導入された空気を窒素ガスと酸素ガスのガス成分に分離して取り出し可能とするガス分離モジュール9と、この分離モジュール9から分離取り出された窒素ガス、酸素ガスをそれぞれ用いたマイクロナノバブル発生装置5、6を設け、各発生装置で発生した微小気泡を剥離部2、洗浄部3にそれぞれ供給する。
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液処理方法及び液処理装置
【課題】基板表面を液処理した後に、基板表面を清浄に乾燥させることが可能な液処理方法及び液処理装置を提供する。
【解決手段】表面上に疎水性領域を有する基板を第1の回転速度で回転し、前記基板の表面中央部に対して、前記基板に供給された薬液をリンスするリンス液を第1の流量で供給し、前記基板の表面全面に前記リンス液の液膜を形成するステップと、前記基板の表面全面に形成された液膜を壊し、前記基板の表面上に前記リンス液の筋状の流れを形成するステップと、前記リンス液の筋状の流れが前記基板の表面上から外へ出るまで前記リンス液を供給する供給部を前記基板の外縁に向かって移動するステップとを含む液処理方法が提供される。
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基板処理装置
【課題】処理液の再利用にともなって処理液に析出する不純物の発生を抑制し、基板の処理不良を防止できる。
【解決手段】第3配管33において第1分岐管41が接続されている部位45よりも下流側の位置の部位51に、第2分岐管47の上流側の一端が接続されており、第2分岐管47の下流側は第1回収タンク23に接続されている。制御部が、開閉弁43及び開閉弁49を開にし、開閉弁53を閉にした状態で、ヒータ35及び駆動ポンプ39をONにした後に、ヒータ35により加熱された処理液は、第3配管33から第2分岐管47に流れて、第1回収タンク23に供給され続ける。このため、加熱された処理液により第1回収タンク23に貯留された処理液が温められ、処理液の粘性が高くなることもなく、第1回収タンク23において処理液が滞留することもなく、処理液に不要物が析出するることが抑制される。
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基板処理システム及び該基板処理システムにおける熱再利用方法
【課題】各構成装置の配置の自由度が低下するのを防止することができる基板処理システムを提供する。
【解決手段】半導体デバイス製造システム10は、高温でウエハWを処理する熱処理装置12と、低温でウエハWを処理する洗浄装置13と、熱処理装置12及び洗浄装置13と着脱自在であり、熱処理装置12と接続された場合に高温の冷却ガスが供給され、洗浄装置13と接続された場合に低温の加熱ガスが供給される蓄熱モジュール14とを備え、蓄熱モジュール14は相変化材料57が含浸された蓄熱材52を内蔵し、供給される高温の冷却ガスの温度が相変化材料57の温度よりも高い場合には、相変化材料57が高温の冷却ガスから熱エネルギーを受け取って蓄積し、供給される低温の加熱ガスの温度が相変化材料57の温度よりも低い場合には、相変化材料57が低温の加熱ガスへ蓄積された熱エネルギーを受け渡す。
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液処理装置、液処理方法およびこの液処理方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体
【課題】処理体を液処理する液処理部内の圧力の変動を抑制することができる液処理装置を提供する。
【解決手段】本発明による液処理装置1は、被処理体Wに対して処理液を供給して被処理体Wを液処理する複数の液処理部3と、複数の液処理部3内の雰囲気を排出する共通排気路6と、液処理部3の各々と共通排気路6とを連結する個別排気路35と、個別排気路35に開閉自在に設けられた開閉機構5と、共通排気路6に外気を取り込む外気取込部65と、を備えている。共通排気路6には、外気取込部65から取り込まれる外気の流量を調整する取込量調整弁が設けられている。制御部100は、開閉機構5の各々の開閉状態に基づいて、取込量調整弁の開度を制御するようになっている。
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非接触浮上搬送機能を有する基板処理装置
【課題】基板の下面に非接触で基板を搬送し、基板を高速かつ安定的に移動させながら、基板の汚染やローラー痕の生成なく、基板の上下両面又は下面のみに処理を行う、非接触浮上搬送機能を有する基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板の上面と下面の両方又は下面のみに、水による洗浄処理、薬液による化学的処理、水によるリンス処理又は空気、窒素ガスといった気体による乾燥処理のいずれかの処理を行う、複数の基板処理ユニット7、8、9を備えてなる基板処理装置が、基板1の下面に向かって水、薬液、空気、窒素ガスといった流体を噴出して、基板1を浮上させ、基板1の下面に非接触でその位置を保持する、複数配置された基板浮上ユニット10と、基板1の左右両側のエッジ部に水平方向から接触して、基板1を移動させる複数配置された搬送ローラー12を有する基板搬送ユニットと、を備えている。
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