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Fターム[5F157CF16]の内容

半導体の洗浄、乾燥 (54,359) | 構成要素細部 (6,182) | 吸排気構造 (450)

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吸入口 (51)
排気口 (222)

Fターム[5F157CF16]に分類される特許

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【課題】酸性処理液とアルカリ性処理液とにより生成される生成物が付着することを防止し、排気効率を向上させることができる液処理装置を提供する。
【解決手段】本発明による液処理装置10は、被処理体Wに、酸性処理液またはアルカリ性処理液を供給する液処理部40と、液処理部40に連結された主排気ダクト64と、主排気ダクト64に、排気方向下流側から順にそれぞれ連結され、液処理部40内の雰囲気を排出する複数の個別排気ダクト61、62、63と、主排気ダクト64と複数の個別排気ダクト61、62、63の各々との間に設けられた複数の排気開閉弁71、72、73と、を備えている。主排気ダクト64は、分岐部64bを有し、液処理部40と主排気ダクト64の分岐部64bとの間に、洗浄流体を噴出する洗浄流体噴出部80が設けられている。 (もっと読む)


【課題】より簡素な構成によってダウンフローを発生させること。
【解決手段】スピンナ洗浄装置1は、ワークを保持するスピンナテーブル30と、鉛直方向を回転軸としてスピンナテーブル30を回転させるモータ42と、スピンナテーブル30に保持されたワークに洗浄水を供給する洗浄水供給ノズル50と、スピンナテーブル30を収容するケーシング20と、モータ42に接続された羽36Aを備え、羽36Aは、モータ42によってスピンナテーブル30が回転する際に同時に回転し、ケーシング20内にダウンフローを発生させる。 (もっと読む)


【課題】液処理装置において、角型の基板から飛散する処理液が基板に付着することを防ぐことができる技術を提供すること。
【解決手段】基板の辺に沿って形成されると共に外縁部が円形に形成され、前記基板を保持する基板保持部と共に回転する液受け部と、前記液受け部を囲むように設けられ、その上縁部が当該液受け部との間に排気空間を形成するように液受け部の上方側に屈曲すると共にその内周縁が円形に形成され、前記基板保持部と共に回転する円筒状の回転カップと、を備えるように液処理装置を構成する。回転カップの内外で周方向に均一性高く気流を形成すると共に気流の淀みを防ぎ、液受け部により基板の周縁部から外側上方へ飛散した処理液をその下面で受け止めて基板の外側方向へ排出することができるので、基板の周囲から効率良く処理液を排出して基板への付着を防ぐことができる。 (もっと読む)


【課題】プラズマ処理装置の基板サセプタに配置されるフォーカスリング付設の誘電性リングを交換することなくその誘電率を調整できるようにすることで,基板周縁部の印加電圧のばらつきを抑え,フォーカスリングの上面電位を所望の値に制御する。
【解決手段】基板Wを載置する基板載置部を有し,高周波電力が印加されるサセプタ114と,基板載置部に載置された基板の周囲を囲むように配置され,基板より高い上面を有する外側リング214と,該外側リングの内側に延在して基板の周縁部の下方に入り込むように配置され基板より低い上面を有する内側リング212とによって一体に構成されたフォーカスリング210と,該フォーカスリングと前記サセプタとの間に介在する誘電性リング220と,該誘電性リングの誘電率を可変する誘電率可変機構250とを設けた。 (もっと読む)


【課題】保守作業の容易化および省スペース化が実現されつつ安定に飛散防止部材を昇降させることが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】
基板処理装置100は、基板Wを水平に保持するとともに鉛直方向の回転中心線P周りで基板Wを回転させるためのスピンチャック21を備える。スピンチャック21を取り囲むように、カップ10が設けられている。カップ10は、内構成部材11、中構成部材12および外構成部材13からなる。内構成部材11の下方には、一対の第1昇降機構81が設けられている。一対の第1昇降機構81のサーボモータ119は、制御部により互いに同期して駆動される。 (もっと読む)


【課題】 洗浄時に洗浄水受け容器の内側にコンタミを含む水滴が付着することのないスピンナ洗浄装置を提供することである。
【解決手段】 ウエーハを吸引保持して回転するスピンナテーブルと、該スピンナテーブルに保持されたウエーハに洗浄水を供給する洗浄水供給手段と、該スピンナテーブルを囲繞する環状外周側壁と環状内周側壁と底壁とを有する洗浄水受け容器と、該洗浄水供給手段を該スピンナテーブルに保持されたウエーハを洗浄する洗浄位置と退避位置との間で移動する駆動手段と、該洗浄水受け容器の底壁に接続され該洗浄水受け容器内のエアを排気する排気手段とを備えたスピンナ洗浄装置であって、該洗浄水受け容器の内側に親水性処理が施されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ダウンフローを発生させるための機構を簡素化した処理装置を提供すること。
【解決手段】ダウンフローを発生させる気流発生手段150と、循環経路部材200内に配設され、ダウンフローを発生させる気体に含まれるミストを気体から分離させるミスト分離手段240と、循環経路部材200内に配設され、ミスト分離手段240によって分離されて液化したミストを回収する廃液口213と、を有し、ダウンフローを発生させる気体を処理チャンバー100と循環経路部材200との間で、循環させるようにした。 (もっと読む)


【課題】異なる種類の処理流体を捕集するための複数のダクトを組み合わせるコンパクトなツールを備える。
【解決手段】ツール10は、主に、アセンブリプロセス処理区域11と、障壁構造の配給区域500と、を含む。加工物12の上に横たわり、かつ、覆うことができる特別な障壁構造を含む、加工物12をプロセス処理する装置及びそれに関連する方法、加工物12の上に、位置決めされ、移動できる、特別な移動可能な部材を含む、加工物12をプロセス処理する装置及びそれに関連する方法、プロセス処理チャンバー503に横たわることができる特別な天井構造を含む、加工物12をプロセス処理する方法及びそれに関連する装置、特別な環状体を含む、ノズル装置556及びそれに関連する方法、並びに特別な第1、第2、及び第3のノズル構造を含む、ノズル装置556及びそれに関連する方法に関する。 (もっと読む)


【課題】紫外線処理装置の周囲で大きな気流が発生しても、その影響を受けることなく、被処理物表面に紫外線を均一に照射することができ、被処理物の表面を均一に処理することができる紫外線処理装置、及び、紫外線照射装置を提供することにある。
【解決手段】本願発明の紫外線処理装置は、鉛直方向の下方に開口を有するランプハウス1と、ランプハウス1内に収容された紫外線ランプ2及びガス噴出孔30を有する不活性ガス供給管3と、被処理物Wを搬送する搬送機構4と、被処理物Wを処理するためのチャンバー5とを備え、被処理物Wを搬送しながら紫外線を照射する紫外線処理装置において、ランプハウス1より搬送方向の上流側に被処理物Wが搬入される前方緩和室6が連結され、ランプハウス1より搬送方向の下流側に被処理物Wが搬出される後方緩和室7が連結され、チャンバー5には、搬送されてくる被処理物Wに対して鉛直方向の下方の位置に、排気管8が接続されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】クリーン環境下で用いられる場合にもシステム全体を効率よく稼働させることが可能なワーク搬送システムを提供する。
【解決手段】ワーク搬送システムA1は、直線状に配列された3つのワーク収納室1(1A〜1C)と、ワーク収納室1に隣接する搬送室2と、搬送室2に対し、ワーク収納室1とは反対側に隣接するワーク処理室3と、ワーク収納室1とワーク処理室3との間でワークWを搬送するための搬送用ロボット4A,4Bと、を備える。搬送室2には空間分離手段6A,6Bが設けられている。搬送用ロボット4A,4Bにより並行して2系統でのワークWの搬送処理を行うことができる。クリーン環境下で使用する場合、一方の搬送用ロボット4が故障しても、搬送室2内を分離することにより、他方の搬送用ロボット4によるクリーン環境下でのワークWの搬送処理を継続しつつ、故障した搬送用ロボット4の交換等を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】エッチングガスの使用効率の高い洗浄装置、洗浄方法および太陽電池の製造方法を提供する。
【解決手段】トレイクリーニング装置1は、トレイ20を少なくとも1つ収容できる密閉可能な密閉容器2と、密閉容器2内にエッチングガスを供給できるガス供給口10と、密閉容器2内のガスを排気できるガス排気口11と、密閉容器2に収容されたトレイ20の開口部を貫通可能に配設された軸部材3とを備えている。 (もっと読む)


【課題】基板に薬液を滴下し、基板を回転することによって基板を処理する基板処理装置であって、当該基板処理装置内の環境を大きく乱すことなく浮遊ミストを低減することが可能な基板処理装置およびこれを備える塗布現像システムを提供する。
【解決手段】基板に薬液を滴下し、基板を回転して基板を処理する基板処理装置が開示される。この基板処理装置は、基板の裏面を保持する基板保持部と、基板保持部を回転する基板回転部と、基板保持部に保持される基板に薬液を滴下する薬液滴下部と、凹形状を有し、基板保持部に保持される基板を囲むように設けられるカップ部と、基板保持部に保持される基板とカップ部の内周面との間に配置される吸気ポートと、基板回転部により駆動されるとともに、吸気ポートと連通して吸気ポートより吸引される気体を基板保持部の下方の空間に吐出する気体吐出部と、を備える。 (もっと読む)


【課題】装置の大型化および複雑化や消費電力の増大などを回避しつつ検査等の処理に要求される環境を得る。
【解決手段】FPD検査装置1は、ワークWを搬送する搬送ステージ14〜16と、搬送ステージ14〜16上を移動するワークWに検査ラインL15(処理部)で検査する検査ユニット10と、搬送ステージ14〜16と検査ユニット10とを収容する搬送部外装17および19ならびに検査部外装18と、外装(17〜19)内にクリーンエアを送出するFFU101と、FFU101から送出されたクリーンエアを検査ユニット10に導く風洞Cと、を備える。 (もっと読む)


【課題】基板の清浄度を高めることができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】第1処理室8および第2処理室9は、それぞれ、第1処理空間S1および第2処理空間S2を区画している。第2処理空間S2は、第1処理空間S1内に設けられ、第1処理空間S1に通じている。スピンチャック10に保持された基板Wは、チャック昇降機構36によって第1処理空間S1または第2処理空間S2に配置される。処理液供給機構12は、第2処理空間S2で基板Wに処理液を供給する。第1処理空間S1および第2処理空間S2の気圧は、排気機構23およびFFU24によって、第1処理空間S1の気圧が第1処理空間S1の外の気圧よりも高く、第2処理空間S2の気圧が第1処理空間S1の気圧よりも低くなるように制御されている。 (もっと読む)


【課題】1つの処理室における処理状況によりは排気圧が大きく変動することはなく、排気圧の変動にともなうウエハへのパーティクルの付着を抑制できる。
【解決手段】SC1処理、ふっ酸処理、IPA蒸気による置換処理の場合、個別排気管のいずれかが開放されているとき、遮蔽板115は開放されている個別排気管に対応する開放口65,75を閉塞するとともに、閉塞されている個別排気管に対応する開放口65,75を開放しているので、この開放口65,75からはエアが導入されている。これにより、1つの処理室における酸系の処理時、アルカリ系の処理時等とでは排気圧が大きく変動することはなく、この排気圧の変動にともなうウエハへのパーティクルの付着を抑制できる。 (もっと読む)


【課題】マスクに形成されたマスク膜のパターン形状を保ちながら、マスク膜に付着したシリコン酸化物を含む異物を除去することができるマスク洗浄方法、マスク洗浄装置及びペリクルを提供する。
【解決手段】マスクの洗浄方法は、シリコン酸化物を含む異物が付着したマスク膜を表面に有するマスクを用意する工程と、希フッ酸蒸気を含む洗浄ガスにおいて、マスク膜に対するエッチングレートよりも異物に対するエッチングレートが高くなる温度にマスクを保持する工程と、マスクの表面に洗浄ガスを供給して異物をエッチングする工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】基板表面全体に均一性高く現像液の液膜を形成すると共に高いスループットが得られる塗布、現像装置を提供すること。
【解決手段】現像モジュールと、洗浄モジュールと、前記現像モジュールにより現像された基板を前記洗浄モジュールに搬送する搬送機構と、を備え、前記現像モジュールは、処理雰囲気を形成する気密な処理容器と、この処理容器内に設けられ、基板を載置し、冷却するための温調プレートと、前記処理容器内に現像液のミストを含む雰囲気ガスを供給する蒸気供給部と、前記温調プレートを、前記蒸気が基板上に結露する温度に調整するための温度調整部と、を備えるように塗布、現像装置を構成する。現像モジュールと洗浄モジュールとで並行して処理を行えるので、高いスループットが得られる。 (もっと読む)


【課題】高いスループットが得られる現像装置を提供すること。
【解決手段】処理雰囲気を形成する気密な処理容器と、この処理容器内に搬入された基板の表面に現像液を結露させて液膜を形成するために、当該処理容器内に現像液のミストを供給する雰囲気ガス供給部と、前記液膜による現像を停止するために基板を乾燥する乾燥部と、を備えるように現像装置を構成する。現像液とレジストとの反応を停止させることができるので、洗浄モジュールによる洗浄処理と並行して現像処理を行うことができ、高いスループットが得られる。 (もっと読む)


【課題】 可燃性の処理流体又はその蒸気を基板に供給して処理を行う装置において、基板周辺からの排気を冷却することにより排気中の引火性のガスの濃度を低下することを可能にした基板処理装置を提供する。
【解決手段】 スピンチャック2に保持され液体が付着した基板Wの表面Wfに対し可燃性の処理流体であるIPAを供給することにより、基板Wを洗浄等する装置において、スピンチャック2及び基板Wから飛散して処理カップ201により受け止められ、スピンチャック周辺に浮遊する液体の微粒子を含む雰囲気を排気する排気液ライン202に排気冷却部203を介挿し、排気冷却部203に冷却用の冷媒を供給することにより排気液ライン202内を流れる排気を冷却し、排気に含まれる可燃性の処理流体の蒸気の濃度を低減する。これにより、装置内の可燃性の処理流体の蒸気の濃度を低減する。 (もっと読む)


【課題】基板上に供給された処理液の逆流を防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】処理対象となる基板Wはローラコンベア10によって矢印FWの基板進行方向に移動される。移動される基板Wの面上に液盛りノズル20,30によって現像液が隙間無く液盛りされて、現像処理が進行する。基板W上に液膜が形成されているときに、微差圧計40が液盛りノズル20よりも前方側に形成される前方側空間と後方側に形成される後方側空間との気圧差を検出する。制御部90は、微差圧計40の検出結果に基づいて、後方側空間が前方側空間よりも高圧となるように、ファンフィルタユニット50から後方側空間に供給する空気の供給流量を制御する。液盛りノズル20よりも後方側空間を前方側空間よりも高圧にすれば、現像液の逆流を防止することができる。 (もっと読む)


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