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Fターム[5F157CF16]の内容

半導体の洗浄、乾燥 (54,359) | 構成要素細部 (6,182) | 吸排気構造 (450)

Fターム[5F157CF16]の下位に属するFターム

吸入口 (51)
排気口 (222)

Fターム[5F157CF16]に分類される特許

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【課題】チャンバ内の浮遊処理液の影響を低減できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】振り切り乾燥処理が終了すると、スピンチャック10および雰囲気遮断板50の回転が停止させられて、基板Wの回転が停止する。続いて、スピンチャック10と雰囲気遮断板50とが近接する状態から、スピンチャック10および雰囲気遮断板50との間の距離Dが2mm以上10mm以下となるよう、雰囲気遮断板50が上昇させられる。そして、スピンチャック10から搬送ロボットの搬送アーム8aに基板Wが受け渡される。これにより、チャンバ内の浮遊薬液を完全にチャンバ外に排気することができない場合であっても、搬送時または搬送待ちの基板Wに浮遊薬液が付着することを防止できる。 (もっと読む)


【課題】基板の状態を容易かつ正確に確認することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置10は、基板Wの板面が水平方向に沿うようにして当該基板を回転させながら処理する装置である。基板処理装置10は、上方に突出した突出部材22を複数有した回転可能なベースプレート20を含むテーブル15と、ベースプレートを回転駆動する回転駆動機構35と、を備える。テーブルは、突出部材が基板に下方から接触して、当該基板とテーブルとの間に隙間Gを形成するようにして基板を回転保持し得る。基板処理装置10は、基板の中央部Waに対面する位置において隙間にその一端が開放された圧力測定用管路51と、圧力測定用管路の他端に連結された圧力センサ53と、を有する圧力監視装置50を、さらに備える。 (もっと読む)


【課題】基板を安定して保持し得るとともに基板を適切に処理し得る基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置10は、基板Wの板面が水平方向に沿うようにして当該基板を回転させながら処理する装置である。基板処理装置10は、上方に突出した突出部材22を複数有した回転可能なベースプレート20を含むテーブル15と、ベースプレートを回転駆動する回転駆動機構35と、を備える。テーブルは、突出部材が基板に下方から接触して、当該基板とテーブルとの間に隙間Gを形成するようにして基板を回転保持し得る。基板処理装置10は、基板の中央部Waに対面する位置において隙間にその一端が開放された吸引用管路56と、吸引用管路の他端に連結された吸引機構58と、を有する圧力調節装置55をさらに備える。 (もっと読む)


【課題】被処理体の周縁部の所定の範囲を精度良く処理し、ミストとして残った処理液が次回以降に処理する被処理体に悪影響を及ぼすことを防止し、さらに、被処理体を処理するための処理空間を小さくする液処理装置を提供すること。
【解決手段】液処理装置は、第二筐体20と、第二筐体20に当接可能な第一筐体10と、被処理体Wを保持する保持部1と、を備えている。第一筐体10は、保持部1によって保持された被処理体Wの表面の周縁部に対向する位置に、被処理体Wの周縁方向に向かうにつれて被処理体Wから離れるように傾斜した表面側傾斜部11を有している。表面側傾斜部11には、被処理体Wの表面の周縁部に処理液を供給する表面側処理液供給ノズル51a,52aが設けられている。 (もっと読む)



【課題】基板収容器内の雰囲気の酸素濃度または湿度を十分に低下させておくことができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】隔壁7における通過口8の上方には、インデクサ空間ISのダウンフローが、基板収容器C内に進入することを抑制するための上カバー20が設けられている。通過口8の両側方には、インデクサ空間ISのダウンフローが、基板収容器C内に進入することを抑制するための横カバー21,22が設けられている。通過口8の周縁部には、開放状態における通過口8の上方領域23に向けてN2ガスを吹き付けるための上ノズル30と、通過口8の側方領域25,27に向けてN2ガスを吹き付けるための第1および第2横ノズル32,34とが備えられている。 (もっと読む)


【課題】必要な排気を確保しつつも、排気量を低減することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】制御部51は、ロットが搬送されて薬液処理部CHB1,CHB2や純水洗浄処理部ONB1,ONB2にて処理されるタイミングがスケジュールにより予め判断できるので、薬液処理部CHB1,CHB2や純水洗浄処理部ONB1,ONB2の状態に応じて各ダンパー37,41,45,49を操作し、薬液処理部CHB1,CHB2や純水洗浄処理部ONB1,ONB2の排出口35,39,43,47から排出される排気流量を調整できる。その結果、処理に必要な排気を確保しつつも装置全体の排気量を低減できる。 (もっと読む)


チャンバー内の均一な流体流れのための流体分配ネットワークを備えたチャンバーを提供する。チャンバーは、第1の面及び反対の内面を有する第1のチャンバー壁を含む。前記第1の面には、第1の組のチャンネルが形成され、内面はチャンバーの内部に曝され、かつ、複数の第1の組のチャンネルに接続された複数の内部ポートを含む。チャンバーは、また、第2の面及び反対の外面を有する第2のチャンバー壁を含む。第2の面は、第1の面が第2の面と合わされたときに、第1の組のチャンネルに部分的に交差する第2の組のチャンネルを有する。外面は、また、第2の組のチャンネルへの出入口を提供する、少なくとも一つの外部ポートを含む。 (もっと読む)


【課題】基板から液体を確実に除去することが可能な基板乾燥装置およびそれを備えた基板処理装置を提供する。
【解決手段】第1および第2の洗浄/乾燥処理ユニットSD1,SD2において、リンス液供給ノズル660は、リンス液供給管661aを介して脱気モジュールDMに接続されている。脱気モジュールDMはリンス液供給管661bを介してリンス液供給源R2に接続されている。脱気モジュールDMにおいて、リンス液の脱気処理が行われる。脱気処理後のリンス液が、リンス液供給管661aを通してリンス液供給ノズル660に供給される。基板Wの乾燥処理時に、リンス液供給ノズル660から基板W上にリンス液が供給される。それにより、基板W上にリンス液の液層が形成される。 (もっと読む)


【課題】清浄な状態で対象物に成膜処理を行い、且つ、装置稼働率と成膜処理効率とを向上させた成膜方法及び成膜装置を提供する。
【解決手段】金属基板が収容されたチャンバ内を所定の圧力に減圧する減圧工程(ステップS12)と、チャンバ内に収容された金属基板にシリコン系薄膜を成膜する成膜工程(ステップS15)との間に、金属基板が収容された状態で、チャンバ内をクリーニングするクリーニング工程(ステップS13)を設けた。クリーニング工程(ステップS13)では、チャンバに付着している成膜処理による残膜を除去する残膜除去処理と、残膜除去処理による生成物の残渣を除去する残渣除去処理とが実行される。 (もっと読む)




【課題】排気口からの排気に大きな排気能力を必要とせずに、処理チャンバ内の雰囲気を良好に置換させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】処理チャンバ3の天面付近の側壁には、給気ユニット41が配置されている。給気ユニット41の給気口43からは、側壁2に沿って水平方向に流れるクリーンエアが、処理チャンバ3内に供給される。処理チャンバ3内の雰囲気は、処理チャンバ3の底部に配置された排気ユニット51,52の排気口53,54から斜め下方に向けて吸い込まれて排気される。給気ユニット41,42から、処理チャンバ3の内部にクリーンエアが供給されるとともに、排気ユニット51内が強制的に排気されると、処理チャンバ3内に、カップ5のまわりを周回しながら下降する渦状の気流が形成される。 (もっと読む)




【課題】基板の表面上の水分を有機溶剤で置換させた後、基板の表面上の有機溶剤を蒸発させて基板を乾燥させる方式において、雰囲気遮断板を用いることなく、ガスノズルから基板表面へ乾燥用ガスを供給しつつガスノズルを走査する方法によらずに、基板の表面上にパーティクルが付着したりウォータマークが発生したりすることを抑えることができる方法を提供する。
【解決手段】スピンチャック10に保持された基板Wの表面へ液体供給ノズル62から有機溶剤を供給し、基板の表面上の水分を有機溶剤で置換させた後、基板の表面上の有機溶剤を蒸発させて基板を乾燥させる際に、カップ44内へ気体供給ノズル64から水蒸気より比重の大きい気体を供給する。水蒸気より比重の大きい気体でカップ内が満たされることにより、カップ内から水蒸気が排除され、カップ内方の基板の表面上の湿度が低くなる。 (もっと読む)


【課題】処理液案内部材の内方に処理液雰囲気を保持することができ、処理液案内部材外への処理液雰囲気の流出を抑制または防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】内構成部材19は、スピンチャック1の周囲を取り囲むように設けられ、第1案内部25、廃棄溝26、内側回収溝27および外側回収溝52を一体的に有している。中構成部材20は、内構成部材19の外側においてスピンチャック1の周囲を取り囲むように設けられ、第2案内部48を有している。外構成部材21は、中構成部材20の第2案内部48の外側においてスピンチャック1の周囲を取り囲むように設けられている。外構成部材21には、スカート部80が備えられている。スカート部80の垂下部81の下端部は、液体貯留部70に貯留された液体中に浸漬されていて、液封構造を形成している。 (もっと読む)



【課題】処理カップ内における気液分離効率を低下させることなく、処理カップからの薬液のミストの漏出を防止または抑制することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】処理カップ25の上段には、第2構成部材22の第2案内部38の上端部38bと第3構成部材23の上端部23bとの間に、ウエハWの端面に対向し、第1薬液を捕獲する第1薬液捕獲口としての第3開口57が形成される。処理カップ25内の下段には、傾斜部41の先端部と第4構成部材24の傾斜部46の先端部との間に、第1雰囲気捕獲口58が形成される。第3開口57と第1雰囲気捕獲口58との上下方向における中間位置(中段)に、処理カップ25内に下降気流を発生するための羽根部材61が配置されている。羽根部材61は、スピンチャック3のスピンベース8に、一体回転可能に設けられている。 (もっと読む)



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