Fターム[5F157CF16]の内容

半導体の洗浄、乾燥 (54,359) | 構成要素細部 (6,182) | 吸排気構造 (450)

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【課題】基板の被処理面の背面に使用済みの処理液等の回り込みを防止する。
【解決手段】基板の被処理面を水平に支持した状態で当該被処理面と平行に回転するテーブルを有し、このテーブルに支持された当該基板Wの被処理面に所定の処理液を供給した後、この処理液を当該基板Wの外周方向に払拭することにより基板処理を行う装置の当該テーブルに、当該基板Wを着脱自在に嵌装するための基板装着部を形成しておく。この基板装着部に嵌装された基板Wをベルヌーイ吸着させるために当該基板Wの被処理面の背面に向けてN2ガス等を噴出供給して、このベルヌーイ吸着により生じる当該基板Wの変位力により、当該処理液の払拭路と当該被処理面の背面を通過した気体の排出路とを遮へいする。 (もっと読む)


【課題】基板の裏面の任意の領域に液体が回り込む量を調整することで、基板の表面に液体を供給して処理するだけでなく基板の裏面の任意の領域にも液体を供給して処理することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板Wを回転可能に保持する基板保持部11と、制御部100と、制御部100の指令により基板Wの表面Sに処理用の液体を供給する液体供給部18と、基板保持部11と基板Wの裏面Bの間に形成される裏面空間領域32に、制御部100の指令により不活性ガスを吐き出す吐出ガス供給系15と、制御部100の指令により裏面空間領域32内の空間圧力を制御するエアー吸引系16を備える。 (もっと読む)


【課題】 高圧蒸気を用いて被洗浄物を洗浄し且つ該被洗浄物の乾燥を行う洗浄乾燥装置を提供する。
【解決手段】 所定の軸を中心に被洗浄物を回転可能に支持するステージユニットと、被洗浄物に対して飽和蒸気を吹き付け可能なノズル部と、ステージユニット及びノズル部を収容する筐体と、筐体から洗浄により生じた物質を排出するための排気系と接続される排気管と、飽和蒸気を生成する飽和蒸気発生ユニットと、を有しステージユニットは飽和蒸気の吹き付け時の低速回転モードと、被洗浄物を乾燥させるための高速回転モードとを有する。 (もっと読む)


【課題】超臨界工程を遂行する基板処理装置及びこれを利用する基板処理方法が提供される。
【解決手段】本発明による基板処理装置の一実施形態は、一面に基板が出入する開口が形成され、高圧工程が遂行される空間を提供するハウジングと、前記ハウジング内に設置され、前記基板を支持する支持部材と、前記開口を開閉するドアと、前記高圧工程の時、前記ハウジングが密閉されるように前記ドアへ力を加圧する加圧部材と、を含む。 (もっと読む)


【課題】ミストを発生しやすい処理室のメンテナンス性を確保しつつ、室内の排気効率および排気能力の均一性を向上させること。
【解決手段】ブロー洗浄室R2の室内排気機構112において、第1の仕切板114は、上部2流体ノズル104Uより高くて排気ポート106,108より低い位置に配置され、ブロー洗浄室R2の室内空間を縦方向で上部空間UR2と下部空間LR2とに分割する。ここで、第1の仕切板114と上流側隔壁86との間には、チャンバ幅方向(Y方向)に一列に延びる2つのスリット開口116,118が形成される。また、第2の仕切板124は、第1の仕切板114の上に拡がる上部空間UR2を、横方向で、第1の開口116と第1の排気ポート106との間に延在する第1の排気空間120と、第2の開口118と第2の排気ポート108との間に延在する第2の排気空間122とに分割する。 (もっと読む)


【課題】SPM処理時に天板に付着したヒュームが、SPM処理の後に実施される乾燥工程等の他の工程時に基板に付着してしまうことを防止することができる液処理装置および液処理方法を提供する。
【解決手段】天板32は、基板保持部21に保持された基板Wを上方から覆う進出位置と、水平方向において進出位置から退避した位置である退避位置との間で水平方向に移動するようになっている。清浄化されたガスを下方向に流すためのエアフード70は、基板保持部21に保持された基板Wを上方から覆う下降位置と、下降位置よりも上方に位置する上昇位置との間で昇降するようになっている。 (もっと読む)


【課題】超臨界流体を利用して基板を処理する基板処理装置及びこれを利用する超臨界流体排出方法が提供される。
【解決手段】本発明による基板処理装置は、超臨界流体が提供される容器と、前記容器から前記超臨界流体が排出されるベントラインと、前記ベントラインに設置されて超臨界流体の凍結を防止する凍結防止ユニットと、を含む。 (もっと読む)


【課題】薬液処理時に発生しうる薬液雰囲気の拡散を防止しつつ、ウエハのパターン形成面を効率良く処理することができる液処理装置を提供する。
【解決手段】液処理装置10は、ウエハWの上方に設けられ、ウエハWに薬液を吐出する吐出口を有する処理流体ノズル65と、処理流体ノズル65に薬液を供給する処理流体供給機構70と、処理流体ノズル65によりウエハWに薬液が吐出される際にウエハWを上方から覆うことができるカバー機構60と、を備えている。カバー機構60は、カバー機構60がウエハWを上方から覆う下降位置と、下降位置よりも上方に位置する上昇位置との間で、昇降駆動機構78により上下方向に駆動される。また液処理装置10は、カバー機構60が上昇位置にある時にカバー機構60とウエハWとの間でウエハWをカバー機構60から遮蔽することができる遮蔽機構30をさらに備えている。 (もっと読む)


【課題】薬液処理時に発生しうる薬液雰囲気の拡散を防止しつつ、ウエハのパターン形成面を効率良く処理することができる液処理装置を提供する。
【解決手段】液処理装置10は、ウエハWの上方に設けられ、ウエハWに薬液を吐出する吐出口を有する処理流体ノズル65と、処理流体ノズル65に薬液を供給する処理流体供給機構70と、処理流体ノズル65によりウエハWに薬液が吐出される際にウエハWを上方から覆うことができるカバー機構60と、を備えている。カバー機構60は、カバー機構60がウエハWを上方から覆う下降位置と、下降位置よりも上方に位置する上昇位置との間で、昇降駆動機構78により上下方向に駆動される。また液処理装置10は、カバー機構60が上昇位置にある時にウエハWをカバー機構60から上下方向において遮蔽することができ、清浄ガスのダウンフローを生成するエアフード31をさらに備えている。 (もっと読む)


【課題】 処理液による処理中の基板への処理液の飛沫の付着を防止して清浄に保つことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 気体吐出ノズル11は中心に開口11gを有する円環状で、本体11aの外側の側面11bには上下2列に並んだ多数の外側気体吐出穴11cが、開口11gの側面11dには1列に並んだ多数の内側気体吐出穴11eが形成される。処理中に、基板Wは外側気体吐出穴11c、内側気体吐出穴11eからの気体により覆われて液の飛沫が付着することがない。 (もっと読む)


【課題】基板の周縁部の不要部位を、基板の有効領域への悪影響を抑えた状態で良好に洗浄することができる技術を提供すること。
【解決手段】エッチング工程にて曝されて表面側ベベル部に針状突起群Tが生成され、また裏面側のベベル部に複合化合物Pが付着したウエハWを真空室内の回転ステージに載置する。真空室内には、ウエハWの上方側及び下方側にガスクラスターノズルが設けられ、これらノズルから洗浄処理に対応した洗浄ガスのクラスターCをウエハWの表面側及び裏面側のベベル部に照射し、ガスクラスターCの衝突による物理的作用とガスと除去対象部位との化学的作用とにより、針状突起群T及び複合化合物Pを除去する。さらに、パージガスをガスクラスターCの照射箇所に吐出することで、洗浄により生じた飛散物のウエハWへの再付着を防止する。 (もっと読む)


【課題】基板処理に伴うパーティクルの再付着を抑制するとともに、基板処理の均一性を向上する。
【解決手段】処理槽内の液面レベルを、処理槽内に保持される基板よりも下の液面レベルに制御し、その処理液を、第1循環手段に備えられた第1吐出部から基板に向けて処理槽内で空中吐出する。そのため、基板は処理槽内に貯留された処理液と接触することがなく、基板処理に使用した後の処理液中に含まれるパーティクルが基板に再付着することを防止できる。 (もっと読む)


【課題】気体供給手段から供給される乾燥用気体の供給量を制御することにより、基板へのパーティクル等の付着を防止し、基板の処理環境を一様にできる
【解決手段】ステップS4の基板搬出動作において、チャンバー11内を陽圧にすべきか、負圧にすべきかが判断される(ステップS42)。チャンバー11内を陽圧にすべきと判断された場合、ドライエア供給装置31に内蔵された発生器内インバータを調整して、ドライエアの供給量を増加させるとともに、電動ダンパ37及び流量制御弁43の開口が絞られる(ステップS43)。チャンバー11内を負圧にすべきと判断された場合、制御部45は、ドライエア供給装置31に内蔵された発生器内インバータを調整して、ドライエアの供給量を減少させるとともに、電動ダンパ37及び流量制御弁43を開放している(ステップS44)。 (もっと読む)


【課題】複数の基板を一括して容易に乾燥することができる乾燥ユニットおよび基板処理装置を提供する。
【解決手段】乾燥部70は、複数の基板Wを一括して乾燥させる乾燥ユニットである。乾燥部70は、主として、乾燥チャンバ71と、貯留槽72と、排出管71a、72aと、バルブ71b、72bと、吐出ノズル87(87a、87b)と、を備えている。IPAによる純水の置換処理において、貯留槽72に複数の基板Wが浸漬されると、吐出ノズル87から乾燥チャンバ71内にIPAの蒸気が供給され、純水80aの液面80bにIPAの液膜80cが形成される。続いて、貯留槽72から純水80aが排出され、IPAの液膜80cが、下降させられる。そして、各基板Wの基板面とIPAの液膜80cとが接触することによって、各基板Wに付着した純水が、IPAに置換される。 (もっと読む)


【課題】処理室とアーム待機部とを区画する壁に、ノズル支持アームが通過可能な開口が設けられているときに、この壁の開口をノズル支持アームにより塞ぐことにより処理室内の領域とアーム待機部の領域とを隔離することができる液処理装置を提供する。
【解決手段】液処理装置10において、処理室20とアーム待機部80とを区画する壁90が設けられており、この壁90のアーム洗浄部88にはノズル支持アーム82が通過可能な開口88aが設けられている。ノズル支持アーム82は、アーム待機部80で待機しているときにこの壁90のアーム洗浄部88の開口88aを塞ぐようになっている。 (もっと読む)


【課題】洗浄品質の高い枚葉式ウェーハ洗浄装置を提供する。
【解決手段】チャンバー11内においてウェーハ1を支持する回転テーブル12と、ウェーハ1の表面に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズル13と、回転テーブル12の外周部に設けられたスピンカップ14と、回転テーブル12の外周部に設けられた排気口15と、スピンカップ14を昇降制御するスピンカップ昇降機構16と、チャンバー11の側面側に設けられた排気口17と、排気口17を開閉するシャッター18とを備え、シャッター18は、スピンカップ14に連動して昇降し、スピンカップ14が上昇して排気口15を開放しているときには排気口17を閉止し、スピンカップ14が降下して排気口15を閉止しているときには排気口17を開放する。これにより、チャンバー11の内圧をほぼ一定に保持することができる。 (もっと読む)


【課題】クリーニング・プロセスの結果生じる副産物がウェファを汚染することを防止する、収集プロセスを提供すること。
【解決手段】装置及びそれを作動させる方法。この方法は、チャンバ(200)を含む装置を準備するステップを含み、チャンバは、第1(260a)及び第2(260b)の入口と、チャンバ内のアノード(210)及びカソード(230)構造体と、カソード構造体(230)上のウェファ(100)とを含む。クリーニングガス(260b)は、第1の入口を通じてチャンバ内に注入される。収集ガス(260a)は、第2の入口を通じてチャンバ内に注入される。クリーニング・ガスはイオン化されたときに、ウェファの上面をエッチングしてチャンバ内に副産物混合物をもたらす性質を有する。収集ガスは、副産物混合物がウェファの表面に再度堆積することを防止する性質を有する。 (もっと読む)


【課題】処理室内の雰囲気の置換性を向上させることができ、基板の液処理を行う際に飛散した薬液等の雰囲気が処理室内に残存しないようにすることができる液処理装置および液処理方法を提供する。
【解決手段】液処理装置10において、カップ外周筒50が上方位置にあるときにこのカップ外周筒50内の雰囲気が当該カップ外周筒50の外側に送られるようになっている。また、処理室20内の雰囲気の排気を行うための排気部56が処理室20内においてカップ外周筒50の外側に設けられている。 (もっと読む)


【課題】減圧乾燥処理装置のチャンバーにおける配管の引き回し施行の簡略化と、装置の構造の簡素化を図ることにある。
【解決手段】隔壁部1にて大気と隔離して密封状態を保持可能な1乃至複数の基板pを収容する減圧チャンバー室Aと、該チャンバー室A内に装備され収容する前記1乃至複数の基板pを載置する可動式又は固定式の加熱用プレートCと、隔壁部21にて大気と隔離して密封状態を保持可能な加圧チャンバー室Bとを備え、前記減圧チャンバー室Aと加圧チャンバー室Bは、互いに近接位置に隣接して開閉する密閉シャッタ部25にて区画され、該密閉シャッタ部の開動作による連通状態と閉動作による互いに独立した密封状態とを保持可能であり、前記密閉シャッタ部25を閉鎖して減圧チャンバー室A内の基板pの減圧乾燥を行い、開放して減圧チャンバー室A内を大気圧に戻すことができる。 (もっと読む)


【課題】より簡易な構造で安全性を確保することができる処理装置を提供することである。
【解決手段】発火及び爆発に対する所定の安全対策の施された設備が配置され、引火性のある処理液を用いて所定の処理が行われる処理室と、該処理室とは隔離されつつ一体となり、電気設備及び前記処理室にて用いられる前記処理液の通路が配置された遮蔽室とを備えた処理装置であって、前記遮蔽室内から気体を導出する気体導出手段と、該気体導出手段にて導出された気体のガス濃度を検出するガス濃度検出手段とを有する構成となる。 (もっと読む)


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