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Fターム[5F157CF70]の内容

半導体の洗浄、乾燥 (54,359) | 構成要素細部 (6,182) | ファン (15)

Fターム[5F157CF70]に分類される特許

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【課題】チャンバー内のダクトから遠い位置にあるミストもダクト側に運ぶことができ、従来よりも効率よくチャンバー内を排気する。
【解決手段】チャンバー40内の保持テーブル10上にワークWを保持し、保持テーブル10を回転させた状態でワークWの上面に洗浄水Cを供給するスピンナ洗浄装置において、保持テーブル10の外周側面12に形成した複数の羽13によって保持テーブル10の外周周囲に該外周周囲に沿った空気の流れを発生させ、この空気の流れによってチャンバー40内におけるダクト50の反対側のミストもダクト50側に導く。 (もっと読む)


【課題】クリーン環境下で用いられる場合にもシステム全体を効率よく稼働させることが可能なワーク搬送システムを提供する。
【解決手段】ワーク搬送システムA1は、直線状に配列された3つのワーク収納室1(1A〜1C)と、ワーク収納室1に隣接する搬送室2と、搬送室2に対し、ワーク収納室1とは反対側に隣接するワーク処理室3と、ワーク収納室1とワーク処理室3との間でワークWを搬送するための搬送用ロボット4A,4Bと、を備える。搬送室2には空間分離手段6A,6Bが設けられている。搬送用ロボット4A,4Bにより並行して2系統でのワークWの搬送処理を行うことができる。クリーン環境下で使用する場合、一方の搬送用ロボット4が故障しても、搬送室2内を分離することにより、他方の搬送用ロボット4によるクリーン環境下でのワークWの搬送処理を継続しつつ、故障した搬送用ロボット4の交換等を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】内部空間の容積を低減できる構造の密閉チャンバ内で、基板に良好な処理を施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】密閉チャンバ2は、上部開口5を有するチャンバ本体6と、チャンバ本体6に対して回転可能に設けられて、上部開口5を閉塞する蓋部材7と、蓋部材7とチャンバ本体7との間を液体でシールする第1液体シール構造8とを備えている。蓋部材7は、回転可能に設けられており、蓋部材回転機構32によって回転駆動される。密閉チャンバ2内には、スピンチャック3により保持されたウエハWが収容される。このウエハWに対して処理液ノズル4から処理液が供給される。 (もっと読む)


【課題】隣接する基板同士の付着を防止しつつ、複数の基板を一括して処理する基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】可撓性を有する複数の基板Wが所定間隔にて起立姿勢でバスケット5に保持されて気相処理槽10内に収容されている。気相処理槽10の底部を構成する貯留部21にはフッ化水素酸が貯留される。常温のフッ化水素酸からは、処理ガスとしてのフッ酸蒸気が蒸発して生成される。また、ファン23が作動して貯留部21内のフッ化水素酸の液面からバスケット5の内部を通過して循環経路24を流れて再び貯留部21に還流する気流が形成される。このような気流によってフッ酸蒸気がバスケット5内部の複数の基板Wに供給され、エッチング処理が進行する。気相エッチング処理であれば隣接する基板W間に液相の表面張力が作用することは無く、それらが付着することが防止される。 (もっと読む)


【課題】この発明は基板を搬送するための搬送ユニットを処理槽内に容易かつ精度よく設置することができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】処理槽1は、矩形状の下部フレーム2の四隅部に下端部が連結されて立設された支柱部材4と、支柱部材の上端部に四隅部が連結されて設けられた上部フレーム3と、支柱部材の高さ寸法に対応する間隔で上下方向に離間した下部フレームと上部フレームとがなす4つの側面に設けられ所定方向に位置する一対の側面の一方に上記基板の搬入口が形成され他方に上記基板の搬出口が形成された側壁部材11と、下部フレームに所定間隔で架設されそれぞれの上面に第1の基準面18が形成された複数の連結部材9と、第1の基準面を基準にして取付けられ搬入口から内部に搬入された基板を搬出口に向かって搬送する搬送ユニット29と、下部フレームの開口部分を閉塞する底部材21a,21bと、上部フレームの開口部分を閉塞する天井部材25によって構成されている。 (もっと読む)


【課題】基板の処理品質を向上させることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置1は、基板Wを保持するスピンチャック3と、スピンチャック3の周囲を取り囲む有底筒状の処理カップ6と、スピンチャック3および処理カップ6を収容する処理室2と、処理室2内に清浄空気を供給して、処理室2内に清浄空気の下降気流を形成するFFU(ファン・フィルタ・ユニット)11と、処理カップ6内の雰囲気を排気するための吸引機構33と、処理カップ6の周囲において処理室2内を上下に仕切る仕切板7とを備えている。 (もっと読む)


【課題】複数の液処理装置に均一に気体を供給することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】給気ユニット41は、塗布処理ユニット129の上方に設けられる。塗布処理ユニット129は、2つのカップ27を有する。給気ユニット41は、空気流通部91およびフィルタ装置94,95を備える。空気流通部91内には、開口912,913が形成される。開口912は、2つのカップ27のうちの一方のカップ27の上方に形成され、開口913は、他方のカップ27の上方に形成される。フィルタ装置94は、開口912を覆うように設けられ、フィルタ装置95は、開口913を覆うように設けられる。開口912,913上には、複数の気流調整部材97が設けられる。 (もっと読む)


【課題】被処理体へのパーティクルの付着を抑制できる雰囲気清浄化装置を提供すること。
【解決手段】ウエハWの位置する雰囲気にダウンフローを形成するFFU15と、ウエハWの位置する領域よりも上方位置に領域を挟んで対称に配置され、各々ダウンフローに対して正または負の一方に帯電した気体を供給する複数のイオナイザー5と、イオナイザー5の電極に印加されている電圧と同符号の直流電圧をウエハWに印加する電源とを備え、イオナイザー5同士を互いに向き合わせた。この結果パーティクルに対して適切な静電斥力を作用させることができるので、微細なパーティクルであってもウエハWへの付着を低減することができる。 (もっと読む)


【課題】処理カップ内における気液分離効率を低下させることなく、処理カップからの薬液のミストの漏出を防止または抑制することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】処理カップ25の上段には、第2構成部材22の第2案内部38の上端部38bと第3構成部材23の上端部23bとの間に、ウエハWの端面に対向し、第1薬液を捕獲する第1薬液捕獲口としての第3開口57が形成される。処理カップ25内の下段には、傾斜部41の先端部と第4構成部材24の傾斜部46の先端部との間に、第1雰囲気捕獲口58が形成される。第3開口57と第1雰囲気捕獲口58との上下方向における中間位置(中段)に、処理カップ25内に下降気流を発生するための羽根部材61が配置されている。羽根部材61は、スピンチャック3のスピンベース8に、一体回転可能に設けられている。 (もっと読む)


【課題】基板表面に形成された厚膜等の被乾燥物を乾燥むらなく短時間で乾燥させることができる基板の乾燥方法及び乾燥炉を提供する。
【解決手段】溶剤を含む被乾燥物が表面に形成された基板を、その被乾燥物形成面側を上方にして乾燥炉内に略水平に設置し、ガス供給手段から出力される溶剤ガスを加熱し、その加熱溶剤ガスを基板下部から供給して基板上の被乾燥物を乾燥させ、被乾燥物の上方近傍の溶剤ガスの溶剤濃度を測定し、溶剤濃度が所定の濃度となるように溶剤ガス供給手段の出力溶剤濃度を制御する。 (もっと読む)


【課題】 ブラシアセンブリ及びこれを有する基板洗浄装置が開示される。
【解決手段】 ブラシを用いて基板を洗浄するための装置において、ブラシアセンブリは工程チャンバー内で回転可能に配置されるシャフトと、前記シャフトの中央部位に配置され、基板を洗浄するための洗浄液の供給を受け、基板の表面と接触して前記基板の洗浄を行うブラシと、前記基板を洗浄する間、前記ブラシに供給された洗浄液が前記シャフトに沿って前記シャフトの端部に向かって流れることを防止するために気流を発生させる送風ユニットを含む。従って、前記ブラシに供給された洗浄液が前記工程チャンバーの外部に漏洩することが防止されることができる。 (もっと読む)


【課題】被処理基板の適切な回転数による処理を最適にし、膜厚の均一化を図り、膜質の低下を抑制し、かつ、ミストの基板への再付着を防止すること。
【解決手段】ウエハWを保持するスピンチャック40と、スピンチャック40を回転駆動するモータ41と、ウエハにレジスト液を供給するレジストノズル42と、スピンチャックを収容する上端が開口した処理容器43と、処理容器の底部から排気する排気手段44と、を具備する基板処理装置において、処理容器の内周側に配設され、ウエハの表面側の気流を排気手段側に流す多翼遠心ファン50と、モータと多翼遠心ファンの駆動電源51aとに接続され、ウエハの回転数に対応して多翼遠心ファンの回転数を制御するコントローラと、を具備する。コントローラからの制御信号により多翼遠心ファンを回転して、ウエハの回転により生ずるウエハ表面上の周方向に流れる乱気流を、放射方向に流れる層気流に補正する。 (もっと読む)


【課題】基板にウォーターマークが発生することを防止でき,かつ,低コストを図ることができる基板処理方法,記録媒体及び基板処理装置を提供する。
【解決手段】複数種類の薬液を用いて基板Wを処理した後,基板Wを乾燥させる方法であって,第一の薬液で処理する第一の薬液処理工程と,前記第一の薬液処理工程の後に第二の薬液で処理する第二の薬液処理工程と,前記第二の薬液処理工程の後に基板Wを乾燥させる乾燥処理工程とを行い,少なくとも前記乾燥処理工程において,基板Wの周囲の湿度を前記第一の薬液処理工程時よりも低減させる。 (もっと読む)


【課題】 枚葉式の回転式基板処理装置において、使用した薬液の回収率を高める。装置価格を引き下げる。振動を抑える。薬液と廃液の雰囲気分離を行う。
【解決手段】 基板1を水平に支持して回転させる回転機構10の周囲に、基板1から飛散する液体を受けるカップ20を設ける。カップ20に、筒状で昇降式の上段液体ガイド30及び下段液体ガイド40を組み合わせる。上段液体ガイド30は、下方の待機位置で下段液体ガイド40に重なって、両ガイド間に形成される液体導入口を閉じ、待機位置から上方の回収位置へ移動して、基板1から飛散する第1の液体をカップ20の外へ導く。下段液体ガイド40は、待機位置から上方の回収位置へ移動して、基板1から飛散する第2の液体をカップ20内へ導く。 (もっと読む)


【課題】 回転式基板処理装置において、使用した薬液の回収率を高める。装置価格を引き下げる。振動を抑える。薬液と廃液の雰囲気分離を行う。
【解決手段】 基板1を水平に支持して回転させる回転機構10の周囲に、筒状で昇降式の上段液体ガイド30及び下段液体ガイド40を設ける。上段液体ガイド30は、下方の待機位置で下段液体ガイド40に重なって、両ガイド間に形成される液体導入口を閉じ、待機位置から上方の回収位置へ移動して、基板1から飛散する第1の液体を下方に導いて回収する。下段液体ガイド40は、待機位置から上方の回収位置へ移動して、基板1から飛散する第2の液体を下方に導いて回収する。 (もっと読む)


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