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Fターム[5F157CF82]の内容

半導体の洗浄、乾燥 (54,359) | 構成要素細部 (6,182) | 監視記録 (12)

Fターム[5F157CF82]に分類される特許

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【課題】検査対象基板上の異物を確実に除去することができる基板検査装置の提供。
【解決手段】基板検査装置1は、マスク116、複数の粘着性粒子が離脱可能に設けられた剥離シート20、および粘着部材22が装着されるマスクホルダ117と、マスクホルダ117に対してマニピュレータ(例えばナノピンセット10)と検出部41とが設けられた検出ヘッド113を相対移動させる移動手段である鉛直方向駆動機構123および水平方向駆動機構124と、制御装置200を備えている。制御装置200は、剥離シート20に設けられた複数の微小吸着粒子のいずれか一つをマニピュレータで保持して離脱させ、微小吸着粒子を保持したマニピュレータを異物の位置へ移動し、異物を粘着性粒子に付着させてマスク116から除去し、異物が付着した微小吸着粒子を粘着部材22に付着させて移送する。 (もっと読む)


【課題】基板処理装置を検査するためのレシピを自動生成することによって、基板処理装置の検査工程を確実かつ簡単にする。
【解決手段】基板処理装置の制御装置15は、コンピュータ16と記憶装置19とを備えている。記憶装置19には、基板処理制御プログラムおよび検査レシピ自動生成プログラムが格納されており、さらに、レシピ、構成定義データおよび動作条件データを記憶できるようになっている。コンピュータ16は、検査レシピ自動生成プログラムを実行することにより、基板処理装置が備える複数の構成要素を動作させるための処理手順を記述した検査レシピを生成して記憶装置19に登録する。その際、コンピュータ16は、構成定義データおよび動作条件データに基づいて、検査レシピを構成する処理手順を生成する。 (もっと読む)


【課題】プラズマ処理における異常放電の原因を究明するための有用なデータを取得するとともにトレーサビリティを確保することができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】基板9を処理室3a内に収容してプラズマ処理を行うプラズマ処理装置において、処理室3a内の異常放電を検出する放電検出センサ23、処理室3a内を窓部2aを介して撮影して動画データを出力するカメラ26を備え、異常放電を検出した場合には異常放電の検出時点を含む時間帯に対応する動画データを記憶させ、異常放電を検出しない場合には正常な放電状態を示す動画または静止画のデータを、プラズマ処理が行われたことを示す正常履歴画像データとして記憶させる。これにより、異常放電の原因を究明するための有用なデータを取得するとともにトレーサビリティを確保することができる。 (もっと読む)


【課題】基板処理動作の停止を要することなく必要な装置情報を複製でき、かつ、必要な装置情報のバックアップに要する時間を短縮できるようにする。
【解決手段】基板処理装置の動作に関する履歴情報を含む装置情報を記憶する第1記憶手段41と、前記装置情報の複製情報を記憶するための第2記憶手段42とが設けられている。第1記憶手段41に記憶された装置情報の複製情報の格納先であるミラーリングフォルダ50が第2記憶手段42の記憶領域内に設定される。操作者がデバッグログ保存ボタン45を操作すると、ミラーリングフォルダ50Aが新規作成され、従前のミラーリングフォルダ50はリネームされてデバッグログフォルダ54となる。第1記憶手段41に記憶されている最新の装置情報の複製情報は、ミラーリングフォルダ50,50Aに格納され、かつ、定期的に更新される。 (もっと読む)


【課題】作業性を損なうことなくロードポート部上のフープの光学式記号を容易に読み取ることができるフープ洗浄装置を提供する。
【解決手段】ロードポート部4の載置面14に光を透過する透過窓17を形成し、透過窓17の下方に、ロードポート部4上のフープ3の光学式記号7を透過窓17越しに読み取る記号読取部18を設けたものである。 (もっと読む)


【課題】プラズマ放電の状態を適正に監視して、異常放電の予兆を検出することができるプラズマ処理装置およびプラズマ処理装置における放電状態監視方法を提供することを目的とする。
【解決手段】処理室内のプラズマ放電の変化に応じて放電検出センサ23に誘発され、信号記録部20に記録された電位変化の信号を信号解析部30によって検出して行われる放電状態監視のための解析処理において、電極部と処理対象物との間で発生する異常放電(第一アーク放電)の信号を第一検出部33によって検出したカウンタ値N3と、処理室内の異物堆積により発生する微小アーク放電(第二アーク放電)の信号を第二検出部35によって検出したカウンタ値N4に基づき、異常放電判定部39によって差(N3−N4)を求めて判定用のしきい値a2と比較して、処理室内における異常放電の発生の可能性の有無を判定する。 (もっと読む)


【課題】基板の状態を容易かつ正確に確認することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置10は、基板Wの板面が水平方向に沿うようにして当該基板を回転させながら処理する装置である。基板処理装置10は、上方に突出した突出部材22を複数有した回転可能なベースプレート20を含むテーブル15と、ベースプレートを回転駆動する回転駆動機構35と、を備える。テーブルは、突出部材が基板に下方から接触して、当該基板とテーブルとの間に隙間Gを形成するようにして基板を回転保持し得る。基板処理装置10は、基板の中央部Waに対面する位置において隙間にその一端が開放された圧力測定用管路51と、圧力測定用管路の他端に連結された圧力センサ53と、を有する圧力監視装置50を、さらに備える。 (もっと読む)


【課題】超音波発振子から発せられる超音波を洗浄液の加振に効率よく利用しつつ、超音波発振子の作動状況と洗浄液の吐出圧力を含めて洗浄液の吐出状態を監視できる超音波洗浄装置を提供すること。
【解決手段】超音波洗浄装置は、洗浄すべき基板を搭載して回転する回転テーブルと、超音波発振子を有し超音波が印加された洗浄液を吐出して基板の洗浄処理を行う洗浄ノズルと、洗浄ノズル近傍の湿度を測定する湿度センサと、湿度センサによって測定される湿度を監視する監視部とを備える。 (もっと読む)


基板洗浄チャンバは、例えば消耗セラミックライナ、基板加熱台座部及び処理キット等の様々な構成部品を備える。消耗セラミックライナは、遠隔ガスエナジャイザのガス出口チャネルを基板洗浄チャンバのガス入口チャネルに接続するために設置される。基板加熱台座部は、配列された凹部内に複数のセラミックボールが位置決めされた基板受け面を有する環状プレートを備える。処理キットは、トッププレート、トップライナ、ガス分散プレート、ボトムライナ及びフォーカスリングを備える。
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【課題】基板自体を研磨してしまうことなく、基板のエッジ部に強固に付着した異物を良好に除去することができる基板洗浄装置および基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板洗浄装置1は、0.3MPa以上かつ2.7MPa以下の圧縮弾性率を有する弾性材料により構成された当接部材32を、基板Wのエッジ部Eに当接させることにより、エッジ部Eに付着した異物を除去する。このため、基板Wのエッジ部を研磨してしまうことなくエッジ部Eに強固に付着した金属膜やスラリー等の異物を良好に除去することができる。また、当接部材32を構成する弾性材料の中には、砥粒としてのシリカが混入されているため、エッジ部Eに強固に付着した異物を良好に剥離しつつ除去することができる。 (もっと読む)


【課題】プラズマの放射状態を画像イメージとして取得した後、該画像イメージのピクセル情報を制御部で分析して、プラズマの放射状態をリアルタイムに観察することができるようにしたプラズマモニタリング装置を提供すること。
【解決手段】本発明のプラズマモニタリング装置は、プラズマモニタリング装置であって、電源を供給する電源供給部と、反応ガスを供給する供給ラインと、内部で発生するプラズマを処理対象物に向かって放射する放射ノズルとが形成されるプラズマ供給手段と、該プラズマ供給手段から放射されるプラズマの放射状態を画像イメージとして取得するカメラ部と、該カメラ部の画像イメージのピクセル情報を数値化させて得た測定値を正常的な放射状態の基準値と比較して、プラズマの放射状態を検査する制御部とを備えて達成される。
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【課題】酸性薬液に含まれるフッ化物濃度を、フッ化物イオン電極を用いて、酸濃度の変動に対して安定に測定することが可能であり、測定時に緩衝剤が結晶化しない中和剤を提供する。
【解決手段】中和剤11には、pH5から8に緩衝能を有する緩衝剤と、前記緩衝剤が実質的に析出しない濃度C(C≦C≦C)に設定したアルカリ化剤とを含んでいる。 (もっと読む)


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