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Fターム[5F157DC88]の内容

半導体の洗浄、乾燥 (54,359) | その他の課題の解決 (1,637) | エネルギー節減、動力伝達ロス減 (608) | 消耗部品の長期使用 (67)

Fターム[5F157DC88]に分類される特許

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【課題】フィルタの寿命を延ばすことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置1は、基板Wに供給される処理液をろ過するフィルタ16を内部で保持するハウジング17と、ハウジング17に保持されている状態のフィルタ16の温度を変化させるフィルタ洗浄機構22とを含む。フィルタ洗浄機構22は、ハウジング17に保持されているフィルタ16を加熱および/または冷却することにより、フィルタ16の温度を変化させて、フィルタ16に対する異物の結合力を低下させる。 (もっと読む)


【課題】
試料台保護部材の消耗を抑制することで試料台保護部材の寿命を延長し、装置稼働率の向上と試料台が露出することによる試料台の消耗を防ぐことができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】
円板状の試料台112と、試料台112の側面の消耗を低減するための試料台保護部材(206、203、200)とを備えたプラズマ処理装置において、試料台保護部材(図面上では203)を冷却するための冷却用ガス流路205を有する。また、イオンを試料台保護部材200へ引き込む導体リング201や、試料台保護部材203と試料128との距離を調整する機構(204、250〜252、260、132)を有する。 (もっと読む)


【課題】保持部材の長寿命化を実現することができる基板保持装置、基板洗浄装置および基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を保持するスピンチャックにおいて、鉛直方向に平行な回転軸の周りで回転可能にスピンプレート520が設けられる。スピンプレート520には、基板保持機構700の支持部720が取り付けられる。支持部720により軸部730が軸部730の中心軸の周りで回転可能に支持される。略円柱形状を有する保持ピン710が、軸部730により周方向に回転可能に保持される。軸部730が回転することにより、保持ピン710の外周面が基板の外周端部に当接する状態と保持ピン710の外周面が基板の外周端部から離間する状態とに移行する。軸部730においては、ねじN1が締め込まれることにより保持ピン710の周方向の回転が阻止され、ねじN1が緩められることにより保持ピン710の周方向の回転が許容される。 (もっと読む)


【課題】内部に希ガスが封入された長尺な発光管と、その外表面の電極と、前記発光管の光出射部を除いた内壁面上に形成された紫外線反射膜とを備えるエキシマランプにおいて、紫外線による変形による該エキシマランプの反り返りを規制する移動規制体を備えたエキシマ光照射装置に搭載した際に、紫外線歪と該反り規制歪の蓄積によって早期に発光管が損傷することを防止する。
【解決手段】エキシマランプ3の発光管31の軸方向の中央部が、該発光管の光出射部の方向に突出するように湾曲していることを特徴とし、該エキシマランプを搭載するエキシマ光照射装置は、その筐体には該エキシマランプの中央部において紫外線反射膜形成部側から当接する移動規制体を設けるとともに、光出射部側から当接する矯正維持部材を設け、前記エキシマランプは該矯正維持部材によって管軸方向において直線状に矯正されて保持される。 (もっと読む)


【課題】水蒸気中の不純物を低減することで基板上の微粒子等を確実に除去すること。
【解決手段】純水PWを加熱沸騰させて水蒸気を発生させる石英ガラス製の水蒸気発生容器110と、水蒸気発生容器110に純水PWを供給する純水供給部400と、水蒸気発生容器110で発生した飽和水蒸気SVを加熱して過熱水蒸気HVを生成する石英ガラス製の過熱水蒸気生成容器150と、過熱水蒸気生成容器150で発生した過熱水蒸気HVを基板Wの表面に噴射させる基板処理装置300とを備えている。 (もっと読む)


【課題】誘電体バリア放電方式の放電部の耐久性を向上させる。
【解決手段】プラズマ処理装置は、誘電体バリア放電方式のプラズマ源の近傍に、コロナ放電方式のプラズマ源を設置し、コロナ放電によって生成されるプラズマを補助プラズマとして用いて、誘電体バリア放電によって生成される主プラズマの放電維持電圧を低下させる。 (もっと読む)


【課題】エッチング処理の精度を維持しつつ、フィルタの目詰まりを抑制する半導体製造装置および処理方法を提供する。
【解決手段】半導体製造装置100は、半導体ウエハをエッチング処理するための所定処理液を収容するエッチング処理槽2と、エッチング処理にて前記所定処理液中に生じるパーティクルを捕捉する第1および第2フィルタ5a,5bと、前記パーティクルを溶解する液体として、前記所定処理液と同じ液体の予備液を収容する予備槽7と、処理槽2内の処理液を第1フィルタ5aに通して循環させるとともに予備槽7内の液体を第2フィルタ5bに通して循環させ、その後、処理槽2内の処理液を廃棄した後、該処理槽に予備槽7内の液体を供給し、かつ、該予備槽に新たな予備液を供給して、処理槽2内の液体を第2フィルタ5bに通して循環させるとともに予備槽7内の液体を第1フィルタ5aに通して循環させる制御部90と、を含む。 (もっと読む)


【課題】スループットを低下させることなく、ろ過効果を高めることが可能な薬液供給システムを提供する。
【解決手段】開示される薬液供給システムは、薬液を貯留する第1の容器および第2の容器と、第1の容器と第2の容器とを繋ぐ第1の配管に設けられ、第1の容器に貯留される薬液を第2の容器へ流す第1のポンプと、第1の配管に設けられ、第1の容器から第2の容器へ向かって第1の配管内を流れる薬液をろ過する第1のフィルタと、第1の容器と第2の容器とを繋ぐ第2の配管と、第2の配管に設けられ、第2の容器に貯留される薬液を第1の容器へ流す第2のポンプとを備える。 (もっと読む)


【課題】露光ユニットを大気開放することなくレチクルステージを洗浄することができる洗浄用レチクル、レチクルステージの洗浄方法及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】極端紫外線露光装置のレチクルステージの洗浄方法において、基板上にパーティクル取込層が形成された洗浄用レチクルのパーティクル取込層をレチクルステージに押し付ける工程と、洗浄用レチクルをレチクルステージから剥離する工程と、基板上からパーティクル取込層を除去する工程と、パーティクル取込層が除去された基板上に新たにパーティクル取込層を形成する工程と、を設ける。 (もっと読む)


【課題】紫外線ランプに対して、隣接ランプ管から放射される紫外線の影響を減少させること
【解決手段】この紫外線照射装置(16-2)は、複数本の紫外線ランプ(L1,L2,…)を並列配置した紫外線照射装置であって、座標軸を、前記複数本の紫外線ランプの並列方向をX方向、各紫外線ランプの照射方向を−Y方向、各紫外線ランプ軸線方向をZ方向と規定したとき、隣接する2本の紫外線ランプ相互間にZ方向に延在する遮蔽板(26)を備え、前記遮蔽板の−Y方向高さは、隣接する紫外線ランプ(L1)の光源をランプ中心(C1)にある点光源(S1)と見なして、各紫外線ランプ管のいずれの箇所からも隣接する紫外線ランプの点光源を視認できない高さとする。 (もっと読む)


【課題】 基板の周端部の傾斜部を含めて確実に洗浄や研磨の処理を実施することができるばかりか支持手段も複雑でなく自身の耐久性にも優れた処理手段を有する基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板を支持する基板支持手段と、所定の径を有するとともに先端に形成した中心に凹部を形成する平面を処理部としたPVAスポンジからなる処理手段と、基板支持手段に支持させた基板の軸線に対してその処理手段をその軸線が直角になるように処理部を基板の周縁部に向けて所定位置に支持する処理手段の支持手段と、処理手段の支持手段に付設されて処理手段の回転手段とを有する。 (もっと読む)


ブラシボックス内に配置された円柱状ローラの処理表面をコンディショニングするための方法および装置を記載する。一実施形態では、ブラシボックスを記載する。ブラシボックスは、内部容積を有するタンクと、内部容積内に少なくとも部分的に配置された1対の円柱状ローラであって、円柱状ローラの各々が、それぞれの軸の周りを回転可能である、1対の円柱状ローラと、円柱状ローラが近接している第1の位置と円柱状ローラが互いに間隔を空けて離れている第2の位置との間でそれぞれの円柱状ローラを移動させるために円柱状ローラの各々に連結されたアクチュエータアセンブリと、円柱状ローラの各々のためのコンディショニング装置であって、各コンディショニング装置が内部容積内に配置されたコンディショナを含み、ローラが第2の位置にあるときに、コンディショナが円柱状ローラの各々の外側表面と接触する、コンディショニング装置とを含む。
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【課題】強度が強く、耐食性に優れるスイングノズルユニット及びそれを有する基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、基板が置かれるスピンヘッドを含む基板支持部材と、前記スピンヘッドの周りを囲むように設置されて基板上から飛散する処理流体を回収する処理容器と、スイング方式で回転し、前記スピンヘッドに置かれた基板に処理流体を噴射するスイングノズルユニット等を具備する。前記スイングノズルユニットは、処理流体供給チューブが位置する内部通路を形成する内側樹脂パイプと、前記内側樹脂パイプを囲むように設置される金属パイプと、前記金属パイプを囲むように設置される外側樹脂パイプからなるノズル体を有するノズル部と、前記ノズル部のθ軸回転及び昇降移動のための駆動部を具備する。 (もっと読む)


【課題】発熱体の劣化を防止しつつ、流体の加熱効率を高めた流体加熱装置およびそれを用いた基板処理装置を提案する。
【解決手段】非磁性材料より成り内部空間内に流体が給送される配管5と、配管5の外側に巻回される誘導加熱コイル6と、磁性材料より成り誘導加熱により発熱される発熱体7とを具備してなり、誘導加熱コイル6に高周波電流を流して発熱体7を発熱させ、発熱された発熱体7により配管5内を流れる流体を加熱する流体加熱装置において、配管5は、内部中空を有する筒状の本体部50と、本体部50の軸中心C上に沿って内部空間の中途部まで延出されるとともに、本体部50の内部空間と区画されかつ外部空間と連通される収容部51とが設けられ、発熱体7が収容部51に収容されて配設される。 (もっと読む)


【課題】
洗浄物の大形化や搬送の高速化に対応でき、効率を改善した、無声放電ランプおよびこれを用いた照射装置を提供する。
【解決手段】
放電管軸と直交する断面が非円形状であるエキシマ光を放射する無声放電ランプにおいて、少なくともエキシマ光を透過する1面が円弧状に膨らんだ形状とし、外圧に対する強度を増すことによって、誘電体の厚みを薄くし、ランプの効率を改善する。このランプと反射筒とを並列に配置し、ランプから横向けに放射される無駄な光の進行方向を被照射体方向に変更し、被放射体への照射効率を改善するように、照射装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハに対してレジスト膜を形成し、露光後のウエハに対して現像を行う、塗布、現像装置において、例えばレジスト膜形成前のウエハに対して疎水化流体により疎水化処理を行うことによりウエハの裏面の周縁部が疎水化状態になる。このウエハの裏面を洗浄液とブラシとを用いて洗浄するとブラシが削れてウエハの裏面が汚染され、露光に不具合が生じる。そこでウエハの裏面を良好に行える手法を提供する。
【解決手段】露光前のウエハWを水平保持し、鉛直軸周りに回転させるスピンチャック10と、回転するウエハWの裏面51を、自転しながら洗浄する洗浄ブラシ30と、洗浄時にウエハWの裏面51に洗浄液Sを供給する洗浄液ノズル15と、を用い、少なくともウエハWの周縁部52を洗浄するときに、ウエハWの回転数80rpm以下となるように制御する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、材料、粒子、または化学物質を基板から除去するためのブラシまたはパッドを作製する方法および材料を提供する。
【解決手段】ブラシまたはパッドは、多孔性パッド材料を支持するための回転可能ベースを含む。ベースは、内表面および外表面を含み、かつ多孔性パッド材料をベースと互いにかみ合わせるための複数のチャネルをベースに含む。多孔性パッド材料は、ベースの外表面の少なくとも一部を覆い、材料を様々な基板から除去するために使用される。多孔性パッド材料は、ベースのチャネルの1つまたは複数を充填し、多孔性パッド材料をベースと互いにかみ合わせる。チャネルは、ベースの前記内表面を外表面と流体接続し、多孔性パッド内における多孔性パッドノードの位置合わせおよび流体の分布を補助することが好ましい。 (もっと読む)


【課題】ランプ温度に影響を受ける紫外線ランプと冷却ユニットとの距離に制限を加えることで、高入力電力の場合での早期の失透や黒化等を抑制する。
【解決手段】紫外線透過性の石英ガラスで気密性を有する放電空間13を備えた発光管14内の軸方向に一対の放電用の電極15a,15bを対向して配置する。放電空間13内にアーク放電させた状態を維持するために十分な量の希ガス、水銀、ハロゲン、発光金属からなる封入物を封入することで紫外線ランプ100を構成し、点灯時に紫外光を発光させる。紫外線ランプ100は、内管21と外管22との間に紫外線ランプ100を冷却させる冷却液24を循環させ、紫外線を透過させる二重構造の冷却ユニット200の内管21内に収容する。紫外線ランプ100と冷却ユニット200の内管21との距離D[mm]と紫外線ランプ100の入力電力P[W/cm]は、D≦−0.2P+35の関係を満足するものとした。 (もっと読む)


【課題】移動電極及び筒状容器の一方の端壁の間の空間におけるプラズマの発生を抑制することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置10は、ウエハWを収容する筒状のチャンバ11と、該チャンバ11内においてチャンバ11の中心軸に沿って移動自在なシャワーヘッド23と、チャンバ11内においてシャワーヘッド23に対向するサセプタ12と、シャワーヘッド23及びチャンバ11の蓋14を接続する伸縮自在なベローズ31とを備え、シャワーヘッド23及びサセプタ12の間に存在する処理空間PSに高周波電力が印加されるとともに処理ガスが導入され、シャワーヘッド23及びチャンバ11の側壁13は非接触であり、シャワーヘッド23及び蓋14の間に存在する上部空間USに第1のキャパシタ層32及び第2のキャパシタ層33が配設される。 (もっと読む)


本発明は、高圧処理器に関し、本発明による高圧処理器は、高圧の二酸化炭素が内側に供給され、該高圧の二酸化炭素でウェーハを洗浄することができる収納空間部と、該収納空間部の前段で該収納空間部の高さよりさらに高い空間である開閉空間部とを備える本体と;前記本体の収納空間部に固定設置されて前記ウェーハを実装し、前記流入された高圧の二酸化炭素を前記ウェーハの表面に沿って流れるようにして洗浄するウェーハ支持部と;前記本体の開閉空間部の一側を密閉し、且つ、前記ウェーハのローディング及びアンローディングが可能な開口部が設けられたドアカバーと;前記開閉空間部内で上下移動が可能であり、前記ドアカバー側に前後移動が可能なドアと;前記ドアを上下方向に駆動させるドア駆動部と;を含む。このような構成の本発明は、気密部分が高圧の二酸化炭素に露出することを最小化し、気密部の寿命を延長させることができるという効果があり、ドアを上下及び前後に移動させることができるようにして、気密性を向上させると共に、上下駆動時に周辺との摩擦を最小化し、摩耗量を低減し、高圧処理器の寿命を延長させることができ、異物の発生を防止することができるという効果がある。 (もっと読む)


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