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Fターム[5G305CA26]の内容

有機絶縁材料 (10,536) | 有機高分子化合物 (2,401) | 珪素樹脂(シリコーン樹脂) (71)

Fターム[5G305CA26]に分類される特許

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【解決手段】熱可塑性樹脂製のコアの外周にシリコーンゴム組成物を被覆、硬化させて碍子又は碍管の形状に成形したポリマー碍子の高電圧電気絶縁特性を改善する方法であって、上記シリコーンゴム組成物として、
(イ)有機過酸化物硬化型又は付加硬化型のオルガノポリシロキサン組成物、
(ロ)シリカ微粉末、
(ハ)水溶性Naイオン含有量が0.01重量%以下であり、30重量%水スラリーが6.5≦pH≦8.0でかつ電気電導度50μs/cm以下である水酸化アルミニウム
を含有してなる高電圧電気絶縁体用シリコーンゴム組成物を使用するポリマー碍子の高電圧電気絶縁特性を改善する方法。
【効果】本発明によれば、過酷な大気汚染、塩害あるいは気候に晒された条件下でも、耐吸水性、耐電気特性、耐候性、撥水性、防汚性、耐電圧性、耐トラッキング性、耐アーク性、耐エロージョン性等の高電圧電気特性に優れた碍子を与える。 (もっと読む)


【課題】優れた遮光性、隠蔽性を有し、かつ、電気特性および保存安定性が良好な室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を提供する。
【解決手段】(A)分子中に2個以上のケイ素官能基を有し、23℃における粘度が0.02〜1000Pa・sであるポリオルガノシロキサン100重量部に対して、(B)架橋剤0.5〜15重量部、(C)硬化触媒0.01〜15重量部、および(D)粒子径が20μm以下、窒素吸着比表面積が200m/g以上で、かつ、DBP吸油量が100cm/100g以下のカーボンブラック0.01〜10重量部を配合する。 (もっと読む)


【課題】フッ素含有のシラン系化合物を用いて有機薄膜トランジスタの電荷移動度およびヒステリシスを改善させ、スレショルド電圧および電荷移動度などの物性を向上させて液晶ディスプレイ、光電変換素子などの各種電子素子の製造に有用に活用することが可能な有機薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】基板1、ゲート電極2、有機絶縁膜3、有機半導体層6、およびソース/ドレイン電極4、5を含む有機薄膜トランジスタにおいて、前記有機絶縁膜3が有機絶縁体組成物から形成されることを特徴とする、有機薄膜トランジスタを提供する。 (もっと読む)


【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適し、均一な厚さに形成可能で、しかも誘電率特性、膜強度に優れた絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】式(I)で表される化合物、および、ビニル基またはエチニル基を分子内に計2個以上有する化合物、または、それらの重合物を含む膜形成用組成物、絶縁膜、およびその製造方法。


式(I)中、R1,R2はそれぞれ独立にHまたは置換基、複数個のR1,R2両者の置換基のうち1つは(R33−Si−O−で表される基。mは4〜30を表す。R3はHまたは置換基。複数個のR1〜R3のうち、少なくとも2つはHを表す。R1〜R3は水酸基および加水分解性基を表さない。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、電気絶縁性、機械特性、耐錆性に優れた高性能なエネルギー変換機器および高性能エネルギー変換機器用部材を提供する。
【解決手段】 電気機器部品の表面に施す絶縁被膜剤に、シリコンポリマ−のベ−ス液に酸化物,水酸化物,炭酸塩,珪酸塩の1種または2種以上を添加した高抜熱性絶縁被膜剤。添加剤の平均粒子径が20μm未満。硬化剤として,Zn系,Al系,Fe系,燐酸系,アミン系のいずれか1種または2種以上の硬化剤が縁被膜剤全体の1〜20質量%添加する。添加剤の分散方法として,添加剤をあらかじめ、シリコンポリマ−系の被膜剤で被覆処理し,溶剤に分散処理し,超音波処理を施して均一分散の後、ベ−ス液に添加する高抜熱性絶縁被膜剤の分散方法。沸点が100℃超の溶剤を用いる。まず40℃以上,80℃以下にて30分〜180分保持して乾燥させた後,さらに120℃〜250℃で高温乾燥を行う。 (もっと読む)


低誘電率重合体は、一般式I:(R1-R2)n-Si-(X1)4-n(ここで、X1はそれぞれ独立して水素及び無機脱離基から選択され、R2は任意の基であって1〜6個の炭素原子を有するアルキレン又はアリーレンを備え、R1はポリシクロアルキル基であり、nは整数1〜3である)で表される化合物から誘導された単量体単位を備える。重合体は優れた電気的及び機械的特性を有する。 (もっと読む)


【課題】
充分な厚みをもつポリシラザン被膜を、クラックを発生させることなく形成し、これにより、十分な絶縁耐圧を有する金属板被覆用の材料と、この材料を使用して前記隔壁等のフラットパネルディスプレイ用部品及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
ポリシラザン溶液の溶媒中に粉体1と粉体2を分散させ、これを絶縁被膜形成用材料として金属板に被膜し、それぞれの直径の関係が、D2≦(√2―1)×D1
となるような2種類の粉体1(直径D1)、粉体(直径D2)を選定し、これをポリシラザン溶液の溶媒中に分散させ、これを絶縁被膜形成用材料として金属板に被膜したところ、粉体の間に充填されるポリシラザン自体の厚さが薄くなり、厚い膜厚の電気絶縁性シリカ被膜を、クラックを発生することなく形成できた。 (もっと読む)


【課題】 低い誘電率の絶縁材料を形成できる化合物、該化合物を含有する絶縁材料形成用組成物、該組成物より得られる絶縁材料を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表される化合物、その加水分解物および/または縮合物を含有することを特徴とする絶縁材料形成用組成物。
【化1】


一般式(1)中、R1〜R8は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基又はシリルオキシ基を表わす。ただし、R1〜R8で表される基のうち少なくとも1つは、置換基として下記一般式(2)で表わされる基を有するアルキル基、アリール基、アルコキシ基又はシリルオキシ基を表わす。
【化2】


一般式(S2)中、Xは加水分解性基を表し、R9はアルキル基、アリール基又はヘテ
ロ環基を表す。mは1〜3の整数を表わす。 (もっと読む)


【課題】吸湿性の高い絶縁部を容易に形成することができる絶縁体組成物、信頼性の高い有機半導体装置、電子デバイスおよび電子機器を提供すること。
【解決手段】絶縁体組成物は、有機半導体装置が備える絶縁部の形成に用いられるものであり、置換基に有機基を有し、特定の構造を有するポリシルセスキオキサン誘導体を含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 低い誘電率かつ高い機械的強度を有する絶縁膜を形成可能な絶縁材料形成用組成物を提供する。
【解決手段】 一般式(1)で表される化合物、その加水分解およびその縮合物から選ばれる少なくとも1種以上のシラン化合物を、置換または無置換のアンモニウム塩存在下で加水分解、縮合して得られる化合物を含有する絶縁材料形成用組成物の製造方法。
【化1】


一般式(1)中、X1は、加水分解性基を表し、R1は、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、n1は1〜3の整数を表し、m1は2以上の整数を表す。L1は単結合または2価の連結基を表し、Aは、かご型構造を含有する基を表す。 (もっと読む)


【課題】 低い誘電率を有する絶縁膜を形成可能な絶縁材料形成用組成物および当該組成物より得られる絶縁膜。
【解決手段】 一般式(1)で表される化合物、その加水分解およびその縮合物から選ばれる少なくとも1種以上のシラン化合物に、一般式(2)で表される化合物を添加して、加水分解、縮合して得られる化合物を含有することを特徴とする絶縁材料形成用組成物。
【化1】


一般式(1)中、X1は、加水分解性基を表し、R1は、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、n1は1〜3の整数を表し、m1は2以上の整数を表す。L1は、単結合または2価の連結基を表し、Aは、かご型構造を含有する基を表す。
【化2】


一般式(2)中、X2は、加水分解性基を表わし、R2〜R4は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基又はビニレン基を表わす。 (もっと読む)


本発明は、下記の定義に相当する少なくとも1種の特定白金化合物を安定化用添加剤として用いた場合には、RTVタイプ、LSRタイプ、重付加EVCタイプ又はEVCタイプのポリオルガノシロキサン組成物から得られるシリコーンエラストマーの非常に高い温度の作用下での分解がごく僅かであることを示すことを目的とする。前記の化合物は、(a)式(I.1)においてA、B、T1、T2、T3、T4、Rc及びRdが請求項1に規定した通りである物質から選択される少なくとも1種の白金錯体;並びに(b)この(a)と、ヘキサクロロ白金酸及びその誘導体、式(PtCl2・オレフィン)2を有する錯体、並びに白金とビニルオルガノポリシロキサンとの錯体のような少なくとも1種の別の白金錯体との組合せ物:を含む群から選択される。本発明に従って安定化されたシリコーンエラストマーから作られた物品は、電気工学の分野において用いるのに有利である。
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【課題】集積回路において階間誘電体として用いる場合の低誘電率材料及びそれを含む膜の性能の改良、並びにその製造方法について明らかにする。
【解決手段】これらの材料は、約3.7又はそれ未満の誘電率(k)、前記材料の誘電率から部分的に導出される約15GPa又はそれよりも大きい標準化壁体弾性率(E′)、及び金属不純物レベルが500ppm又はそれ未満のものとして特徴づけられる。また、約1.95未満の誘電率及び約26GPaを超える前記材料の誘電率から部分的に導出される標準化壁体弾性率(E′)を有する低誘電率材料について開示する。 (もっと読む)


【課題】 本発明の目的は、焼却時や火災時にも有害物質を発生せず、かつ、クリーンルーム等で使用可能な低アウトガスノンハロノンリン難燃性樹脂組成物、並びにこれを用いたシート及びケーブルを提供することにある。
【解決手段】 少なくとも樹脂成分、金属水和物、脂肪酸、低分子量カットシリコーンガムを含有する難燃性樹脂組成物を40〜75℃で48〜72時間加熱処理することによって得られる低アウトガスノンハロノンリン難燃性樹脂組成物において、前記樹脂成分はエチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)及びエチレン−アクリレート(EEA)から成り、前記金属水和物は、脂肪酸で表面処理されたものでり、前記シリコーンガムは、分子量500,000〜600,000であり、分子量600以下の低分子量ポリオルガノシロキサンの含有量が4000ppm以下のものを用いることによって、低アウトガスノンハロノンリン難燃性樹脂組成物を提供する。 (もっと読む)


【課題】十分な絶縁耐圧を有する金属板被覆用の材料と、この材料を使用して前記隔壁等のフラットパネルディスプレイ用部品を製造する方法、及び、こうして得られるフラットパネルディスプレイ用部品を提供することを目的とする。
【解決手段】金属材料101の表面に塗布し、焼成して電気絶縁性皮膜を形成する材料であって、溶媒と、この溶媒に溶解したシリコン系材料と、この溶媒に分散された粉体とを主成分とする絶縁皮膜形成用材料を使用する。 (もっと読む)


【課題】耐トラッキング性が優れた高電圧電気絶縁性シリコーンゴム用組成物、高電圧電気絶縁性シリコーンゴム組成物および高電圧電気絶縁体を提供する。
【解決手段】(A)平均単位式RSiO(4−a)/2(式中、Rは1価の非置換炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基、aは1.8〜2.3)で示され、1分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合アルケニル基を有するオルガノポリシロキサン100重量部、(B)環状ジメチルシロキサンオリゴマーにより疎水化処理した乾式法シリカ10〜100重量部、(C)水酸化アルミニウム粉末10〜400重量部および(D)末端シラノール基封鎖ジオルガノシロキサンオリゴマーまたはシラノール基含有オルガノシラン0〜10重量部からなる高電圧電気絶縁性シリコーンゴム用組成物。上記高電圧電気絶縁性シリコーンゴム用組成物とそれを硬化させるのに十分な量の(E)硬化剤とからなる高電圧電気絶縁性シリコーンゴム組成物。その硬化物からなる高電圧電気絶縁体。 (もっと読む)


【課題】従来技術の欠点を有していない、特にケーブル絶縁材としてのシリコーンゴムおよび特に難燃性であり、かつ火災の場合に低い密度で機能の維持を可能にするケーブル絶縁材を提供する。
【解決手段】該組成物が過酸化物架橋性、付加架橋性もしくは縮合架橋性のシリコーンゴムおよび少なくとも1のロジウム化合物またはイリジウム化合物または両方の化合物の混合物を含有する。
【効果】本発明による難燃性組成物を含有するケーブルおよび異形材は機械的特性、電気的特性および耐熱老化性に関して、通常のシリコーンゴムに匹敵する特性を有する。 (もっと読む)


【課題】高い耐熱性及び難燃性を有するとともに、耐加水分解性、耐摩耗性及び成形性(押出性など)に優れる非ハロゲン系の難燃性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)ポリブチレンテレフタレート(PBT)系樹脂(固有粘度0.8〜1.3のPBT系樹脂など)、(B)熱可塑性ポリエステルエラストマー、(C)ホスファゼン化合物、(D)エポキシ化合物、及び(E)ポリオルガノシロキサンで難燃性樹脂組成物を構成する。各成分の割合は、ポリブチレンテレフタレート系樹脂(A)100重量部に対して、ポリエステルエラストマー(B)25〜150重量部、ホスファゼン化合物(C)5〜40重量部、エポキシ化合物(D)0.5〜20重量部、及びポリオルガノシロキサン(E)0.1〜10重量部程度であってもよい。前記樹脂組成物は、電線などを被覆するのに有用である。 (もっと読む)


【課題】処理されていない水酸化アルミニウムを含有するシリコーンゴム組成物を提供する。
【解決手段】(A)式(1)RSiO(4−a−b)/2の少なくとも1のジオルガノポリシロキサン100質量部、(B)比表面積50〜400m/g、SiO4/2単位のQ4が少なくとも80%の高分散性シリカ1〜100質量部、(C)比表面積0.1〜20m/g、平均粒径0.05〜20μmの表面改質化なしの少なくとも1の水酸化アルミニウム粉末50〜300質量部、(D)架橋剤(有機過酸化物および/またはヒドロペルオキシドあるいは式(2)RSiO(4−c−d)/2のオルガノ水素ポリシロキサンと少なくとも1の遷移金属を含有するヒドロシリル化触媒との組合せ物から選択)を含有するシリコーンゴム組成物により解決された(式中は明細書中に示す)。 (もっと読む)


【課題】改善された貯蔵安定性及び加工性を有する高電圧絶縁体用の難燃性シリコーンゴム組成物を提供する。
【解決手段】下記の(A)〜(E)を含有するシリコーンゴム組成物。(A)不飽和基含有ジメチルポリシロキサン100質量部、(B)50〜300m2/gの比表面積を持つシリカ1〜100質量部、(C)0.1〜20m2/gの比表面積及び0.05〜20μmの平均粒度を有する水酸化アルミニウム50〜300質量部、(D)架橋剤,(E)無機塩基、有機塩基、ケイ素有機塩基、無機酸、有機酸、ケイ素有機酸から選択される化合物0.01〜10.0質量部 (もっと読む)


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