【課題】本発明の課題は、透明性、導電性、及び、可撓性に優れ、しかもプラスチック基材に塗布成膜することが可能な導電性組成物、およびそれを用いてなる導電膜および導電性積層体を提供することである。
【解決手段】スルホン酸系の特定構造を構造単位として含む共役系ポリアニオン（Ａ）と、共役系導電性高分子（Ｂ）とを含有することを特徴とする導電性組成物により解決することができる。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜が形成された透明導電性積層体のＩＴＯ表面に貼合される粘着テープにおいて、透明導電膜の抵抗値の変化を抑制し、且つ、高温高湿度での環境試験後に、白濁が生じない粘着テープの粘着剤組成物の製造方法、粘着剤組成物、それを用いた粘着テープを提供する。
【解決手段】ＩＴＯからなる透明導電膜の該ＩＴＯ表面に貼合される粘着テープの、粘着剤組成物の製造方法であって、少なくとも次の（１）〜（２）の工程を経ることにより、粘着剤組成物を得ることを特徴とする粘着剤組成物の製造方法。（１）アクリル系樹脂からなる感圧型粘着剤組成物に、ヒドロキシル基含有の（メタ）アクリレートのモノマーの少なくとも１種類と、光重合開始剤と、を混合してなる粘着剤用原料混合物を調整する工程。（２）前記粘着剤用原料混合物を用い、光照射による重合反応をさせて、粘着剤組成物を得る工程。 （もっと読む）

【課題】透明フィルム基材上に結晶質のインジウム系複合酸化物膜が形成された長尺状の透明導電性フィルムを製造する。
【解決手段】本発明の製造方法は、インジウムと４価金属とを含有するインジウム系複合酸化物の非晶質膜が、スパッタ法により前記長尺状透明フィルム基材上に形成される非晶質積層体形成工程、および前記非晶質膜が形成された長尺状透明フィルム基材が、加熱炉内に連続的に搬送され、前記非晶質膜が結晶化される結晶化工程、を有する。前記結晶化工程における加熱炉内の温度は１７０℃〜２２０℃であることが好ましい。また、前記結晶化工程におけるフィルム長さの変化率は＋２．５％以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】電極パターンを目立たないようにした透明導電膜とその製造方法を提供する。
【解決手段】透明層の少なくとも１つの面１ａには、凹凸加工により凹部１ｂ及び凸部１ｃが形成されており、凹部１ｂに積層された第１の導電層２ａと凸部１ｃに積層された第２の導電層２ｂとが、凹部１ｂ及び凸部１ｃの凹凸方向において位置をずらして配置されており、第１及び第２の導電層２ａ，２ｂは、それぞれ隣り合う導電層と電気的に絶縁されている。 （もっと読む）

【課題】光透過性が高く、メッシュパターンの細線視認性が低く、かつ支持体側から見た場合の虹状の画像ぼけが低減された透明導電性材料を提供する。
【解決手段】光透過性支持体上に金属メッシュパターンを有し、前記光透過性支持体側から見た金属メッシュパターン部が黒化部および非黒化部から構成され、黒化部の面積に対する非黒化部の面積比が２０〜５０％であることを特徴とする透明導電性材料。 （もっと読む）

【課題】銅ナノ構造体を利用した有用な製品を提供する。
【解決手段】本発明の一観点に係る透明導電膜は、ポリマー中に銅ナノ構造体を分散させた構造となっている。この観点において、銅ナノ構造体は、銅ナノワイヤーであることが好ましく、また、銅ナノ構造体を０．０１ｗｔ％以上１５ｗｔ％以下の範囲で含むことも好ましい。また、本発明の他の一観点に係る透明導電膜の製造方法は、ポリマー溶液中に銅ナノ構造体を加えて混合及び攪拌し、ポリマー溶液を基板上に塗布し、乾燥させる。なおこの観点において、銅ナノ構造体は、銅ナノワイヤーであることが好ましく、銅ナノ構造体が、ポリマー溶液中のポリマー及び前記銅ナノ構造体の重量の和に対して０．０１ｗｔ％以上１５ｗｔ％以下の範囲で含まれることも好ましい。 （もっと読む）

【課題】高い光電変換効率を得るためのダブルテクスチャー構造を有する酸化亜鉛を主成分とする透明導電膜を用いた太陽電池用透明導電性基板、その製造方法、およびこれに用いるターゲットを提供する。
【解決手段】本発明の太陽電池用透明導電性基板は、表面に凹凸（Ａ）を形成した透明基板と、この透明基板の凹凸上に成膜され酸化亜鉛を主成分とした透明導電膜とを備え、この透明導電膜が表面に前記凹凸（Ａ）より小さな凹凸（Ｂ）を有する。 （もっと読む）

【課題】低抵抗、高透過率、適切な表面凹凸をもつ透明導電膜およびその製造方法を提供する。
【課題手段】基板に形成された微細な結晶粒の第１層と、第１層に積層された大きな結晶粒の第２層とを備え、基板の面方向における微細な結晶粒の幅が５０ｎｍ以下で、第１層の厚さが２００ｎｍ以下であり、第２層の厚さが３００ｎｍ以上である透明導電膜によって、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】反射が抑制され、優れた透明性を呈する透明導電層積層基材を提供する。
【解決手段】基材の少なくとも片面に透明導電層２１と光学層２２とが積層され、前記透明導電層２１の膜厚が５ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、かつ前記光学層２２のｎｄが４０ｎｍ以上２２０ｎｍ以下であることを特徴とする透明導電層積層基材１１。（ただし、ｎは波長５５０ｎｍにおける前記光学層２２の平均屈折率を示し、ｄは前記光学層２２の物理膜厚を示し、ｎｄはそれぞれを乗じた値である。） （もっと読む）

【課題】透明導電膜、透明導電膜付き基材、及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子において、透明樹脂層同士の混合を抑制し、一方の透明樹脂層が他方の透明樹脂層によってダメージを受け難く、表面が平滑で導電性が均一とする。
【解決手段】透明導電膜３は、複数の金属細線７を含む第１の透明樹脂層８と、導電性高分子を含む第２の透明樹脂層９と、第１の透明樹脂層８と第２の透明樹脂層９との間に設けられる第３の透明樹脂層１０と、を含む。第２の透明樹脂層９は、水に対して可溶な樹脂を含み、第３の透明樹脂層１０は水に対して不溶な又は耐水性を持つ樹脂を含む。第３の透明樹脂層１０によって、第２の透明樹脂層９が第１の透明樹脂層８と混合することを抑制でき、第２の透明樹脂層９が第１の透明樹脂層８からダメージを受け難くできる。従って、第２の透明樹脂層９の表面が平滑で導電性が均一となる。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜で構成された電極領域の視認性を極限まで低下させることが可能な透明電極素子を提供する。
【解決手段】基材１１と、基材１１上に設けられた透明導電膜１３と、透明導電膜１３を用いて構成された電極領域１５と、電極領域１５に隣接した領域であってランダムな方向に延設された溝パターン１７ａによって透明導電膜１３が独立した島状に分割されている絶縁領域１７とを有する透明電極素子１である。 （もっと読む）

【課題】タッチパネルにおいて、金属細線のパターンで電極を構成した場合においても、高い透明性を確保することができ、しかも、歩留まりの向上を図ることができる導電シートを提供する。
【解決手段】透明基体１２と、該透明基体１２の他主面に形成された第２導電部１３Ｂとを有し、少なくとも第２導電部１３Ｂが透明粘着剤１２０を介して表示装置１０８に接着される導電シートにおいて、第２導電部１３Ｂは、金属細線による網目状構造部を有し、透明基体１２の主面と金属細線の側壁とのなす角が鋭角であり、第２導電部１３Ｂにおける透明粘着剤１２０とのピール粘着力が、０．１Ｎ／１０ｍｍ以上５Ｎ／１０ｍｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】強度の高い透明導電膜付基材及び電気的信頼性のある有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】透明導電膜付基材は、透明基材１の表面に、加水分解性シラン化合物の縮合物及びバインダ樹脂を含み、前記バインダ樹脂に対する前記加水分解性シラン化合物の縮合物の含有量が５〜３０質量％である樹脂マトリクス３と、金属ナノワイヤ２とから形成される透明導電層４が、塗布により形成されている。加水分解性シラン化合物は、ＳｉＲ_４（Ｒは加水分解性官能基）であることが好ましい。有機エレクトロルミネッセンス素子は、前記の透明導電膜付基材を含むものである。無機のネットワークが形成され、透明導電膜の強度が向上する。 （もっと読む）

【課題】タッチパネルに用いる透明導電膜のパターンを目立たなくし、外観上の不具合が生じないようにすることができる透明導電膜を提供することを課題とする。
【解決手段】透明導電性積層体であって、
少なくとも、透明基材と前記透明基材の表裏に形成した樹脂層と前記樹脂層の片面に形成した酸化ケイ素層と前記酸化ケイ素層の表面に形成した透明導電膜層とを備えており、
前記樹脂層の物理膜厚が１０μｍ以上であり、
前記酸化ケイ素層の光学膜厚（当該層の物理膜厚と屈折率を乗じた値）が、１００ｎｍ以上であることを特徴とする透明導電性積層体。 （もっと読む）

【課題】優れた視認性を有する透明導電性素子を提供する。
【解決手段】透明導電性素子は、第１の表面および第２の表面を有する基材と、第１の表面および第２の表面の少なくとも一方に形成された透明電極パターン部および透明絶縁パターン部とを備える。透明電極パターン部と透明絶縁パターン部とが、基材表面に交互に敷き詰められる。透明電極パターン部には、複数の孔部が離間してランダムに形成され、透明絶縁パターン部には、複数の島部が離間してランダムに形成されている。 （もっと読む）

【課題】干渉縞を抑制するために付与される導電性積層部材の形状由来の筋状の線が画面上に認められず、ぎらつきが少なく、視認性の高い導電性積層部材、およびタッチパネルを提供。
【解決手段】透明樹脂からなる部材（Ｉ）に透明導電性層（ＩＩＩ）が積層されてなる導電性積層フィルムであって、前記部材（Ｉ）を挟んで、透明電極層（ＩＩＩ）側の表面は複数の凸部を有しており、下記条件１もしくは２のとき、Ｒ／Ｐが、０．１〜５０であることを特徴とする導電性積層フィルムである。１：任意に選ばれた凸部（１）の頂点を通る断面の内、その両端に存在する凹部の頂点間が最小の距離をＰ（μｍ）とし、そのときの凸部（１）の断面の曲率半径をＲ（μｍ）としたとき。２：任意に選ばれた隣接した凸部（２−１）と凸部（２−２）を結ぶ断面の凹部の曲率半径をＲ（μｍ）とし、前記凸部（２−１）の頂点と前記凸部（２−１）の頂点をＰ（μｍ）としたとき。 （もっと読む）

【課題】希少金属を使用せず、安価であり、優れた機械的強度とともに、良好な化学的耐久性を有する透明導電性基板、これを用いた電子デバイスおよびタッチパネルを提供する。
【解決手段】透明導電性基板１は、絶縁性を有する透明基板１２と、前記透明基板１２上に形成された酸化亜鉛にドーパントとして低原子価金属酸化物を低原子価金属／亜鉛の原子数比で０．０２〜０．１の割合となるようにドープし、比抵抗が、２．０×１０^-3Ω・ｃｍ以下である透明導電膜１３とを少なくとも備え、前記透明導電膜１３は、酸化亜鉛を主成分とし、低原子価金属酸化物をドープしたターゲットまたはタブレットを用いて、スパッタリング法、イオンプレーティング法、パルスレーザ堆積（ＰＬＤ）法またはエレクトロンビーム（ＥＢ）蒸着法にて成膜される。 （もっと読む）

【課題】耐熱性及び耐湿熱性に優れた導電性薄膜を製造することができる導電性コーティング用組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の導電性コーティング用組成物は、酸性の導電性高分子と水溶性酸化防止剤と水とを必須成分とし、温度２５℃においてｐＨが４．０以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯ代替材料としてのＺｎＯ系膜を提供するに当たり、基板加熱法によるエネルギー損失を受けることなく、結晶性が良好で低い比抵抗を有する透明導電膜の製造方法及び透明導電膜を提供すること。
【解決手段】本発明の透明導電膜の製造方法は、気相蒸着法により基板上に酸化亜鉛を含む多結晶膜を形成する多結晶膜形成工程と、前記多結晶膜に通電してジュール加熱を行うことにより前記多結晶膜を結晶成長させた透明導電膜を形成する透明導電膜形成工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明性、導電性、耐溶剤性に優れると同時に、さらに密着性にも優れる導電性フィルムを提供すること。
【解決手段】基材フィルム１、中間層２、透明導電塗膜層３、保護層４がこの順で積層された導電性フィルムにおいて、中間層２の表面粗さを特定範囲にすると同時に、保護層４の厚みを特定範囲にする。 （もっと読む）