【課題】良好な導電性を有する透明導電体であって、十分な強度を有する透明導電体を容易に製造することができるカルバゾール誘導体含有組成物、及び該組成物からなる透明導電体を提供することを課題とする。
【解決手段】金属または金属塩で処理したポリカルバゾール誘導体、および溶媒に別種のポリマーを添加した組成物、並びに該組成物から形成した透明導電体により、課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】導電性高分子材料を含む層を形成する際に、所望の膜厚に制御することができ、該層が高い導電性を示す導電性高分子組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係る導電性高分子組成物は、導電性高分子と、水および水混和性有機溶媒の少なくとも一方と、増粘剤としてのウレア基を有する高分子と、を含む。本発明に係る導電性高分子組成物によれば、導電性高分子材料を含む層を形成する際に、増粘剤の添加量を少量としても所望の膜厚に制御することができ、かつ、高い導電性を示す導電性高分子材料を含む層を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】良好な導電性を有する透明導電体を容易に製造することができるカルバゾール誘導体含有組成物、及び該組成物からなる透明導電体を提供する。
【解決手段】ポリカルバゾール誘導体を溶解させた溶媒に、金属塩を添加した組成物から形成する。前記金属塩がハロゲン化金属であり、前記ハロゲン化金属が塩化スズ（ＩＩ）、塩化ナトリウム、塩化鉄（Ｉ）、塩化鉄（ＩＩ）、塩化亜鉛、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、塩化アルミニウム、塩化リチウム、及び塩化バリウムからなる群から選択される少なくとも１種を含む。 （もっと読む）

【課題】透明配線層が目立たない透明導電積層体を提供すること。
【解決手段】絶縁性の透明基材１１と、透明基材１１の表面に形成され、透明基材１１よりも光屈折率の高い高屈折率層１２と、高屈折率層１２の表面に形成され、高屈折率層１２よりも光屈折率の低い低屈折率層１３と、低屈折率層１３の表面においてパターン形成され、低屈折率層１３よりも光屈折率の高い透明配線層１４とを有する。低屈折率層１３および透明配線層１４は、それぞれの表面が凹凸面１３３、１４３を構成している。透明配線層１４が形成されている領域と形成されていない領域との双方において、ヘーズが０．８〜２．０％である。 （もっと読む）

【課題】従来の透明導電性フィルムは、結晶性ポリマーフィルムを用いているため、色むらが生じる。色むらは非晶性ポリマーフィルムを用いることにより解決できる。しかし、非晶性ポリマーフィルムは表面に傷がつきやすい。また透明導電性フィルムの両面に金属層を有する場合、金属層どうしが圧着する。
【解決手段】透明導電性フィルム３０は、非晶性ポリマーフィルムからなる基材１１と、第１ハードコート層１２、第１透明導電体層１３、および第１金属層１４と、第２ハードコート層２６、第２透明導電体層２７、および第２金属層２８を有する。第１ハードコート層１２はバインダー樹脂１９と複数の粒子１８を含む。第２ハードコート層２６はバインダー樹脂２３と複数の粒子２２を含む。第１金属層１４は表面に複数の凸部２０を有する。第２金属層２８は表面に複数の凸部２１を有する。 （もっと読む）

【課題】導電性に優れる膜となり、かつ、熱的安定性に優れる導電性高分子を含有する導電性組成物を提供することである。更には、前記導電性組成物を用いることで、導電性に優れる導電膜を提供する。
【解決手段】導電性高分子と、下記一般式［１］で表される化合物とを含有する導電性組成物、ならびにこれを用いて得られる導電膜および透明電極。一般式［１］


（式［１］中、Ｍは、リチウム原子、ナトリウム原子、または、カリウム原子を表す。） （もっと読む）

【課題】電極パターンの視認性が低い光透過性電極を提供する。
【解決手段】光透過性基材１上の片面に、網目状導電部からなる大格子と、少なくとも１つの接続格子を有し隣接する大格子間を電気的に接続する接続部を少なくとも有する、２枚の光透過性導電材料３を重ねて作製される光透過性電極であって、２枚の光透過性導電材料はそれぞれの接続部の中心が略一致するように重ねられ、かつ少なくとも一方の光透過性導電材料が、前記重ねて作製された際の光透過性電極の接続部１２内および／または大格子１１と接続部に囲まれる部分に相当する位置に、細線の一部が断線され導通の取れない断線格子を有する。 （もっと読む）

【課題】 表面反射を抑制することにより高い光線透過率を有する導電性高分子膜を備えた導電性フィルムを提供する。
【解決手段】 プラスチックフィルムの少なくとも片面に導電性高分子膜を備えた導電性フィルムであって、前記プラスチックフィルムの屈折率が１．６０〜１．８０であり、前記導電性高分子膜の屈折率が１．４０〜１．４８であり、前記導電性高分子膜の膜厚が５０〜１２０ｎｍであることを特徴とする導電性フィルムであり、これにより、表面反射が抑制され反射率が極めて小さく透明性に優れたものとなるとともに、高い透明性を維持しながら導電性に優れたものとなる。 （もっと読む）

【課題】導電性に優れる膜となり、かつ、熱的安定性に優れる導電性高分子を含有する導電性組成物を提供することである。更には、前記導電性組成物を用いることで、導電性に優れる導電膜を提供する。
【解決手段】導電性高分子と、下記一般式で表される化合物とを含有する導電性組成物、ならびにこれを用いて得られる導電膜および透明電極。
（もっと読む）

【課題】有機薄膜太陽電池への使用に適した透明電極基材を提供するとともに、安価で大面積化が容易な透明電極基材の製造方法を提供する。
【解決手段】透明電極基材１は、板状の透明基材２と、前記透明基材２の片側に形成された透明樹脂層３と、前記透明樹脂層３の前記透明基材２とは反対側の面に埋め込まれたパターン電極４と、前記透明樹脂層３および前記パターン電極４の直上に形成された透明な集電電極５とを有し、前記集電電極５の表面１５が平坦である。 （もっと読む）

【課題】透過光の着色を抑え、全光線透過率の高い透明導電性フィルム用の色調補正フィルムを提供する。
【解決手段】色調補正フィルムは、透明基材フィルムの両面にハードコート層が積層されており、前記両ハードコート層上にそれぞれ色調補正層１及び色調補正層２が順に積層されている。また、前記両ハードコート層は、波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．５１〜１．６１、膜厚が１〜１０μｍであり、前記両色調補正層１は、金属酸化物微粒子と活性エネルギー線硬化型樹脂からなり、波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．６３〜１．８６、膜厚が２５〜９０ｎｍであり、前記両色調補正層２は、シリカ微粒子と活性エネルギー線硬化型樹脂からなり、波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．３３〜１．５３、膜厚が１０ｎｍ〜５５ｎｍである。 （もっと読む）

【課題】高い導電性と画像の鮮明さを両立する導電積層体を得ること。
【解決手段】基材１の片側に導電層２を積層した下記（ｉ）〜（ｉｖ）を満たす導電積層体。（ｉ）前記導電層が線状金属構造体からなるネットワーク構造を有する導電成分とマトリックスからなる。（ｉｉ）ＦＴ−ＩＲ−ＡＴＲ法にて求めた前記マトリックスの炭素−炭素二重結合の伸縮振動のピーク強度ν１と炭素−水素間結合（Ｃ−Ｈ）の伸縮振動のピーク強度ν２が、ν１／ν２≧０．２の関係を満たす。（ｉｉｉ）前記導電積層体の導電層の反対側から入射したときの分光透過スペクトルにおける波長３３０〜４００ｎｍにおける透過率が６０％以上である。（ｉｖ）前記導電積層体の導電層側から入光した時のＪＩＳＫ７１０５（１９８１）に基づいたヘイズ値が２．０％以下である。 （もっと読む）

【課題】導電パターンが視認されにくい透明配線板及びこれを用いた入力装置を提供すること。
【解決手段】絶縁性を有する透明基体２、及び、導電性を有する金属繊維からなり透明基体２内に配設された網状部材、を備える透明導電膜１２、２２と、シート状をなし、少なくともその厚さ方向を向く一方の面に透明導電膜１２、２２が設けられた基材と、を備えた透明配線板であって、透明基体２には、網状部材が配置される導電部と、網状部材が部分的に除去されることにより、金属繊維４ａ同士が絶縁されるように配置された絶縁部Ｉと、が設けられ、絶縁部Ｉの金属繊維４ａは、所定方向に沿うように延びていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明導電性高分子を含む透明導電膜を利用しながら、簡単な工程で製造でき、見栄えの良い透明導電基板およびこれを用いた静電センサーなどの電子デバイスを提供すること。
【解決手段】フィルム基材2と導電性高分子を含む透明導電膜1とが積層し、透明導電膜1が検知部となる複数の第１領域11と、その第１領域11より電気抵抗値が高く複数の第１領域11に分かつ第２領域12とからなる透明導電基板10について、第１領域11の部分と第２領域12の部分との色差ΔＥが2.6以下であり、かつ次の１）または２）の条件、１）第１領域の表面抵抗が1.0×10^４Ω／□未満であり、第１領域と第２領域との表面抵抗の差が0.5×10^４Ω／□以上であること、または２）隣り合う第１領域の間に挟まれた部分の長さ(mm)と第２領域の表面抵抗(Ω／□)との積が1.0×10^４ｍｍ・Ω／□以上であること、を備えるものとした。 （もっと読む）

【課題】外部からの圧力印加による透明導電層の基板からの剥離が防がれた導電性基板の製造方法及びその導電性基板の提供。
【解決手段】複数の反応性官能基を有する光硬化性プレポリマーを少なくとも一つ含有する光硬化性層２２を基板２１に形成する工程と、光硬化性層２２の一部を遮蔽するようにパターンマスク３１を配置する工程と、第一の光源Ｌ１を用いて光硬化性層２２を露光して、光硬化性層２２の第一の領域２２１を硬化させる第１の露光工程と、パターンマスク３１を除去する工程と、第二の光源Ｌ１を用いて光硬化性層２２を露光して、光硬化性層２２の硬化されていない第二の領域２２２を硬化させ、第一と第二の領域２２１、２２２との表面高度が異なることで微細構造が基板２１に形成される第２の露光工程と、前記微細構造に導電層２３を形成する工程とを備えた導電性基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】パターン見えを軽減することができる導電パターン形成基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】基材２と、金属ナノワイヤーを含み基材２上に設けられた導電パターン５と、導電パターン５と接しているとともに導電パターン５が形成された領域とは異なる領域に設けられた絶縁パターン６と、導電パターン５と絶縁パターン６との少なくとも何れかの少なくとも一部を覆う光拡散層９と、を備える。 （もっと読む）

【課題】金属ナノファイバーを用いる導電シートにおいて、可視導電パターンでの金属マイグレーションをなくし導電部分（個別シート端子）の間隔を短くする。
【解決手段】基板２６上に透明導電パターン１１と可視導電パターン１６を形成した導電シート１０である。透明導電パターンは金属ナノファイバーを含む層である第一ナノファイバー層とこれに隣接した第一加熱絶縁層２９からなり、可視導電パターン１６は金属ナノファイバーを含む層である第二ナノファイバー層１７とこれに隣接した第二加熱絶縁層２７により下層パターンを形成し、下層パターンに積層して金属ペーストを含む層であるペースト層１８からなる上層パターンを形成して構成され、第二加熱絶縁層は極小サイズに切断された金属ナノファイバーを含む層である導電シートである。可視導電パターン１６は下層パターンの上に遮水層２１を形成し、遮水層の上に上層パターンを形成した。 （もっと読む）

【課題】２枚のフィルムが感圧接着剤（粘着剤）層で貼り合わされてなる積層体上に、透明電極パターンが形成された透明導電性フィルムが知られている。従来の透明導電性フィルムは、透明電極パターンのエッチング工程で加熱される際に、透明電極パターンのある部分と無い部分とで収縮率が異なるため、うねりが生じやすい。うねりの少ないフィルムを提供する。
【解決手段】透明導電性フィルム１０は、透明な第１フィルム１１と、透明電極パターン１２と、透明接着剤層１３と、透明な第２フィルム１４を備える。第１フィルム１１と第２フィルム１４は透明接着剤層１３を介して積層される。第１フィルム１１の厚さは１５μｍ〜５５μｍである。第２フィルム１４の厚さは、第１フィルム１１の厚さの１．５倍〜６倍である。透明接着剤層１３は、厚さ０．０１μｍ以上、１０μｍ未満の硬化接着剤層である。 （もっと読む）