【課題】従来の透明導電性フィルムは、結晶性ポリマーフィルムを用いているため、色むらが生じる。色むらは非晶性ポリマーフィルムを用いることにより解決できる。しかし、非晶性ポリマーフィルムは表面に傷がつきやすい。また透明導電性フィルムの両面に金属層を有する場合、金属層どうしが圧着する。
【解決手段】透明導電性フィルム３０は、非晶性ポリマーフィルムからなる基材１１と、第１ハードコート層１２、第１透明導電体層１３、および第１金属層１４と、第２ハードコート層２６、第２透明導電体層２７、および第２金属層２８を有する。第１ハードコート層１２はバインダー樹脂１９と複数の粒子１８を含む。第２ハードコート層２６はバインダー樹脂２３と複数の粒子２２を含む。第１金属層１４は表面に複数の凸部２０を有する。第２金属層２８は表面に複数の凸部２１を有する。 （もっと読む）

【課題】電極パターンの視認性が低い光透過性電極を提供する。
【解決手段】光透過性基材１上の片面に、網目状導電部からなる大格子と、少なくとも１つの接続格子を有し隣接する大格子間を電気的に接続する接続部を少なくとも有する、２枚の光透過性導電材料３を重ねて作製される光透過性電極であって、２枚の光透過性導電材料はそれぞれの接続部の中心が略一致するように重ねられ、かつ少なくとも一方の光透過性導電材料が、前記重ねて作製された際の光透過性電極の接続部１２内および／または大格子１１と接続部に囲まれる部分に相当する位置に、細線の一部が断線され導通の取れない断線格子を有する。 （もっと読む）

【課題】高い導電性と画像の鮮明さを両立する導電積層体を得ること。
【解決手段】基材１の片側に導電層２を積層した下記（ｉ）〜（ｉｖ）を満たす導電積層体。（ｉ）前記導電層が線状金属構造体からなるネットワーク構造を有する導電成分とマトリックスからなる。（ｉｉ）ＦＴ−ＩＲ−ＡＴＲ法にて求めた前記マトリックスの炭素−炭素二重結合の伸縮振動のピーク強度ν１と炭素−水素間結合（Ｃ−Ｈ）の伸縮振動のピーク強度ν２が、ν１／ν２≧０．２の関係を満たす。（ｉｉｉ）前記導電積層体の導電層の反対側から入射したときの分光透過スペクトルにおける波長３３０〜４００ｎｍにおける透過率が６０％以上である。（ｉｖ）前記導電積層体の導電層側から入光した時のＪＩＳＫ７１０５（１９８１）に基づいたヘイズ値が２．０％以下である。 （もっと読む）

【課題】導電パターンが視認されにくい透明配線板及びこれを用いた入力装置を提供すること。
【解決手段】絶縁性を有する透明基体２、及び、導電性を有する金属繊維からなり透明基体２内に配設された網状部材、を備える透明導電膜１２、２２と、シート状をなし、少なくともその厚さ方向を向く一方の面に透明導電膜１２、２２が設けられた基材と、を備えた透明配線板であって、透明基体２には、網状部材が配置される導電部と、網状部材が部分的に除去されることにより、金属繊維４ａ同士が絶縁されるように配置された絶縁部Ｉと、が設けられ、絶縁部Ｉの金属繊維４ａは、所定方向に沿うように延びていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】外部からの圧力印加による透明導電層の基板からの剥離が防がれた導電性基板の製造方法及びその導電性基板の提供。
【解決手段】複数の反応性官能基を有する光硬化性プレポリマーを少なくとも一つ含有する光硬化性層２２を基板２１に形成する工程と、光硬化性層２２の一部を遮蔽するようにパターンマスク３１を配置する工程と、第一の光源Ｌ１を用いて光硬化性層２２を露光して、光硬化性層２２の第一の領域２２１を硬化させる第１の露光工程と、パターンマスク３１を除去する工程と、第二の光源Ｌ１を用いて光硬化性層２２を露光して、光硬化性層２２の硬化されていない第二の領域２２２を硬化させ、第一と第二の領域２２１、２２２との表面高度が異なることで微細構造が基板２１に形成される第２の露光工程と、前記微細構造に導電層２３を形成する工程とを備えた導電性基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】パターン見えを軽減することができる導電パターン形成基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】基材２と、金属ナノワイヤーを含み基材２上に設けられた導電パターン５と、導電パターン５と接しているとともに導電パターン５が形成された領域とは異なる領域に設けられた絶縁パターン６と、導電パターン５と絶縁パターン６との少なくとも何れかの少なくとも一部を覆う光拡散層９と、を備える。 （もっと読む）

【課題】金属ナノファイバーを用いる導電シートにおいて、可視導電パターンでの金属マイグレーションをなくし導電部分（個別シート端子）の間隔を短くする。
【解決手段】基板２６上に透明導電パターン１１と可視導電パターン１６を形成した導電シート１０である。透明導電パターンは金属ナノファイバーを含む層である第一ナノファイバー層とこれに隣接した第一加熱絶縁層２９からなり、可視導電パターン１６は金属ナノファイバーを含む層である第二ナノファイバー層１７とこれに隣接した第二加熱絶縁層２７により下層パターンを形成し、下層パターンに積層して金属ペーストを含む層であるペースト層１８からなる上層パターンを形成して構成され、第二加熱絶縁層は極小サイズに切断された金属ナノファイバーを含む層である導電シートである。可視導電パターン１６は下層パターンの上に遮水層２１を形成し、遮水層の上に上層パターンを形成した。 （もっと読む）

【課題】透光性、視認性が良好で、しかも、入力に対する出力ダイナミックレンジを向上させることができ、タッチ位置検出の感度の向上、検出精度の向上を図ることができる導電性フイルム及びタッチパネルを提供する。
【解決手段】第１導電性フイルム１０Ａの第１導電部１４Ａは、複数の第１パッド部１６Ａがそれぞれ第１接続部１８Ａを介して接続された金属細線による２以上の第１導電パターン２０Ａを有し、各第１パッド部１６Ａは、一方の第１接続部１８Ａから延びる第１渦巻き部２４Ａと、他方の第１接続部１８Ａから延びる第２渦巻き部２４Ｂと、第１渦巻き部２４Ａと第２渦巻き部２４Ｂとを連結する第１連結部２６Ａとを有する。第１渦巻き部２４Ａと第２渦巻き部２４Ｂはそれぞれ複数の格子２８が組み合わされて構成され、第１連結部２６Ａは複数の導線３０にて構成されている。 （もっと読む）

【課題】高い導電性を維持しつつ従来よりも透過率を高くしたりヘイズ値を下げたりすることのできる透明導電性塗布膜、透明導電性インクを提供する。
【解決手段】少なくとも金属ナノワイヤーを含有する透明導電性塗布膜、透明導電性インクにおいて、前記金属ナノワイヤーのうち折れ曲がっているワイヤーの割合が１０％以下であるようにする。そして、透明導電性塗布膜においては、表面抵抗が１５０Ω／□以下、ヘイズ値が１．０％以下であるようにする。透明導電性インクにおいては、透明導電性インク中の伝導度が１ｍＳ／ｃｍ以下であるようにする。 （もっと読む）

【課題】高い導電性と良好な透明性を併せ持ち、液相成膜により容易に製造できる透明導電膜を提供することにあり、さらに、この透明導電膜を用いた透明導電性フィルム、さらには大面積においても電極での電圧降下が抑えられたフレキシブル透明面電極を提供することにある。
【解決手段】金属ナノワイヤ及び金属微粒子を含む透明導電膜において、少なくとも該金属ナノワイヤ、粒状金属化合物及び還元剤を含有する塗布膜を加熱処理することにより、少なくとも一部の金属ナノワイヤが該粒状金属化合物から生成した金属微粒子を介して接合していることを特徴とする透明導電膜。 （もっと読む）

【課題】透明性および導電性を損なうことなく、光の散乱が低減された透明電極積層体を提供することである。
【解決手段】実施形態の透明電極積層体は、透明基板（１１）と、前記透明基板上に形成された光透過性の電極層（１３）とを具備する。前記電極層は、直径が２０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の金属ナノワイヤー（２１）の三次元網目構造（２２）を含み、それぞれの金属ナノワイヤーは表面の一部に、前記金属ナノワイヤーを構成する金属の反応生成物（２３）を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ヘイズの低い導電性層が得られる導電性組成物、その製造方法、導電性部材、並びに、タッチパネル及び太陽電池を提供する。
【解決手段】少なくとも、ａ）平均短軸長が１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の金属導電性繊維、およびｂ）前記金属導電性繊維に対して、０．００５質量％以上０．０５質量％以下の単糖類およびその誘導体から選ばれた少なくとも一つの化合物、を含有する導電性組成物。 （もっと読む）

【課題】安価なフイルム基板上にロール成膜可能とされた、高透明性、高導電性を両立した有機電子デバイス用の透明導電フイルムを得る。
【解決手段】プラスチック支持体１２上に、マスク蒸着された、膜厚が５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、平面視における線幅が０．３ｍｍ以上１ｍｍ以下の金属もしくは合金からなる導電性ライン１４ａが複数、間隔３ｍｍ以上２０ｍｍ以下で配置されてなる導電ストライプ１４と、プラスチック支持体１２と導電ストライプ１４を覆うように設けられた、比抵抗が４×１０^−３Ω・ｃｍ以下であり、膜厚２０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である透明導電材料層１８とから透明導電フィルムを構成する。 （もっと読む）

【課題】シート抵抗が低く、広い波長範囲で高い透過率を有する光透過型金属電極、電子装置及び光学素子を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、複数の第１金属線と、複数の第２金属線と、を含む光透過型金属電極が提供される。複数の第１金属線は、第１方向に沿って並ぶ。第１金属線は、第１方向と交差する第２方向に沿って延びる。複数の第２金属線は、第１方向と第２方向を含む平面に対して平行で第１方向と交差する第３方向に沿って並び、第１金属線と接触する。第２金属線は、その平面に対して平行で第３方向と交差する第４方向に沿って延びる。複数の第１金属線の第１方向における中心どうしの第１距離は、可視光を含む波長帯の最短の波長以下である。複数の第２金属線の第３方向における中心どうしの第２距離は、波長帯の最長の波長を超える。第１金属線と第２金属線の厚さは、最短の波長以下である。 （もっと読む）

【課題】優れた透明性及び導電性を兼ね備える透明導電性部材を生産性良く製造することができる透明導電性部材の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る透明導電性部材１の製造方法は、金属箔２上にグラフェン層３を蒸着法により形成するステップ、前記グラフェン層３の前記金属箔２とは反対側の面を透明な基材４に接合するステップ、及び前記金属箔２にパターニング処理を施すことで第一の導体層５を形成するステップを含む。 （もっと読む）

【課題】導電性ペーストをスクリーン印刷することによって透明基板上に導電性トラックを形成するための方法、および前記トラックを設けられた透明基板を提供する。
【解決手段】０．３ｍｍを超えない長さを有するトラック導体を、スクリーン印刷条件下での剪断応力での粘度に対する非剪断応力下の粘度の比率が少なくとも５０の値を有し、かつ３５％よりも高い銀含有量を有してペーストを形成する粒子の少なくとも９８％が２５μｍよりも小さいサイズを有するチキソトロピーの導電性ペーストを１ｃｍ当たり少なくとも９０本の糸を有してそのコーティングには最小サイズが０．２５ｍｍ±０．０５ｍｍに等しいミゾが設けられたスクリーンを使用してスクリーン印刷で塗布すること、および前記トラックを焼成することによって形成することから成る。 （もっと読む）

【課題】透明性、導電性及び膜強度に優れると共に、高温、高湿度環境下においても透明性、導電性及び膜強度の劣化が少ない透明電極を提供する。
【解決手段】透明電極１は、透明な基板１１と、基板１１上に、パターン状に形成された金属材料からなる第１導電層１２と、基板１１上に形成されて第１導電層１２と電気的に接続された、導電性ポリマー及び水系溶剤に分散可能なポリマーを含有する透明な第２導電層１３と、を備え、第１導電層１２は、金属粒子を用いて形成されており、第２導電層１３に含有される水系溶剤に分散可能なポリマーは、解離性基含有自己分散型ポリマーであり、かつ、解離性基含有自己分散型ポリマーの解離性基の５０％以上がアンモニウム塩又は炭素数６以下のアミン塩として中和されている。 （もっと読む）

【課題】金属あるいは金属酸化物からなる導電膜を有するタッチパネル用の積層体において、耐熱発泡性、耐湿熱安定（耐白化）性に優れ、金属あるいは金属酸化物に対する腐食性のない積層体、およびこれを用いたタッチパネルを提供すること、ならびに印刷段差に十分に追従する粘着剤を用いたタッチパネル用の積層体を提供すること。
【解決手段】基材と、粘着剤層と、導電層とがこの順に積層された積層体であって、前記粘着剤層は、特定の（メタ）アクリル系ポリマー（A）と、架橋剤（B）とを含むことを特徴とする積層体。 （もっと読む）

【課題】波長依存性が少なく、視認性の優れた光学調整機能を有し、かつ、優れた電気的信頼性を有する透明導電性素子を提供する。
【解決手段】透明導電性素子１は、可視光の波長以下の平均波長を有する波面Ｓｗが設けられた光学層２と、波面上に該波面に倣うように形成された透明導電層６とを備える。波面の平均波長をλｍとし、波面の振動の平均幅をＡｍとしたき、比率（Ａｍ／λｍ）が、０．２以上１．０以下であり、波面のうち斜面の平均角度が、３０°以上６０°以下の範囲内であり、波面が最も高くなる位置における透明導電層６の膜厚をＤ１とし、波面が最も低くなる位置における膜厚をＤ３としたとき、比率Ｄ３／Ｄ１が０．８以下の範囲内である。 （もっと読む）

【課題】塗設時に金属ナノワイヤーを凝集させることなく好適に分散させることができ、ヘイズが低く、ブツ故障が少なく、導電性及び透明性に優れた導電膜の製造方法、前記導電膜の製造方法により製造された導電膜、及び前記導電膜を有するタッチパネルの提供。
【解決手段】金属粒子として平均短軸長さ１５０ｎｍ以下の金属ナノワイヤーと、分散剤とを含有する金属ナノワイヤー分散液を、限外濾過膜を用いて限外濾過し、洗浄する洗浄工程と、前記洗浄工程後の金属ナノワイヤー分散液を含有する導電膜形成用塗布液を支持体上に塗布する塗布工程とを含み、前記洗浄工程後の金属ナノワイヤー分散液中の前記分散剤の含有量（｛分散剤の質量／（全金属粒子の質量＋分散剤の質量）｝×１００）が、３．２質量％以上である導電膜の製造方法とする。 （もっと読む）