【課題】スパッタリング法による透明導電膜の製膜時のノジュールの発生を抑止して安定性よく製膜することのできるスパッタリングターゲットおよびその製造法を提供する。
【解決手段】酸化インジウムと酸化ガリウムおよび酸化亜鉛からなる金属酸化物の焼結体であって、該金属酸化物がＩｎ_２Ｏ_３（ＺｎＯ）_ｍ〔ただし、ｍは２〜１０の整数である。〕、Ｉｎ_２Ｇａ_２ＺｎＯ_７、ＩｎＧａＺｎＯ_４、ＩｎＧａＺｎ_２Ｏ_５、ＩｎＧａＺｎ_３Ｏ_６、ＩｎＧａＺｎ_４Ｏ_７、ＩｎＧａＺｎ_５Ｏ_８、ＩｎＧａＺｎ_６Ｏ_９およびＩｎＧａＺｎ_７Ｏ_１０の群から選択される１種または２種以上の六方晶層状化合物を含有し、かつ、酸化インジウム９０〜９９質量％、酸化ガリウムと酸化亜鉛の合計１〜１０質量％の組成を有する焼結体からなるスパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】携帯デバイスなどの電子機器の筐体表面に、金属様外観を付与するための金属層と、アンテナなどとして機能可能な導電層とを設ける。
【解決手段】アンテナなどとして機能可能な導電層２６、物体１６に金属様外観を付与する金属層２２、導電層２６と金属層２２とを絶縁する絶縁層２４、および接着層２０を有し、物体１６表面に転写される転写箔１８において、絶縁層２４が透明であって、導電層２６が、金属層２２より反物体側に位置し、且つ、銀ナノファイバー３０を透明なバインダー樹脂３２に分散してなる透明導電性材料３４から作製されて透明である。 （もっと読む）

【課題】導電層の高い接着性、導電性および透明性を兼ね備えてかつ、高速生産可能であり、有機ＥＬ素子、有機太陽電池といった有機電子素子を製造するための洗浄が可能な透明導電性基板を提供すること。
【解決手段】基板上に、下引き層、パターン状に形成された金属細線からなる第一導電層、および該第一導電層を被覆し導電性ポリマーを含有する第二導電層、を有する透明導電性基板において、該第一導電層が印刷方式によりパターン状に、該下引き層上に形成されており、かつ該第二導電層が水酸基含有非導電性のポリマーＸを含有しており、該下引き層が水酸基、−ＮＲ^４Ｒ^５（式中Ｒ^４，Ｒ^５は、それぞれ独立して、炭素数１から４のアルキル基を表す）で表される基の少なくとも一つの基を分子内に有するポリマーＹを含有していることを特徴とする透明導電性基板。 （もっと読む）

【課題】高い光散乱能を達成し、製造プロセスの温度を低く抑えるために、表面テクスチャの微細構造を精密に制御した透明導電膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】酸化亜鉛系ターゲットを用いて、加熱した基板上にスパッタリングし、表面処理を施すことにより、ＴｉとＡｌを原子比で、０．００１≦Ｔｉ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｔｉ）≦０．０７９、かつ０．００１≦Ａｌ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｔｉ）≦０．０７９、ただし、０．０１≦（Ｔｉ＋Ａｌ）／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｔｉ）≦０．０８の割合で含有し、中心線平均表面粗さが３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下で、表面にサイズの異なる凹型レンズ状テクスチャを有し、そのテクスチャ幅の平均値が１００ｎｍ〜１０μｍである酸化亜鉛系透明導電膜を製造し、電子素子、光学素子又は太陽電池に利用する。 （もっと読む）

【課題】絶縁性が著しく改善でき、高透過性、低抵抗であり、耐久性及び可撓性が向上し、簡易にパターニングが可能な導電膜及び導電膜の製造方法、並びに筆圧耐久性及び可撓性が向上したタッチパネル、及び変換効率が向上した太陽電池の提供。
【解決手段】導電性繊維及びポリマーを含有する導電膜を製造する方法であって、導電膜に溶解液をパターン状に付与する溶解液付与工程を含む導電膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 耐環境性等の耐環境性に優れたものであり、濃縮することが可能で、なおかつＩＴＯ等の導電性物質に代わりうるものである導電性コーティング組成物及びこれを用いた透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】 導電性高分子と、無機微粒子と、を主たる成分とする導電性コーティング組成物であって、前記無機微粒子が、その周囲をドーパント機能を有する官能基で修飾された非水溶性物質であること、を特徴とする導電性コーティング組成物とした。 （もっと読む）

【課題】特定の分散剤を含有させることで、焼成しなくても導電性を有し、耐久性及び透過率を向上させることができる導電性組成物、並びに、これを用いることで筆圧耐久性、可撓性及び変換効率を向上させることができる透明導電体、筆圧耐久性及び可撓性を向上させることができるタッチパネル、及び変換効率を向上させることができる集積型太陽電池の提供。
【解決手段】本発明の導電性組成物は、導電性繊維と、前記導電性繊維を分散させる下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含む分散剤と、を少なくとも含む。
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【課題】 十分な硬度を有し、耐擦傷性に優れ、かつ、防汚性にも優れるハードコート層を有する透明導電性フィルム、それを用いた電子機器およびタッチパネルを提供する。
【解決手段】 透明なフィルム基材１１、透明導電性薄膜１２およびハードコート層１３を含む透明導電性フィルム１０であって、前記ハードコート層１３が、（Ａ）成分：アクリレート基およびメタクリレート基の少なくとも一方の基を有する硬化型化合物、（Ｂ）成分：反応性フッ素化合物、および、（Ｃ）成分：反応性ケイ素化合物を含むハードコート形成用組成物から形成されたものである。 （もっと読む）

【課題】透明性、導電性および耐食性を有する透明導電膜および光電変換素子を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る透明導電膜１１は、第１の導体層１１１と、酸化チタンを含み第１の導体層よりも高抵抗の第２の導体層１１２との積層膜で形成される。第２の導体層を１×１０^６Ω・ｃｍ以下の比抵抗とすることで、膜全体のシート抵抗の上昇が抑制され、第１の導体層単体でのシート抵抗と同程度のシート抵抗とすることも可能となる。また、透明性の低下も抑制される。さらに、酸化チタンは酸に対する耐久性に優れるため、当該酸化チタンを含む第２の導体層で第１の導体層を被覆することで、第１の導体層を酸から効果的に保護することができる。 （もっと読む）

【課題】透明性が良好で、表面抵抗が低く、優れたガスバリアー性や接着性を有する導電膜付き基材を提供する。
【解決手段】本発明の導電膜付き基材１０は、樹脂フィルム１１と、−ＯＲ₁で表される官能基を有するシランカップリング剤を含む有機樹脂層１２と、Ｓｉ(ＯＲ₂)₄で表されるテトラアルコキシシランに、Ｍ(ＯＲ₃)ｎで表される金属アルコキシドまたはＰＯ(ＯＲ₄)₃で表されるリン酸エステルのうち、少なくとも１種以上を加えたものの共加水分解溶液を塗布し、１２０℃以上で樹脂フィルムのガラス転移温度以下の条件で加熱して得られる無機硬化層１３と、導電性ナノ繊維１６を含む導電膜１４と、が順に積層されている。 （もっと読む）

【課題】高温高湿環境下における環境試験後でも透過率の変動が少なく、更に平面安定性に優れた電極を提供することにある。また、該電極を用いた経時安定性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】基板上に金属繊維を含有する導電性金属層と、導電性ポリマー層とを有する電極において、該導電性金属層は酸化防止剤を含有し、かつ、該導電性ポリマー層は、バインダー樹脂として、下記一般式（Ｉ）で表される構造単位を有するポリマー、及び、下記一般式（Ｉ）及び下記一般式（II）で表される構造単位を有するコポリマーの少なくとも何れかを有するポリマー（Ａ）を含有することを特徴とする電極及び有機エレクトロルミネッセンス素子。
【化１】
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【課題】メッシュパターンにより形成される複数の開口部による光干渉の指向性を適切に制御可能である透明導電膜の製造方法、導電性フイルム、透明発熱体及びプログラムを提供する。
【解決手段】所定の二次元画像領域２００の中から複数の位置（シード点ＳＤ）を選択し、複数の開口部５２を有するメッシュパターンＭの模様を表す画像データＩｍｇを、選択された前記複数の位置（シード点ＳＤ）に基づいて作成し、複数の開口部５２を介して発生する光干渉の指向性について、交叉する２軸方向に対して定量化した第１評価値ＥＶ１を、作成された画像データＩｍｇに基づいて算出し、算出された第１評価値ＥＶ１と所定の評価条件とに基づいて１つの画像データＩｍｇを出力用画像データＩｍｇＯｕｔとして決定し、決定された出力用画像データＩｍｇＯｕｔに基づいて透明フイルム基材５６上に線材を出力形成する。 （もっと読む）

【課題】非接触充電を行う電子機器に非接触充電用のコイルを設けるにあたり、コイルを設けることによって起こる電子機器の意匠上の制約、すなわち外観デザインの自由度の低下を抑制する。
【解決手段】非接触充電に使用されるコイル１４であって、銀のナノファイバー１６を透明なバインダー樹脂１８に分散してなる透明導電性材料２０から作製されている。非接触充電に使用するコイル１４が透明であるため、コイルが非透明である場合に比べて、コイルを設けることによって起こる電子機器の意匠上の制約、すなわち電子機器の外観デザインの自由度の低下を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】パターンに起因するノイズ粒状感を低減可能であり、観察対象物の視認性を大幅に向上できるとともに、断裁後にも安定した通電性能を有する透明導電膜を提供する。
【解決手段】各メッシュの重心スペクトルＳｐｃｃに関して、所定の空間周波数ＢＦよりも高い空間周波数帯域側における平均強度Ｐ_Hが、所定の空間周波数ＢＦよりも低い空間周波数帯域側における平均強度Ｐ_Lよりも大きくなるように、メッシュパターンＭが形成されている。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯがアモルファスとなる成膜温度で、低抵抗で表面が平坦なＩＴＯ透明導電膜を、膜剥がれを起こさずに安定して形成するための形成方法、それによって形成されたＩＴＯ透明導電膜、およびそれを形成するための形成装置を提供する。
【解決手段】ＩＴＯ透明導電膜の形成装置１００は、レーザー光Ｌの照射機構を備えており、真空チャンバー１内で、スパッタリング法によりＩＴＯの薄膜を形成する成膜工程と、薄膜にレーザー光Ｌを照射するレーザー光照射工程とを繰り返えすことによりＩＴＯ透明導電膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】高真空容器を使用しない簡便な方法によって透明導電性非晶質膜を製造する方法、および導電性、透明性、及び表面平滑性が従来のスパッタリング法によって得られる膜と同等以上である透明導電性非晶質膜の提供。
【解決手段】亜鉛元素および錫元素を含む透明導電性非晶質膜の製造方法であって、加熱した基板に、亜鉛化合物および錫化合物を含有する霧状の溶液又は分散液を吹き付けて成膜することを特徴とする透明導電性非晶質膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 低抵抗でかつ高透過率な透明電極膜を簡易な工程で製造する方法を提供すること。
【解決手段】 基体上に透明導電膜を形成する熱ＣＶＤ（化学気相成長）法であって、固体原料（Ｒ）を直接加熱により気化させる工程（Ｓ１）と発生した原料ガスを加熱基体に堆積させる工程（Ｓ２）により透明導電性酸化スズ（ＳｎＯ_２）膜（Ｐ）を得ることができる。この方法は、スプレーノズルや真空設備等を必要とせず大気下で成膜可能であり、簡易設備での高品位な導電性酸化スズ膜の製造を可能にする。 （もっと読む）

【課題】表面の導電性を維持しつつ透明導電膜を保護することができる透明導電膜付き基材を提供する。
【解決手段】透明基材１の上に金属ナノワイヤ４を含む透明塗膜によって形成される透明導電膜２を設け、透明導電膜２の表面に透明なオーバーコート層３を設ける。オーバーコート層３を加水分解性シラン化合物の縮合物をマトリクス樹脂５として形成する。 （もっと読む）

【課題】特定の透明導電性膜作製用塗布液を用いて簡便な塗布法にて優れた導電性を有する酸化チタン系透明導電性膜を形成する透明導電性基板の製造方法を提供する。
【解決手段】チタン化合物およびニオブ化合物を含有した塗布液を、透明基板上に塗布し、塗布後２４時間以内に、還元雰囲気下にて加熱によるアニールを施して、ニオブがドープされた酸化チタンからなる透明導電性膜を透明基板上に形成する酸化チタン系透明導電性基板の製造方法である。前記塗布液はチタン化合物、ニオブ化合物、無機酸、水およびアルコールを含有する。 （もっと読む）

【課題】可撓性に優れ、かつ光透過性が高く低抵抗な導電シートを提供する。
【解決手段】可撓性を有する透明基材上に、透明導電性層を有することなく、まず開口部を有する、膜厚が０．５μｍ以下の金属膜が設けられ、少なくとも該開口部に透明導電性層を設けた光透過性導電シートであって、該開口部の中の任意の点から、最も近接する金属膜部までの距離が１００μｍ以下であるのが好ましく、また、該金属膜は、銀塩拡散転写法により形成される物理現像銀であると、より好ましい。 （もっと読む）