Fターム[5G307FC10]の内容

非絶縁導体 (12,077) | 性能 (2,345) | その他 (633)

Fターム[5G307FC10]に分類される特許

1 - 20 / 633



Notice: Undefined index: from_cache in /mnt/www/gzt_fterm_list.php on line 281


Notice: Undefined index: from_cache in /mnt/www/gzt_fterm_list.php on line 281

【課題】導電性高分子材料を含む層を形成する際に、所望の膜厚に制御することができ、該層が高い導電性を示す導電性高分子組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係る導電性高分子組成物は、導電性高分子と、水および水混和性有機溶媒の少なくとも一方と、増粘剤としてのウレア基を有する高分子と、を含む。本発明に係る導電性高分子組成物によれば、導電性高分子材料を含む層を形成する際に、増粘剤の添加量を少量としても所望の膜厚に制御することができ、かつ、高い導電性を示す導電性高分子材料を含む層を形成することができる。 (もっと読む)


【課題】良好な導電性を有する透明導電体であって、十分な強度を有する透明導電体を容易に製造することができるカルバゾール誘導体含有組成物、及び該組成物からなる透明導電体を提供することを課題とする。
【解決手段】金属または金属塩で処理したポリカルバゾール誘導体、および溶媒に別種のポリマーを添加した組成物、並びに該組成物から形成した透明導電体により、課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】透明配線層が目立たない透明導電積層体を提供すること。
【解決手段】絶縁性の透明基材11と、透明基材11の表面に形成され、透明基材11よりも光屈折率の高い高屈折率層12と、高屈折率層12の表面に形成され、高屈折率層12よりも光屈折率の低い低屈折率層13と、低屈折率層13の表面においてパターン形成され、低屈折率層13よりも光屈折率の高い透明配線層14とを有する。低屈折率層13および透明配線層14は、それぞれの表面が凹凸面133、143を構成している。透明配線層14が形成されている領域と形成されていない領域との双方において、ヘーズが0.8〜2.0%である。 (もっと読む)


【課題】 表面反射を抑制することにより高い光線透過率を有する導電性高分子膜を備えた導電性フィルムを提供する。
【解決手段】 プラスチックフィルムの少なくとも片面に導電性高分子膜を備えた導電性フィルムであって、前記プラスチックフィルムの屈折率が1.60〜1.80であり、前記導電性高分子膜の屈折率が1.40〜1.48であり、前記導電性高分子膜の膜厚が50〜120nmであることを特徴とする導電性フィルムであり、これにより、表面反射が抑制され反射率が極めて小さく透明性に優れたものとなるとともに、高い透明性を維持しながら導電性に優れたものとなる。 (もっと読む)


【課題】有機薄膜太陽電池への使用に適した透明電極基材を提供するとともに、安価で大面積化が容易な透明電極基材の製造方法を提供する。
【解決手段】透明電極基材1は、板状の透明基材2と、前記透明基材2の片側に形成された透明樹脂層3と、前記透明樹脂層3の前記透明基材2とは反対側の面に埋め込まれたパターン電極4と、前記透明樹脂層3および前記パターン電極4の直上に形成された透明な集電電極5とを有し、前記集電電極5の表面15が平坦である。 (もっと読む)


【課題】2枚のフィルムが感圧接着剤(粘着剤)層で貼り合わされてなる積層体上に、透明電極パターンが形成された透明導電性フィルムが知られている。従来の透明導電性フィルムは、透明電極パターンのエッチング工程で加熱される際に、透明電極パターンのある部分と無い部分とで収縮率が異なるため、うねりが生じやすい。うねりの少ないフィルムを提供する。
【解決手段】透明導電性フィルム10は、透明な第1フィルム11と、透明電極パターン12と、透明接着剤層13と、透明な第2フィルム14を備える。第1フィルム11と第2フィルム14は透明接着剤層13を介して積層される。第1フィルム11の厚さは15μm〜55μmである。第2フィルム14の厚さは、第1フィルム11の厚さの1.5倍〜6倍である。透明接着剤層13は、厚さ0.01μm以上、10μm未満の硬化接着剤層である。 (もっと読む)


【課題】透光性、視認性が良好で、しかも、入力に対する出力ダイナミックレンジを向上させることができ、タッチ位置検出の感度の向上、検出精度の向上を図ることができる導電性フイルム及びタッチパネルを提供する。
【解決手段】第1導電性フイルム10Aの第1導電部14Aは、複数の第1パッド部16Aがそれぞれ第1接続部18Aを介して接続された金属細線による2以上の第1導電パターン20Aを有し、各第1パッド部16Aは、一方の第1接続部18Aから延びる第1渦巻き部24Aと、他方の第1接続部18Aから延びる第2渦巻き部24Bと、第1渦巻き部24Aと第2渦巻き部24Bとを連結する第1連結部26Aとを有する。第1渦巻き部24Aと第2渦巻き部24Bはそれぞれ複数の格子28が組み合わされて構成され、第1連結部26Aは複数の導線30にて構成されている。 (もっと読む)


【課題】フィルム基材上にインジウムスズ酸化物膜を形成した透明導電性フィルムにおいて、インジウムスズ酸化物の結晶化処理を、フィルム基材の耐熱温度以下の低温で、短時間で行ない、表面抵抗値が低い透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】透明導電性フィルム10は、2つの主面をもつフィルム基材11と、フィルム基材11の一方の主面に形成された透明導電膜12を備える。透明導電膜12は、フィルム基材11側から、第一のインジウムスズ酸化物層13、第二のインジウムスズ酸化物層14、第三のインジウムスズ酸化物層15が、この順に積層された3層膜である。第一のインジウムスズ酸化物層13の酸化スズ含有量は、第二のインジウムスズ酸化物層14の酸化スズ含有量より少ない。第三のインジウムスズ酸化物層15の酸化スズ含有量は、第二のインジウムスズ酸化物層14の酸化スズ含有量より少ない。 (もっと読む)


【課題】どのような方向から観察しても色むら(干渉色)が生じにくい透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】透明導電性フィルム10は、透明接着層11と、透明接着層11の一方の面に積層された第1ポリシクロオレフィンフィルム12と、透明接着層11の他方の面に積層された第2ポリシクロオレフィンフィルム13と、第1ポリシクロオレフィンフィルム12上に形成された第1透明電極パターン14と、第2ポリシクロオレフィンフィルム13上に形成された第2透明電極パターン15を有する。 (もっと読む)


【課題】高い透過率と導電性を発現する透明導電膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】平均粒子径が1〜60nmであり、配位原子として窒素、酸素、硫黄、およびリンのうちいずれかを有する炭素鎖長C6〜C24の有機配位子が配位した結晶性スズ含有酸化インジウム粒子から構成されることを特徴とする透明導電膜、並びにその製造方法。 (もっと読む)


【課題】高い導電性と良好な透明性を併せ持ち、液相成膜により容易に製造できる透明導電膜を提供することにあり、さらに、この透明導電膜を用いた透明導電性フィルム、さらには大面積においても電極での電圧降下が抑えられたフレキシブル透明面電極を提供することにある。
【解決手段】金属ナノワイヤ及び金属微粒子を含む透明導電膜において、少なくとも該金属ナノワイヤ、粒状金属化合物及び還元剤を含有する塗布膜を加熱処理することにより、少なくとも一部の金属ナノワイヤが該粒状金属化合物から生成した金属微粒子を介して接合していることを特徴とする透明導電膜。 (もっと読む)


【課題】異なる組成のスパッタリングターゲットを使用して、インラインで積層し、短時間の加熱処理で結晶性を有することができ、低抵抗の透明導電膜を有した透明導電性積層体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜はIn、Sn、Oを主成分とし、Snの含有量が1重量%以上4重量%以下であるインジウム・スズ複合酸化物からなる第一透明導電膜3aと、同じくIn、Sn、Oを主成分とし、Snの含有量が4重量%超え、10重量%以下であるインジウム・スズ複合酸化物からなる第二透明導電膜3bで形成され、前記第一及び第二透明導電膜の膜厚がそれぞれ10nm以上30nm以下であり、両者の透明導電膜の合計厚みが20nm以上40nm以下であり、真空中で加熱温度が120℃以上200℃以下であり、加熱時間が1分以上、30分以下の条件で加熱処理することで前記第一及び第二透明導電膜のいずれも結晶化することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】導電性及び光学特性に優れ、かつ調光フィルムなどの電極に用いた場合、色調及びコントラストの変化が小さい透明導電性シートを提供する。
【解決手段】本発明の透明導電性シートは、透明基材と、前記透明基材の上に形成された透明導電膜と、前記透明導電膜の上に形成された有機物膜とを含む透明導電性シートであって、前記透明導電膜は、導電性粒子とバインダ樹脂とを含み、前記透明導電膜は、前記導電性粒子を83〜88重量%含み、前記透明導電膜の厚さが、0.5〜2.0μmであり、前記有機物膜の厚さが、50〜100nmであり、前記透明導電性シートの抵抗率が、0.2〜1.0Ω・cmであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 欠陥の低減された超薄膜素子が得られる平坦性に優れた透明電極を提供することである。
【解決手段】 実施形態の透明電極は、透明基板(11)と、前記透明基板上に形成され、金属ナノワイヤーの三次元網目構造(20)を含む電極層(12)とを具備する。前記電極層は、表面の金属が反応して反応生成物が形成された金属ナノワイヤー(22)を含む第一の導電性領域(14)と、前記第一の導電性領域に隣接し、前記金属ナノワイヤー(21)の表面の金属が未反応で前記第一の導電性領域より導電性が高い光透過性の第二の導電性領域(13)とを含むこと特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明の解決しようとする課題は、導電層のパターンが形成されていても、パターン同士の隙間を生じさせず、パターン同士の境界部を目立ち難くすることを可能とした透明導電性積層体およびその製造方法を提案するものである。
【解決手段】透明基板と、該透明基板の少なくとも一方の面に形成され外表面に凹部が成形されたハードコート層と、該凹部に形成された導電層とを有し、前記ハードコート層と前記導電層の屈折率の差が0.05以下であることを特徴とする透明導電性積層体である。 (もっと読む)


【課題】スパッタリングターゲットに利用された場合には異常放電等が抑制され、蒸着用タブレットに利用された場合にはスプラッシュ現象が抑制されるZn-Si-O系酸化物焼結体とその製法等を提供する。
【解決手段】酸化亜鉛を主成分とし、Siを含有するZn-Si-O系酸化物焼結体であって、Siの含有量が、Si/(Zn + Si)原子数比で0.1〜10原子%であり、Si元素がウルツ鉱型酸化亜鉛相に固溶していると共に、SiO2相および珪酸亜鉛(Zn2SiO4)であるスピネル型複合酸化物相を含有していないことを特徴とする。上記焼結体の製法は、原料粉末であるZnO粉末とSiO粉末から得られた造粒粉を成形し、その成形体を焼成して上記焼結体を製造する際、700〜900℃の温度域を昇温速度5℃/分以上の速さで昇温させる工程と、成形体を焼成炉内において900℃〜1400℃で焼成する工程を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】シート抵抗が低く、広い波長範囲で高い透過率を有する光透過型金属電極、電子装置及び光学素子を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、複数の第1金属線と、複数の第2金属線と、を含む光透過型金属電極が提供される。複数の第1金属線は、第1方向に沿って並ぶ。第1金属線は、第1方向と交差する第2方向に沿って延びる。複数の第2金属線は、第1方向と第2方向を含む平面に対して平行で第1方向と交差する第3方向に沿って並び、第1金属線と接触する。第2金属線は、その平面に対して平行で第3方向と交差する第4方向に沿って延びる。複数の第1金属線の第1方向における中心どうしの第1距離は、可視光を含む波長帯の最短の波長以下である。複数の第2金属線の第3方向における中心どうしの第2距離は、波長帯の最長の波長を超える。第1金属線と第2金属線の厚さは、最短の波長以下である。 (もっと読む)


【課題】
透明導電膜パターンの視認(骨見え)が十分に抑制された透明導電性フィルムおよびそれを備えたタッチパネルを提供すること。
【解決手段】
屈折率が1.61〜1.70の基材フィルムの片面もしくは両面に、屈折率が1.50〜1.60で基材フィルム片面当たりの光学厚みが(1/4)λである第1層、屈折率が1.61〜1.80である第2層、屈折率が1.50以下である第3層、および屈折率が1.81以上でありパターン化された透明導電膜をこの順に有し、基材フィルム片面当たりの前記第1層の光学厚みと前記第2層の光学厚みの合計が(1/4)λである(但し、λは380〜780nmの範囲)、透明導電性フィルム。 (もっと読む)


1 - 20 / 633