Fターム[5G321AA01]の内容
超電導導体及びその製造方法 (9,304) | 超電導体の成分 (1,671) | 酸化物セラミックス系 (1,431)
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La−Ba−Cu−O系 (396)
La−Sr−Cu−O系 (8)
Y−Ba−Cu−O系 (483)
Bi−Sr−Ca−Cu−O系 (179)
Bi−Pb−Sr−Ca−Cu−O系 (174)
Tl−Ba−Ca−Cu−O系 (29)
Fターム[5G321AA01]に分類される特許
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立方体再結晶集合組織を有するニッケル系の半製品及びその製造方法及び使用
本発明は、再結晶立方体集合組織を有するニッケル系の半製品及びその製造方法及びその使用に関する。この半製品は、例えば高度に微細構造の配向を有する物理化学的被覆用の基材として使用可能である。このような基材は、例えば高温超電導の分野で使用されるようなセラミック被覆用の支持体として適している。この使用は、この場合、超伝導磁石、変圧器、モーター、断層撮影装置又は超伝導電流路において行われる。本発明の根底をなす課題は、高度に微細構造の配向を有する物理化学的被覆用の基材として使用する際に改善された使用特性を有するニッケル系の半製品を開発することであった。特に、前記半製品は、高度で熱安定性の立方体集合組織を有しかつ粒界溝の形成は十分に抑制されるのが好ましい。前記課題は、半製品の材料がマイクロアロイの範囲内でAg添加物を含有し、Ag添加物が最大で0.3Atom%であることにより解決される。この半製品は、例えば高度に微細構造の配向を有する物理化学的被覆用の基材として使用可能である。
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厚膜テープのためのイオンビームアシスト高温超伝導体(HTS)堆積
コーティングされるべき基板(116)上に照射するイオン源(132)或いは(218)が、MOCVD、PVD或いは超伝導体素材の調整のためのその他の処理を強化するのに用いられる。
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