【課題】リールから取り外された薄膜超電導線材を使用する場合であっても、基板側と超電導層側とを容易に識別することができる薄膜超電導線材を提供する。
【解決手段】基板および超電導層を有する本体部と、本体部を被覆する銅保護層あるいは本体部を被覆するはんだ層を介して本体部の上下に貼付された銅保護層とを備えた薄膜超電導線材であって、銅保護層のうち、基板側に位置する銅保護層または超電導層側に位置する銅保護層のいずれかの表面に、超電導層が設けられた側を識別するための識別標識が設けられている。 （もっと読む）

【課題】熱侵入量を低減し、コンパクト化及び製造容易な電流リードを提供する。
【解決手段】所定の面積を有する配向ＮｉーＷ基板上に中間層を形成した複合基板上に、ＴＦＡ−ＭＯＤ法によりＹＢＣＯ酸化物超電導層及び安定化層を被覆して酸化物超電導体を作成した後、これに打ち抜き加工を施してミアンダ形状の電流経路を形成する。このミアンダ形状の電流経路の複数本を両端部に電気的絶縁材料からなる低熱伝導部材を介して一対の電極Ａ，Ｂが接続された支持部材の表面に載置し、その両端部１ａ、１ｂを電極Ａ、Ｂにそれぞれ接続した後、絶縁板及び絶縁シートにより固定するとともに、金属ケースに収容して電流リードを作成する。 （もっと読む）

【課題】印加される磁場の方向や膜の部位によらずに、量子化磁束の動きが効果的に抑制された酸化物超電導膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】レーザー蒸着法で酸化物超電導膜を製造する方法であって、エキシマレーザー光１８ａ及びＹＡＧレーザー光１８ｂを同時にターゲット１５に照射することで、基材１２上に常電導部分となる不純物の比率を０．３〜６質量％含む酸化物超電導膜を形成する工程を有することを特徴とする酸化物超電導膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＲＥＢａ₂Ｃｕ₃Ｏ_7-x相中にＲＥ₂ＢａＣｕＯ₅相が分散した酸化物バルク体を組み合わせた酸化物超伝導バルク磁石部材で、容易に製造でき、パルス着磁法で繰り返し着磁しても又は、超伝導発電機や超伝導モーター等の回転機の磁石に使用したとしても、強い磁場で、対称的に均一な磁場を安定に得ることができる酸化物超伝導バルク磁石部材を提供する。
【解決手段】ＲＥＢａ₂Ｃｕ₃Ｏ_7-x（ＲＥは、希土類元素又はそれらの組み合わせ。ｘは、酸素欠損量であり、０＜ｘ≦０．２である。）相中にＲＥ₂ＢａＣｕＯ₅相が分散した酸化物バルク体を組み合わせた酸化物超電導バルク磁石部材であって、前記酸化物バルク体が、リングを含む形状を組み合せた入れ子状に配置され、前記入れ子状に配置された隣り合う酸化物バルク体の隙間をつなぐ継ぎ目により少なくとも１ヶ所でつながっていることを特徴とする酸化物超伝導バルク磁石部材である。 （もっと読む）

【課題】ＲＥＢａ₂Ｃｕ₃Ｏ_7-x相中にＲＥ₂ＢａＣｕＯ₅相が分散した酸化物バルク体を組み合わせた酸化物超伝導バルク磁石部材で、パルス着磁法で繰り返し着磁しても、強い磁場で、対称的に均一な磁場を有する超伝導バルク磁石にできる酸化物超伝導バルク磁石部材を提供する。
【解決手段】ＲＥＢａ₂Ｃｕ₃Ｏ_7-x（ＲＥは、希土類元素又はそれらの組み合わせ。ｘは、酸素欠損量であり、０＜ｘ≦０．２である。）相中にＲＥ₂ＢａＣｕＯ₅相が分散した酸化物バルク体を組み合わせた酸化物超伝導バルク磁石部材であって、前記酸化物バルク体が、複数で入れ子に配置され、前記入れ子に配置された各酸化物バルク体間に、０．０１ｍｍ以上０．４９ｍｍ以下の隙間を有し、前記隙間の少なくとも一部に樹脂、グリース又は半田を有することを特徴とする酸化物超伝導バルク磁石部材である。 （もっと読む）

【課題】イオンビームアシストスパッタ法により４回対称ＭｇＯ膜と３回対称ＭｇＯ膜を選択的に作り分けることのできる成膜方法を提供することを第１の目的とする。また、４回対称ＭｇＯ膜を用いた酸化物超電導導体及び３回対称ＭｇＯ膜を用いた酸化物超電導導体を提供することを第２の目的とする。
【解決手段】イオンビームアシストスパッタ法により金属基材上にＭｇＯ膜を成膜する方法において、背圧を０．００１Ｐａ未満として成膜することにより４回対称ＭｇＯ膜を成膜することができ、背圧を０．００１Ｐａ以上として成膜することにより３回対称ＭｇＯ膜を成膜することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高価なフォトマスクを要することなくエッチングにより超電導層に溝部形成が可能であって細線化を確実に行うことができる方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、基材上に中間層を介し超電導層が形成され、少なくとも超電導層を複数に分断離間する分離溝を備えてなる超電導細線の製造方法であって、基材上に中間層と超電導層と保護層を備えた超電導導体に対し、保護層から少なくとも超電導層表面に達する溝部を超電導導体の長さ方向に沿って形成する工程と、ネガ型の感光性樹脂層を形成する工程と、保護層上の感光性樹脂層が残り、溝部に対応する位置の感光性樹脂層を除去して溝部に連続する接続溝を感光性樹脂層に形成するように露光、現像を行う工程と、溝部と接続溝を介してそれらの下に位置する酸化物超電導層をエッチングにより除去して分離溝を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、超電導線材の修復方法、及び、密着不良箇所が修復された超電導線材を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、超電導積層体１と、該超電導積層体１の表面１８ａに、ハンダ層３を介して接合された安定化層２とを有する超電導線材Ａについて、安定化層２の密着不良箇所を修復するに際し、密着不良箇所のハンダ層３を、エッチング液を用いて選択的に除去し、密着不良箇所の安定化層２を、超電導積層体１の表面１８ａから剥離する工程と、超電導積層体１の表面１８ａから剥離した安定化層２を、超電導線材Ａから除去する工程と、安定化層２及びハンダ層３の前記各工程で除去された欠損部２２に、金属微粒子４１を含有する導電性ペースト４を供給し、焼成することによって、欠損部２２を金属微粒子４１の焼結体４３によって補填する工程とによって安定化層２の密着不良箇所２１を修復する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、接続強度が高い超電導接続構造体、簡単な接続作業で形成できる超電導線材の接続方法、超電導コイル装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の超電導接続構造体１Ａは、基材１１と、該基材１１上に設けられた酸化物超電導層１７と、該酸化物超電導層１７上に設けられた安定化層１９とを備え、その一端部が接続端２１、３１とされた少なくとも２本の超電導線材２、３と、各超電導線材２、３の各接続端２１、３１どうしを接続する複数の接続用超電導テープ４とを有し、各超電導線材２、３は、各安定化層１９側の表面２１ａ、３１ａが同じ側となり、且つ、前記各接続端２１、３１の側端面どうしが隣接するように配されており、各接続用超電導テープ４は、互いに間隔を空けて配列するように、それぞれ、その安定化層１９側の表面４ａが、各接続端２１、３１の各安定化層１９側の表面２１ａ、３１ａに亘って接合されている。 （もっと読む）

【課題】イオンビームアシスト法（ＩＢＡＤ法）により形成される中間層の結晶配向性を高め、かつ、中間層の成膜条件が広範囲となるよう促す特性を有するベッド層を備えた酸化物超電導体用基材及びそれを用いた酸化物超電導導体の提供。
【解決手段】本発明の酸化物超電導導体用基材は、金属基材２１上に、Ｘ_２Ｏ_３酸化物（Ｘは、Ｙｂ、Ｇｄ、Ｈｏ、ＬａまたはＳｍを示す。）、又は、前記Ｘ_２Ｏ_３酸化物とＹ_２Ｏ_３から選択される２種以上が混合された混合酸化物よりなるベッド層２２と、ベッド層２２上にイオンビームアシスト法により成膜された中間層２３とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】交流損失の充分な低減を図ることができ、また優れた超電導特性を有する細線化された酸化物超電導薄膜が基板上で長さ方向に形成されている超電導線材の製造方法を提供する。
【解決手段】金属有機化合物溶液の塗膜の形成を回避する塗膜非形成部が、超電導線材用基板の長さ方向に沿って、幅方向に少なくとも１つ以上設けられている超電導線材用基板の表面に金属有機化合物溶液を塗布して、細線状の金属有機化合物溶液の塗膜を長さ方向に沿って、幅方向に複数設け、その後、金属有機化合物に含有される有機成分を熱分解して除去する仮焼熱処理を行い、さらに、結晶化を行う本焼熱処理を行うことにより、超電導線材を製造する。 （もっと読む）

本発明は、スペイン特許第２２５９９１９号にこれまで説明されている解決手段を出発点として利用して、１０％の最大のフッ素含有量を有している有機金属の前駆物質の溶液を得ることに言及する。この変更は、超伝導の分解層の熱処理（熱分解）、および結晶の成長を一段階において実施可能にする。さらに、低いフッ素含有量は毒性および腐食のリスクを低下させる。 （もっと読む）

【課題】結晶化熱処理の昇温過程において水蒸気分圧を制御するとともに、酸化物超電導体中に磁束ピンニング点を導入する。
【解決手段】配向ＮｉーＷ基板１上にＧｄ_２Ｚｒ_２Ｏ_７層及びＣｅＯ_２層を形成した複合基板上に、Ｙ、Ｂａ、Ｃｕ及びＤｙの金属有機酸塩をＤｙ／Ｙ＝０．１のモル比で含む原料溶液を塗布し、仮焼熱処理を施し、次いで、５０Ｔｏｒｒ未満の圧力下で室温から結晶化温度７３０℃までの昇温過程と結晶化熱処理温度における恒温過程により結晶化熱処理を施した。昇温過程は、５００℃で水蒸気分圧１．０５ｖｏｌ％で炉内に導入され、６９０℃まで水蒸気分圧を４．２ｖｏｌ％に連続的に増加させることにより、磁束ピンニング点を均一に分散させることができ、このＹＢＣＯ酸化物超電導体は１００Ａ／ｃｍ−ｗｉｄｔｈのＩｃ値及びＪｃ,ｍｉｎ／Ｊｃ,ｍａｘ＝０．８（１Ｔ）の磁場印加角度依存性を示した。 （もっと読む）

【課題】幅広の金属基板上に中間層が形成された幅広の金属基材であっても、金属基板と中間層の熱収縮差による反りの発生を抑制することができ、その後の酸化物超電導層形成工程、安定化層形成工程、薄膜超電導線材細線化工程における不良の発生が抑制できる薄膜超電導線材用金属基材、その製造方法および薄膜超電導線材の製造方法を提供する。
【解決手段】金属基板の表面に配向性のセラミックス層を有し、金属基板の裏面に非配向性のセラミックス層を有している薄膜超電導線材用金属基材であって、金属基板を成膜装置内で加熱して金属基板の表面に配向性のセラミックス層を形成する工程と、金属基板を成膜装置内で加熱して金属基板の裏面に非配向性のセラミックス層を形成する工程と、これらの工程の間に介在して、配向性のセラミックス層または非配向性のセラミックス層が形成された金属基板を成膜装置から取り出して冷却する工程とにより製造される。 （もっと読む）

【課題】超電導層膜に大きなダメージを発生させることがなく、切断工程において厳しい条件管理を必要としない、また、製品の歩留まりを低下させず、生産性の向上を図ることができる超電導薄膜線材の製造方法を提供する。
【解決手段】金属基板上に中間層膜、超電導層膜の順に積層する超電導薄膜線材の製造方法であって、所望する超電導薄膜線材の倍以上の幅を有する金属基板の上に、中間層膜を形成して金属基板／中間層膜複合線材とする中間層膜形成工程と、金属基板／中間層膜複合線材を、所望する超電導薄膜線材の幅に切断する切断工程と、切断された金属基板／中間層膜複合線材の中間層膜の上に超電導層膜を形成する超電導層膜形成工程とを有している。 （もっと読む）

【課題】優れた密着強度を銅の高配向と同時に実現できる超電導化合物用基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】圧下率９０％以上で加工された銅箔の表面をスパッタエッチングして表面の吸着物を除去し、非磁性の金属板をスパッタエッチングし、前記銅箔と前記金属板とを圧延ロールにより加圧して接合し、前記接合した積層体を加熱して前記銅を結晶配向させるとともに、前記銅を前記金属板に１０ｎｍ以上熱拡散させ、前記積層体の銅表面上に保護層を積層することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れたＪｃ（臨界電流密度）やＩｃ（臨界電流値）を有する高温超電導線材を製造することができる酸化物超電導薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】配向金属基板上１に、中間層２および超電導層３が形成されている酸化物超電導薄膜の製造方法であって、配向金属基板を、真空雰囲気あるいは還元雰囲気に設けた熱処理室２２内で、配向金属基板上に形成された酸化層を還元除去する温度で加熱し、その後、１００℃以下まで冷却する熱処理工程と、熱処理工程後の配向金属基板を、熱処理室より取り出して大気中に曝露する曝露工程と、成膜室２３内で、曝露工程後の配向金属基板上に、酸化物薄膜層を形成させる中間層形成工程とを備えている。 （もっと読む）

【課題】中間層の成膜工程を改善することで、所望の超電導特性（例えば臨界電流特性）を実現できるとともに、中間層の薄膜化により超電導線材の生産性を向上できる技術を提供する。
【解決手段】金属基板上１０にイオンビームアシスト蒸着法により配向層２１を形成し、この配向層の上に緩衝層２２を形成する超電導線材用テープ基材２の製造方法において、配向層に所定の熱履歴を与えることにより配向層の格子歪みを緩和する。具体的には、配向層を２００℃以上１０００℃以下、好ましくは４００℃以上６００℃以下で加熱することにより、配向層に所定の熱履歴を与える。 （もっと読む）

【課題】ベッド層をＭＯＤ法により形成することによりＩＢＡＤ層の配向性を向上させる。
【解決手段】電解研磨基板１上に、酸素雰囲気中でＭＯＤ−ＣＺＯ層２、ＩＢＳ−ＧＺＯ３、ＩＢＡＤ−ＭｇＯ層４、ＬＭＯ層５、ＰＬＤ−ＣｅＯ_２層６及びＰＬＤ−ＧｄＢＣＯ超電導層８を順次成膜した超電導線材１０において、ＣｅＯ_２層はΔφ＝４．２ｄｅｇ．と機械研磨基板の場合と同程度の配向性を示し、ＧｄＢＣＯ超電導層はＩｃ＝２４３Ａ（Ｊｃ〜５ＭＡ／ｃｍ^２）と機械研磨基板を用いた場合と同程度のＩｃ値を示す。 （もっと読む）

【課題】交流損失の低減効果が高いマルチフィラメント型超電導線材を提供することを第１の目的とする。また、本発明は交流損失の低減効果が高いマルチフィラメント型超電導線材を、生産性良好に製造することのできる製造方法を提供することを第２の目的とする。
【解決手段】長尺の基材１上に中間層２を介して形成された超電導層３と、超電導層３の上に形成された金属安定化層４とを具備してなる超電導線材Ａにおいて、（ｉ）基材１の長手方向に沿って、金属安定化層４から超電導層３を介し中間層２に達し、中間層２を露出させた溝２０が、基材１の幅方向にわたり、平行に複数形成されており、かつ、（ｉｉ）超電導層３下部の溝幅ｄ１と金属安定化層４下部の溝幅ｄ２との差δｄ（＝ｄ１−ｄ２）が１０μｍ以下であることを特徴とする低交流損失マルチフィラメント型超電導線材である。 （もっと読む）