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Fターム[5G435HH14]の内容

要素組合せによる可変情報用表示装置 (89,878) | 特徴的材質 (5,982) | 電気的 (1,625) | 絶縁体 (196)

Fターム[5G435HH14]に分類される特許

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【課題】配線層の膜応力を低減し、製造歩留まりを向上することが可能な半導体装置およびその製造方法並びに表示装置および電子機器を提供する。
【解決手段】本技術の半導体装置は、一方向に延在する複数の第1配線層と、第1配線層の間に設けられた第1配線層よりも膜厚が薄いゲート電極と、第1配線層およびゲート電極上に形成された絶縁膜と、絶縁膜上の前記ゲート電極に対応する位置にチャネル領域を有する半導体層と、半導体層上に設けられた層間膜と、層間膜上に形成されると共に、層間膜に設けられた貫通孔を介して半導体層と接続された第2配線層とを備えている。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、高信頼性化す
ることを目的の一とする。
【解決手段】第1の絶縁膜を形成し、第1の絶縁膜上に、ソース電極およびドレイン電極
、ならびに、ソース電極およびドレイン電極と電気的に接続する酸化物半導体膜を形成し
、酸化物半導体膜に熱処理を行って、酸化物半導体膜中の水素原子を除去し、水素原子が
除去された酸化物半導体膜に酸素ドープ処理を行って、酸化物半導体膜中に酸素原子を供
給し、酸素原子が供給された酸化物半導体膜上に、第2の絶縁膜を形成し、第2の絶縁膜
上の酸化物半導体膜と重畳する領域にゲート電極を形成する半導体装置の作製方法である
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【課題】信頼性の高い半導体装置、及び該半導体装置の作製方法を提供する。半導体装置を歩留まりよく作製し、高生産化を達成する。
【解決手段】ゲート電極層、ゲート絶縁膜、酸化物半導体膜が順に積層され、酸化物半導体膜に接するソース電極層及びドレイン電極層が設けられたトランジスタを有する半導体装置において、エッチング工程により、ソース電極層及びドレイン電極層を形成後、酸化物半導体膜表面及び該近傍に存在するエッチング工程起因の不純物を除去する工程を行う。 (もっと読む)


【課題】高温での信頼性に優れた偏光素子を提供する。
【解決手段】偏光素子100は、基板11と、基板11上に平面視ストライプ状に設けられた第1のグレーティング1と、基板11上に平面視ストライプ状に設けられた第2のグレーティング2と、を備えている。第1のグレーティング1は、複数のストライプ状の金属層12を備え、第2のグレーティング2は、金属層12の延在方向と平行に延在する複数のストライプ状の吸収層14を備えており、窒化クロム、窒化タングステン、窒化タンタルのうち少なくとも一つを含む。さらに、第1のグレーティング1と第2のグレーティング2とは積層体5をなし、金属層12と吸収層14との間に、誘電体層13が設けられている。 (もっと読む)


【課題】パターンの断線を抑制できるテレビを提供する。
【解決手段】一つの実施の形態に係るテレビは、筐体と、ディスプレイモジュールと、電子部品と、フレキシブルケーブルとを備える。前記電子部品はコネクタを有する。前記フレキシブルケーブルは、前記コネクタに接続され、第1の面と、第2の面と、第1の配線パターンと、第2の配線パターンと、端子パターンと、第1のカバー部と、第2のカバー部と、を備える。前記第1の配線パターンおよび前記端子パターンは、前記第1の面に設けられる。前記第2の配線パターンは、前記第2の面に設けられ、前記第1の配線パターンに電気的に接続される。前記端子パターンは、前記コネクタの端子と接触するとともに、前記第2の配線パターンに電気的に接続される。前記第1のカバー部は、前記第1の配線パターンの少なくとも一部を覆う。前記第2のカバー部は、前記第2の配線パターンを覆う。 (もっと読む)


【課題】信頼性の高い半導体装置を提供する。該半導体装置を作製する。半導体装置を歩留まりよく作製し、生産性を向上させる。
【解決手段】ゲート電極層、ゲート絶縁膜、酸化物半導体膜が順に積層され、酸化物半導体膜に接するソース電極層及びドレイン電極層が設けられたトランジスタを有する半導体装置において、エッチング工程によりゲート電極層、又はソース電極層及びドレイン電極層を形成後、ゲート電極層又は酸化物半導体膜表面及び該近傍に存在するエッチング工程起因の残留物を除去する工程を行う。 (もっと読む)


【課題】静電容量方式タッチパネル用電極の基材として用いた際に、透明導電膜のパターンが見え難く、優れた視認性を得ることができる積層体を提供すること。
【解決手段】透明基材の少なくとも片面に、ハードコート層、高屈折率層、および低屈折率層がこの順序で積層された積層体であって、高屈折率層は、樹脂成分に、酸化チタン粒子および酸化ジルコニウム粒子からなる群より選ばれる少なくとも1種の金属酸化物粒子を含有し、厚みが20nm以上、70nm以下であり、屈折率が1.72以上であり、低屈折率層は、厚みが10nm以上、50nm以下であり、屈折率が上記高屈折率層の屈折率よりも0.26以上低い、静電容量方式タッチパネル電極用積層体。 (もっと読む)


【課題】 有機樹脂膜を有するTFTアレイ基板の製造工程において、ブラシ洗浄の際に異物が有機平坦化膜表面にキズを生じさせることがある。このようにキズが生じた有機平坦化膜上に、画素電極となる透明電極膜を成膜した場合、キズ上の透明電極膜も断線してしまい、画素電極に信号が伝わらず表示不良を引き起こすことがある。
【解決手段】 有機平坦化膜を塗布する工程と、中間調露光を用いて有機平坦化膜に凹凸を形成する工程と、凹凸が形成された有機平坦化膜表面をロールブラシを用いて洗浄する工程と、洗浄工程後に、有機平坦化膜上に画素電極を構成する透明導電膜を成膜する工程とを備えた薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】表示装置において、近隣の他の配線に悪影響を与えることなく、配線の欠陥を修復することができるようにする。
【解決手段】表示装置の欠陥修正方法は、互いに隣接する2つの絵素電極31a,31bに挟まれた1つの隙間領域10において同一層内で互いに平行に延在する複数の配線11,12と、これらを覆うように設けられた上側絶縁層とを備える表示装置における、前記複数の配線のうちの第1配線の欠陥を修正する方法であって、前記欠陥としての断線箇所41を挟むように位置する第1,第2部位61,62において、前記上側絶縁層に第1,第2貫通孔63,64をそれぞれあける工程と、前記第1配線のうち第1貫通孔63内に露出した部分と前記第1配線のうち第2貫通孔64内に露出した部分とを電気的に接続するように、修復用導電膜54を形成する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】生産性に優れた電気泳動表示装置を提供する。
【解決手段】隣接する画素を区分する第1の絶縁体層111と、第1の絶縁体層によって画素毎に区分されたマイクロカプセル301を含む層と、マイクロカプセルを含む層を間に挟む一対の電極203,110a,110bと、一対の電極の一方と電気的に接続される有機薄膜トランジスタと、を有する画素部と、画素部を間に挟む一対のプラスチック基板101,201と、を備え、有機薄膜トランジスタは、開口部を有する第2の絶縁体層105と、開口部内に設けられ、開口部によって隣接する有機薄膜トランジスタと絶縁分離された半導体層106a,106bと、半導体層とゲート絶縁膜を間に介して重なるゲート電極103と、を含む電気泳動表示装置である。 (もっと読む)


【課題】絶縁層上の有機半導体層をレーザ光を用いてパターニングしたときであっても、有機半導体層に損傷が生じ難い半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、(A)基体10上にゲート電極12を形成した後、(B)基体10及びゲート電極12上にゲート絶縁層13を形成し、次いで、(C)基体10に到達する分離溝16をゲート絶縁層13に形成した後、(D)ゲート絶縁層13上及び分離溝16の底部に露出した基体10上に有機半導体層14を形成し、次に、(E)少なくとも分離溝16の底部に露出した基体10上に形成された有機半導体層14の部分にレーザ光を照射して分離溝16の底部の少なくとも一部を露出させる一方、有機半導体層14の上に一対のソース/ドレイン電極15を形成する各工程から成る。 (もっと読む)


【課題】画像表示装置の薄型化を実現することができ、製造工程が簡素化されるだけでなく、不要な構成要素の消耗を最小化し、製造コストを低減することができるとともに、モアレ現象を改善することができるタッチセンサ内蔵型カラーフィルタ基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明によるタッチセンサ内蔵型カラーフィルタ基板1は、透明基板10と、透明基板10上に形成された金属メッシュ電極11と、金属メッシュ電極11上に金属メッシュ電極11の形状と対応するように形成され、少なくとも一つ以上の開口領域が形成されたブラックマトリックス層14と、を含む。 (もっと読む)


【課題】識別可能であり、透過量の低下が少ない光学素子の提供
【解決手段】透光性基板11と、この透光性基板11の光学領域から外れた周縁領域に設けられた遮光膜12とを備え、遮光膜12は透光性基板11へ入射する光を反射する反射層121及び光を吸収する吸収層122を有し、反射層121と吸収層122は透光性基板11の表面に順に積層され、遮光膜12には、認識マークMが設けられ、当該認識マークMは吸収層122の厚み方向に設けられた凹部2である。認識マークMが透光性基板11の光学領域から外れた周縁領域にあることに伴って、光学素子10としての本来の機能が阻害されず、その上、認識マークMが反射層121ではなく吸収層122に形成されることで、光学素子10内の迷光を少なくすることができる。 (もっと読む)


【課題】電子機器はそのボタンの大きさの制約が大きく、また、操作の柔軟性が損なわれている。よって視覚的にわかりやすく、操作性に優れる表示装置を有する電子機器を提供する。
【解決手段】画素は、第1乃至第6の薄膜トランジスタと、EL素子と、を有し、EL素子は、画素電極を有し、画素電極は、第1の薄膜トランジスタの第1端子と電気的に接続され、第2の薄膜トランジスタのゲートは、第3の薄膜トランジスタのゲートに接続され、第4の薄膜トランジスタのゲートは、第5の薄膜トランジスタのゲートに接続され、第3の薄膜トランジスタの第1の端子は、第1の薄膜トランジスタのゲートと電気的に接続され、第1乃至第6の薄膜トランジスタは、第1の絶縁膜に覆われている。 (もっと読む)


【課題】薄膜トランジスタアレイ基板、有機発光表示装置、及び薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】基板10上に配置され、活性層212、ゲート電極214、ソース電極218a、ドレイン電極218b、活性層とゲート電極との間に配置された第1絶縁層13、及びゲート電極とソース電極及びドレイン電極との間に配置された第2絶縁層15を含む薄膜トランジスタと、第1絶縁層及び第2絶縁層上に配置され、ソース電極及びドレイン電極のうち一つと連結される画素電極117と、ゲート電極と同一層で形成された下部電極314及び画素電極と同一材料を含む上部電極317を含むキャパシタと、第2絶縁層と画素電極との間及び下部電極と上部電極との間に直接配置された第3絶縁層116と、ソース電極、ドレイン電極及び上部電極を覆って画素電極を露出させる第4絶縁層19と、を含む薄膜トランジスタアレイ基板。 (もっと読む)


【課題】入射角依存性、及び偏角散乱性を有し、所望方向に中心角を有する散乱光を出射させることにより観察に寄与する光の利用効率を高めることができる光制御フィルムを提供すること。
【解決手段】本発明の複数枚の散乱フィルム32、34が積層された光制御フィルム30は、散乱フィルムが光重合性組成物の硬化物からなる板状のマトリックスとマトリックス中に配設されマトリックスと屈折率が異なる複数の柱状構造体とを備え、同一の散乱フィルム内では、各柱状構造体が、散乱フィルムの法線方向に対し一定角度(θ1、θ2)で傾斜し略平行に配向され、傾斜角度が、一方の散乱フィルムから他方の散乱フィルムに向けて段階的に変化し、光制御フィルムへの光の入射角と、散乱光の出射角度範囲とが異なることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明の一態様は、酸化物半導体を用いたデバイスにおいて高い移動度を達成し
、信頼性の高い表示装置を提供する。
【解決手段】表面と略垂直な方向にc軸が配向する結晶領域を有する酸化物半導体層を形
成し、酸化物半導体層上に接する酸化物絶縁層を形成し、第3の加熱処理を行うことによ
り、酸化物半導体層に酸素を供給し、酸化物絶縁層上に、水素を含む窒化物絶縁層を形成
し、第4の加熱処理を行うことにより、少なくとも酸化物半導体層と酸化物絶縁層の界面
に水素を供給する。 (もっと読む)


【課題】単純化された有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板本体上にゲート絶縁膜を形成する段階と、ゲート絶縁膜上に透明導電層及びゲート金属層を順次に形成する段階と、透明導電層及びゲート金属層を共にパターニングして透明導電層部及びゲート金属層部を含む複層構造を有する画素電極中間体、及び、ゲート電極を形成する段階と、画素電極中間体及びゲート電極上に層間絶縁膜を形成する段階と、層間絶縁膜に画素電極中間体の一部を露出する開口部を形成する段階と、層間絶縁膜上にデータ金属層を形成する段階と、データ金属層をパターニングしてソース電極及びドレイン電極を形成し、層間絶縁膜の開口部を通して露出された画素電極中間体のゲート金属層部を除去して画素電極を形成する段階と、を含む。 (もっと読む)


【課題】可撓性のパネル基板と可撓性の接続用基板との接合強度を高め、もって表示品質の向上を図る。
【解決手段】第1のパネル基板の裏面に設置された表示用電極の端子部と、可撓性の接続用基板に設置された接続用電極の端子部とを異方性導電材により接続した構造になる情報表示パネルモジュールにおいて、上記接続用基板を、該基板と接合された第1のパネル基板と略同一の基板幅とし、上記第1のパネル基板の端縁、上記可撓性の接続用基板の端縁、ならびに上記異方性導電材から露出した上記表示用電極端子部および上記接続用電極端子部を被覆する防湿性絶縁材を、上記第1のパネル基板の幅を超える長さで上記第1のパネル基板の側面にわたって形成するとともに、上記異方性導電材の両側端面側に当たる、上記第1のパネル基板と上記可撓性の接続用基板との隙間部分にも防湿性絶縁材を形成する。 (もっと読む)


【課題】化学強化されたカバーガラス用ガラス基板の表面に直接印刷を施すことが可能で、しかも印刷時のガラス基板の傷発生を防止することが可能な携帯機器用カバーガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】携帯機器に用いられるカバーガラスの製造方法であって、カバーガラス用ガラス基板の表面に印刷を施す印刷工程を含む。この印刷工程の前に、上記ガラス基板1の印刷面1Aを除く領域に保護膜2を形成する。たとえば印刷工程に使用する印刷機における位置決め部材と接触するガラス基板の領域に少なくとも保護膜2を形成する。そして印刷工程では、この保護膜2を形成した状態のガラス基板1の印刷面1Aに対して印刷を施す。 (もっと読む)


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