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Fターム[5H307DD01]に分類される特許
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流量調整弁
【課題】流量調整弁において、高精度に流量を調整することである。
【解決手段】流量調整弁10は、設定装置20と弁本体部30とで構成される。設定装置20は、流量の設定を行う設定操作盤22と、設定された流量に対応して、弁本体部30の調整部34を移動させるアクチュエータ部24を含んで構成される。弁本体部30は、筐体部32と、筐体部32の内部の流量調整室40に配置される複数の平板可動子50と、流量調整室40の体積を縮小拡大するための調整部34とを含んで構成される。平板可動子50は、中央部に支持穴52を有し、支持穴52の外側に第1くぼみ56と、第1くぼみ56の外側に第2くぼみ58と、第2くぼみ58から外周側に向かって放射状に延びる浅溝部としての複数の細溝60を含んで構成される。
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流量センサ、マスフローコントローラ、および流量センサの製造方法
【課題】流路を構成する部材間の密閉性を高め、ハロゲン系ガスに対しても使用可能な耐腐食性を有するMEMS型流量センサを提供する。
【解決手段】実施形態によれば、流量センサ10は、基材11の表面と流路構成基材21の裏面とが対向するように貼り合わせて、固定部材によって固定される。基材11は、表面上の流路形成領域に、一対の感熱膜12と、一対の感熱膜間の中間に位置するヒータ膜13と、流路保護膜15と、を有し、流路形成領域以外の領域上に、耐腐食性を有する金属保護膜を有する。流路構成基材21の裏面の流路形成領域に形成される溝と、流路形成領域以外の他の領域と溝とを区切り、他の領域に比して突出する側壁構成部と、を有し、耐腐食性を有する材料によって構成される。流路構成基材21の側壁構成部は、基材11の金属保護膜上に位置するように圧着される。
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マスフローコントローラーおよびマスフローコントローラーの流量制御方法
【課題】液化ガスの再液化を防ぎながら液化ガスの流量を精密に制御可能なマスフローコントローラーを提供する。
【解決手段】実施形態のマスフローコントローラー100は、流入口11から流入した液化ガスを分流するセンサー用配管13とバイパス配管14と、前記センサー用配管を覆うように配置された熱式センサー7と、前記センサー用配管を覆って前記センサー用配管と共に二重配管を形成し、前記センサー用配管および前記バイパス配管に連通する断熱領域15と、前記連通を遮断して前記断熱領域を閉鎖領域とする閉鎖バルブ1と、を備える。実施形態のマスフローコントローラーは、前記センサー用配管と前記バイパス配管とから合流した前記液化ガスの流出口12と、前記熱式センサーの検出結果に基づいて前記流出口から流出する前記液化ガスの流量を制御する制御手段と、前記各部位の全体を下方から加熱するヒーター2と、をさらに備える。
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ガス流量検定システム及びガス流量検定ユニット
【課題】圧力調整弁の二次側圧力の変動を低減して、流量制御機器から排出するガス流量を高精度に検定でき、測定用タンク内の圧力降下率を一定に維持する。
【解決手段】プロセスガス供給源からのガスを第1ライン遮断弁22と第2ライン遮断弁23と流量制御機器24とを経由しプロセスチャンバに供給する複数のプロセスガスライン2と、共用ガス供給源からのガスを第2ライン遮断弁23と流量制御機器24とを経由し排出すべく、分岐接続された共用ガスライン1とを有し、共用ガスライン1には、共用遮断弁12と測定用タンク13と第1圧力センサ141と圧力調整弁15とを備え、第1ライン遮断弁22及び共用遮断弁12を弁閉したとき、測定用タンク13内におけるガスの圧力降下を第1圧力センサ141により測定し流量制御機器24の流量検定を行うガス流量検定システムにおいて、圧力調整弁15は、該圧力調整弁15の二次側圧力を制御する。
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マイクロシステムにおける流体の制御方法
【課題】刺激感応物質を制御流体に含有させ、該制御流体に瞬間的な刺激を与えることによって、該制御流体と合流させた被制御流体の流れを高速且つ高精度に制御する方法等を提供すること。
【解決手段】主流路と副流路に分岐した被制御流体流路を有するマイクロシステムにおいて被制御流体の流れを制御する方法であって、刺激感応物質を含む制御流体を合流させ、合流後に該被制御流体と並行する該制御流体に刺激を与えることによって主流路における被制御流体の流量を一時的に制御し、それによって該被制御流体の副流路における流量を間接的に制御する方法、及び該方法を用いるマイクロシステム。
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流量測定装置及び流量制御装置
【課題】流量測定装置10や流量制御装置100においてコンパクト性を損なうことなく、流量測定精度を向上させる。
【解決手段】
測定対象流体が流れる流体抵抗部材3と、対象流体が導かれる感圧面に貼り付けられた抵抗素子2Bの電気抵抗値の変化から流体抵抗部材3の上流側圧力を測定することが可能であるとともに抵抗素子2Bの温度による電気抵抗値の変化から前記感圧面の温度を測定することが可能な上流側圧力センサ21と、流体抵抗部材3を流れる対象流体の温度を測定可能な位置に配置された温度検知手段8と、上流側圧力センサ21で測定された上流側流路の圧力及び前記流体抵抗部材の圧力−流量特性に加えて、上流側圧力センサ21で測定された圧力センサ温度及び温度検知手段8で測定された流体抵抗部材3における対象流体温度に少なくとも基づいて、当該対象流体の流量を算出する流量算出部9とを備えるようにした。
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流量制御装置および流量センサユニット
【課題】小流量の流量制御と大流量の流量制御とを高精度に達成する流量制御装置を実現する。
【解決手段】流体通路10は、バイパス流路16とセンサ用流路12,14を備える。センサ用流路12等は、バイパス流路16を流れる前の流体から一部を分岐させ、その後、バイパス流路16を流れた流体に合流させる。センサ用流路14は、センサ用流路12と等しい流路断面と、より長い流路とを有する。流量センサユニット30は、各センサ用流路について、上流側抵抗器と下流側抵抗器と出力部を備える。上流側抵抗器312,322は、センサ用流路12内の流体を加熱する。下流側抵抗器314,324は、上流側抵抗器312,322よりも下流に設けられ流体によって温度が変化する。出力部316,318は、上流側と下流側抵抗器の抵抗の差に応じた信号を出力する。センサ用流路12,14は、流体を分岐させる地点から流体を合流させる地点までの距離が等しい。
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圧力の揺らぎに鈍感な質量流量制御のための装置及び方法
【課題】圧力変動に対する感度を実質的に取り除いた質量流量コントローラを提供する。
【解決手段】質量流量コントローラは、圧力センサと組み合わされた熱質量流量センサを含んでおり、入力圧力における揺らぎに比較的敏感ではない質量流量コントローラを提供する。圧力センサと熱センサとは、それぞれが測定された入口流率とデッド・ボリュームの中の圧力とを示す信号を電子コントローラに提供する。電子コントローラは、測定された圧力を用いて測定された入口流率を補償して出口流率の補償された測度を生じ、これが質量流量コントローラの出口弁を動作させるのに用いられる。
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圧力制御式流量基準器を構成する基準圧力式流量制御器用の耐食性圧力式流量制御器。
【課題】腐食性ガスを対象とする流量制御器の流量校正を簡単に行え、安価で、流量制御精度が高く、耐食性を有する基準圧力式流量制御器を提供する。
【解決手段】オリフィスの上流側に設けたコントロール弁と,コントロール弁とオリフィス間に設けた圧力検出器と,圧力検出器の検出圧力から流量を演算すると共に、流量指令信号と前記演算した流量信号との差を制御信号として前記コントロール弁の駆動部へ出力する演算制御装置とから構成され、オリフィスの上流側圧力と下流側圧力との比を被制御流体の臨界圧比以下に保持した状態で前記コントロール弁の開閉によりオリフィス上流側圧力を調整してオリフィス下流側の流体流量を制御するようにした、圧力制御式流量基準器に用いる基準圧力式流量制御器に於いて、当該基準圧力式流量制御器の内部の流体が接する部分の全面に金メッキ皮膜を形成し、基準圧力式流量制御器を耐食性圧力式流量制御器9とする。
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有効成分の供給量管理システム及び供給量管理方法
【課題】単位時間内に供給されるC4混合物に含まれる有効成分の供給量を精度よく管理することができる供給量管理システムを提供する。
【解決手段】供給量管理システム1は、プラント内において、発生装置M1から処理装置M2に供給されるC4混合物に含まれる有効成分の供給量を管理するシステムであり、発生装置M1から処理装置M2に供給されるC4混合物の流量を連続的に計測する流量計測部2と、発生装置M1から処理装置M2に供給されるC4混合物に含まれる有効成分の濃度を連続的に計測する濃度計測部3と、流量計測部2によって計測されるC4混合物の流量データ及び濃度計測部3によって計測されるC4混合物に含まれる有効成分の濃度データを用いて、発生装置M1から処理装置M2に単位時間内に供給される有効成分の供給量を算出する算出部7と、を備えている。
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マスフローコントローラ
【課題】マスフローコントローラの流量制御バルブのより長期間の使用を可能にするとともに、流量設定値を減少させた場合に実流量をより正確に制御可能にする。
【解決手段】流量センサ部2と、その流量センサ部2の上流側または下流側に設けた流量制御バルブ3と、流量測定値と流量設定値との偏差に少なくとも比例演算を施して流量制御バルブ3へのフィードバック制御値を算出する算出部6と、フィードバック制御値に基づいて開度制御信号を生成し、流量制御バルブ3に出力する開度制御信号出力部7とを備えており、前記比例演算における偏差に乗算するゲイン値を、流量設定値を所定量以上減少させた時点から所定期間である減少変化期間において、減少前の設定流量値と減少後の設定流量値との変化分を用いて得られる演算値が小さくなれば大きな値が算出される関数を用いて算出している。
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排気圧力/流量コントローラ
【課題】高い制御性を有し、小型で耐食性、耐久性に優れる排気圧力コントローラを提供する。
【解決手段】排気圧力コントローラの駆動部分にゴム膨張バルブを用いることにより、ダンパー制御を精度良く行うことができる。即ち、貫通流路を有する硬質なボディと、前記貫通流路内に配置される膨張部材と、前記膨張部材を含んで形成される気密空洞と、を有するバルブと、
前記貫通流路の圧力及び/又は流量を測定する圧力/流量計測手段と
前記気密空洞に制御用気体を給気又は排気することにより、前記膨張部材を膨張又は収縮させて前記貫通流路の流路断面積を変化させる給排気制御手段と
を用いて排気圧力コントローラを構成する。
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ガス供給装置用流量制御器の校正方法及び流量計測方法
【課題】小型化された校正ユニットにより、より迅速且つ高精度で行える、ビルドアップ(又はROR)法による流量制御器の流量校正方法を提供する。
【解決手段】ガス供給路LにビルドアップタンクBTと開閉弁V1及び開閉弁V2と温度検出器Pd及び圧力検出器Tdとから成る校正ユニット5を分岐状に連結し開閉弁V2を真空排気装置に接続し、先ず各流量制御器の開閉弁Vo1〜Von及びガス使用箇所の開閉弁V0を閉鎖して開閉弁V2及び開閉弁V1を開放、次に被校正流量制御器の開閉弁のみを開放して設定流量のガスを校正ユニット5へ流入させ、時刻t0に於いてタンク内のガス温度及びガス圧力を計測し、その後開閉弁V2を閉鎖してタンクBT内のガスのビルドアップを行い、時刻t1に開閉弁V1を閉鎖し、時刻t2にガス温度及びガス圧力を計測して各計測値からガス流量Qを演算して設定ガス流量と演算ガス流量Qとの対比により流量校正を行う。
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マスフローコントローラシステム、プラズマ処理装置、流量制御方法、及び半導体装置の製造方法
【課題】装置の小型化と腐食性ガスに対する耐腐食性を兼ね備えたマスフローコントローラシステムを提供する。
【解決手段】実施形態のマスフローコントローラシステム500は、腐食性ガスが導入され、前記腐食性ガスに対する耐腐食性処理が施された第1マスフローコントローラ100と、非腐食性ガスが導入される第2マスフローコントローラ200と、前記第1マスフローコントローラに複数種類の腐食性ガスをそれぞれ供給する複数の第1ガス配管31、32、33と、前記第2マスフローコントローラに複数種類の非腐食性ガスをそれぞれ供給する複数の第2ガス配管34、35、36とを備える。
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水位制御方法、及び、水位制御システム
【課題】
連通管で結合して水位を同一にすることができない複数の水槽に対して、共通のポンプにより水を循環させること。
【解決手段】
ポンプ15は、複数の水槽100、101からの水を合流して吸い込み、吐出した水を分岐して複数の水槽内に供給する。水槽100、101からポンプ15への還流路14には各水槽毎に循環水量が設定された仕切弁20a、20bが設けられている。ポンプ15から水槽101への流路には、水槽101に対して設定されている循環水量よりも大きな流量で供給する「開状態」或いは、小さい流量で供給する「閉状態」のいずれかをとるように設定された制御弁23bが設けられ、水槽101の水位が予定された水位範囲内を下回るとき「開状態」に制御弁23bを設定し、上回るとき「閉状態」に制御弁23bを設定する。
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流量制御弁の制御装置
【課題】流量制御弁の制御装置に関し、簡素な構成で、流量制御弁の中立位置を学習するとともに、学習値を補正する。
【解決手段】作動流体によって作動するアクチュエータ12と、作動流体を供給する作動流体供給源11と、アクチュエータ12のストローク量を検出するストロークセンサ14と、弁体19を有するとともに、弁体19の移動によってアクチュエータ12と連通もしくは遮断される流量制御弁15と、ストロークセンサ14の検出値に応じて弁体19を制御する制御部20とを備え、制御部20は、中立位置を学習する学習部22と、中立位置におけるストロークセンサ14の検出値と中立位置における目標ストローク量とのずれ量に応じて予め作成したマップに基づいて、学習部22による学習値を補正する学習値補正部23とを有するようにした。
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流量制御弁の制御装置
【課題】流量制御弁の制御装置に関し、簡素な構成で、流量制御弁の中立位置を正確に学習する。
【解決手段】アクチュエータ12と、作動流体供給源11と、ストロークセンサ14と、弁体19を有するとともに作動流体供給源11に連絡する供給部17aと作動流体を排出する排出部18aとアクチュエータ12に連通する連通部16aとを備えた流量制御弁15と、ストロークセンサ14の検出値に応じて弁体19を制御する制御部20とを備え、制御部20は、ストロークセンサ14の検出値により弁体19が排出部18a側から移動して連通部16aを遮断する中立位置と判断されたときの弁体19の移動量と、弁体19が供給部17a側から移動して連通部16aを遮断する中立位置と判断されたときの弁体19の移動量とから、弁体19の中立位置としての移動量を学習する中立位置学習部22を有するようにした。
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適応型オンツール質量流量コントローラ調整
【課題】非製造調整ガスについての正確な質量流量コントローラ流量データを提供する方法を提供すること。
【解決手段】質量流量コントローラは、50%超の設定点において動作させてもよい。データは、質量流量コントローラメモリに記録されてもよい。設定点は次いで、0%に変えられてもよい。記録されたデータは次いで、分析され、1つまたは複数の非製造調整ガス補正アルゴリズムパラメータが、計算されてもよい。1つまたは複数の非製造調整ガス補正アルゴリズムパラメータは、質量流量コントローラメモリに保存されてもよく、その後に非製造調整ガスを伴う少なくとも1つの将来の質量流量コントローラ動作において使用されてもよい。
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フローリストリクタ
【課題】所望の非線形性の大部分を失うことなく、圧力低下が小さいフローリストリクタを提供する。
【解決手段】少なくとも1つの導入部、少なくとも1つの導出部、及び流路を有する第1のディスクと、流路を有さない第2のディスクとを備えるフローリストリクタであって、第1のディスク及び第2のディスクは互いに積み重ねられる。また、マスフローコントローラは、入力部、出力部、流路、圧力トランスデューサ及び上記フローリストリクタを備えている。
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γ線密度計を利用した原料供給装置の制御方法及び装置
【課題】原料補給時もフィードバック制御ができるようにして精密な定量供給ができるようにする
【解決手段】スクリュー式フィーダー10のスクリュー11を備えた供給円筒12に検出区域13を設定し、前記検出区域13を挟んでγ線密度計14のγ線源14aと検出器14bを対向させて設ける。そして、筒状の検出区域13を透過する際のγ線の減衰量を検出器14bで測定し、その測定値から検出区域13を移送される原料の密度を算出して、その算出した密度に基づいて原料の移送速度あるいは原料の単位時間当たりの移送量を制御し、下流側に設けた排出口からの切り出し量を一定にする。このように、移送路を移送される原料の密度を常時測定して切り出し量を一定にするので、原料補給時の原料の増加に無関係にフィードバック制御できる。
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