【課題】混合ガスの濃度および流量を高速かつ正確に制御できる混合ガス流量制御装置を提供する。
【解決手段】各原料ガス供給源１ａ〜１ｄに原料ガス供給管路２ａ〜２ｄが接続され、原料ガス供給管路にガス混合管路３が接続される。各原料ガス供給管路に第１の流量制御バルブ４ａ〜４ｄが設けられる。ガス混合管路に第２の流量制御バルブ５の入口が接続される。ガス混合管路にオーバーフロー管路６が分岐接続される。第２の流量制御バルブの出口に混合ガス供給管路７が接続される。制御部８が、混合ガス供給管路に供給すべき混合ガスの濃度及び流量設定値に従って、第１の流量制御バルブの開度を調整すると同時に、第１の流量制御バルブの開度と第１の流量制御バルブの原料ガスに対するコンバージョンファクタとから算出した第２の流量制御バルブの混合ガスに対するコンバージョンファクタに基づき、第２の流量制御バルブの開度を調整する。 （もっと読む）

【課題】複数の流体機器ユニットとそれらにセットで取り付けられる外部流体機器とを効率よくコンパクトに配置可能な流体機構を提供する。
【解決手段】各流体機器ユニットの長手方向側面同士を密着させて配置するとともに、外部流体機器Ｖ１、Ｖ２を、流体機器ユニットの幅方向外側に並べて配置するようにした。さらに、外部流体機器Ｖ１、Ｖ２と流体機器ユニットとを接続する流入経路９ｃ及び流出経路９ｄにおいて、短い流入経路９ｃは長い流出経路９ｄに接続するようにした。 （もっと読む）

【課題】流路を構成する部材間の密閉性を高め、ハロゲン系ガスに対しても使用可能な耐腐食性を有するＭＥＭＳ型流量センサを提供する。
【解決手段】実施形態によれば、流量センサ１０は、基材１１の表面と流路構成基材２１の裏面とが対向するように貼り合わせて、固定部材によって固定される。基材１１は、表面上の流路形成領域に、一対の感熱膜１２と、一対の感熱膜間の中間に位置するヒータ膜１３と、流路保護膜１５と、を有し、流路形成領域以外の領域上に、耐腐食性を有する金属保護膜を有する。流路構成基材２１の裏面の流路形成領域に形成される溝と、流路形成領域以外の他の領域と溝とを区切り、他の領域に比して突出する側壁構成部と、を有し、耐腐食性を有する材料によって構成される。流路構成基材２１の側壁構成部は、基材１１の金属保護膜上に位置するように圧着される。 （もっと読む）

【課題】小型で、かつ、流量制御の応答性が優れた流量制御装置を提供することである。
【解決手段】力が作用することによって変形する変形可能部を有する流体通路と、前記流体通路の前記変形可能部に、異なる方向から、力を作用させる力作用手段とを具備してなり、前記力作用手段は、チャンバ１０、１３と、該チャンバ１０、１３の少なくとも一部を構成する膜９，１２と、前記チャンバ１０、１３内の圧力を制御する圧力制御手段とを具備してなり、前記圧力制御手段による前記チャンバ１０、１３内の圧力変動による前記膜９，１２の変形によって、前記流体通路の前記変形可能部３には、異なる位置で、変形が起きるよう構成されてなり、前記流体通路の前記変形可能部３の変形度によって該流体通路を流れる流体の流量が制御される流量制御装置。 （もっと読む）

【課題】格段に優れた応答性を得ることができてガス濃度の安定化が図れ、しかも、従来のパネル型形状をそのまま維持できる集積型ガスパネル装置を提供する。
【解決手段】集積型ガスパネル装置１のパネル体２を、少なくとも主流路Ｒ２を形成する主流路用ブロック体３２と、枝流路Ｒ１を形成する枝流路用ブロック体３１とからなるものにし、その主流路用ブロック体３２を中心として左右両側に対向するように前記枝流路用ブロック体３１を配置する。 （もっと読む）

【課題】応答性の良い流量制御を、容易な設定で実現する。
【解決手段】流量制御装置１００において、コンパレータ４０は、流量の指令値信号Ｖｉ１と、センサ出力信号Ｖｓに応じた信号Ｖｉ２との比較に基づき第１の制御電圧Ｖｒｅｆを出力する。フィードバック電流生成部３０は、センサ出力信号Ｖｓと、指令値信号Ｖｉ１に応じた信号Ｖｉ２と、の差に応じたフィードバック電流Ｉｆｂを生成する。フィードバック電圧生成部５０は抵抗器である。フィードフォワード電流生成部２０は、指令値信号Ｖｉ１に応じてフィードフォワード電流Ｉｆｆを生成する。合成部６０は、フィードバック電流Ｉｆｂとフィードフォワード電流Ｉｆｆの和に応じた電圧をフィードバック電圧Ｖｆｂに加算した電圧である第２の制御電圧Ｖｄｒｖ＊を生成する。弁部９０は、第１の制御電圧Ｖｒｅｆと第２の制御電圧Ｖｄｒｖ＊に応じて制御される、流量制御装置。 （もっと読む）

【課題】基本機能を犠牲にすることなく、確実に、調節弁の開度制御の速応性や整定性などの制御性を向上させる。
【解決手段】供給電流Ｉが取り得る電流の範囲を複数の電流範囲に区分し、この電流範囲の区分毎に基本機能回路部７が実施する調節弁２の開度制御の制御形態（単ループ制御、二重ループ制御など）を定めたテーブルＴＢ１をメモリ５に格納しておく。ＣＰＵ４は、供給電流Ｉの実際値を検出し、基本機能回路部７に振り向けることが可能な余剰電流があるか否かを判断する。この場合、４ｍＡを超える供給電流を余剰電流とみなし、その余剰電流を基本機能回路部７に配分するように、電流調整部８へ指令を送る。また、供給電流Ｉの区分に応じ、テーブルＴＢ１に定められている制御形態で開度制御を実施するように、基本機能回路部７に指示する。 （もっと読む）

【課題】デジタル制御を採用したバルブ制御器であっても、従来のアナログ制御を使用している場合に近い応答性を実現することができる流体制御装置を提供する。
【解決手段】流体が流れる流路５上に設けられた流体制御バルブ２と、前記流体に関する物理量を測定する流体測定部１、３と、前記流体測定部１で測定される物理量の測定値と、予め設定される設定値との偏差に基づいて前記流体制御バルブ２の開度をデジタル制御によって制御するバルブ制御器４と、を備えた流体制御装置１００であって、前記バルブ制御器４が、入力される値に対して所定の演算を施して前記流体制御バルブ２の開度の操作量に関連する値を出力する操作量演算部４１と、入力される値に対して速度型デジタル演算により位相遅れを補償した値を出力する位相補償部４２と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】本発明は、応答速度に優れた分流制御装置を提供することを目的としている。
【解決手段】単一の流路を流通するガスを複数の２次流路に夫々設けられた流量検出器および制御弁と、前記制御弁を操作するための情報が記憶された記憶手段を備え、前記流量検出器が検出した実流量に対応する検出信号が入力されるとともに前記２次流路における指令された目標分流比および前記検出信号に基づき、分流比の制御が開始された後の実分流比の立ち上がり時における立上初期、立上初期に引き続く立上中期、立上中期に引き続く立上終期の各時期で、前記制御弁の開度を操作する弁開度信号値を算出し、当該弁開度信号値を開度信号として前記制御弁に出力する制御部とを有する分流制御装置である。 （もっと読む）

【課題】従来に比して速やかにガス流量を変化させることができるマスフローコントローラを提供する。
【解決手段】実施形態によれば、マスフローコントローラ１００は、ガス流路構成部材１１０と、流量調整部１３０と、変位量記憶部１４４と、設定回路１４５と、を備える。流量調整部１３０は、ガス流路１１３中に配置され、ガスの流量を調整する弁１３１、および弁１３１の変位量を制御するアクチュエータ１３３を有する。変位量記憶部１４４は、処理手順を実行する前にガス流路１１３に処理手順で規定される流量のガスを流すときの弁１３１の変位量を処理手順ごとに求めた変位量情報を記憶する。設定回路１４５は、処理手順に対応する変位量を変位量記憶部１４４から取得して、取得した変位量に基づいてアクチュエータ１３３を制御する。 （もっと読む）

【課題】流量制御弁の制御の安定性を向上させ、それに伴い油圧アクチュエータの駆動制御を安定化させると共に、油圧アクチュエータの応答性を確保できる制御装置を提供すること。
【解決手段】流量制御弁１０の目標開度は、油圧アクチュエータ１１の駆動量と目標駆動量とに基づいて設定されるので、流量制御弁１０の開度と油圧アクチュエータ１１の駆動量とを関連付けられる。さらに、流量制御弁１０の開度をフィードバックして流量制御弁１０の開度を調整するので、流量制御弁１０の制御の安定性を向上させ、それに伴い油圧アクチュエータ１１の駆動制御を安定化させると共に、油圧アクチュエータ１１の応答性を確保できる。 （もっと読む）

【課題】マスフローコントローラにおけるＰＩ性能を向上させる。
【解決手段】流路内を流れる流体の流量を測定し、その測定値を示す流量測定信号を出力する流量センサ部２と、当該流量センサ部２の上流側又は下流側に設けた流量制御バルブ３と、前記流量測定信号の示す流量測定値と目標値である流量設定値との偏差にＰＩＤ演算を施して流量制御バルブ３へのフィードバック制御値を算出する算出部７と、前記フィードバック制御値に基づいて開度制御信号を生成し、流量制御バルブに出力する開度制御信号出力部８と、を備え、前記算出部７が、安定状態におけるＰＩＤ演算に用いる比例係数、積分係数及び微分係数を、一次側圧力又は流量設定値の少なくとも１つと、前記一次側圧力の時間変化量と、に基づいて変更する。 （もっと読む）

【課題】レベリングバルブの流量特性の設定の自由度を拡大する。
【解決手段】レベリングバルブ１は、負荷の昇降に応じてスプール孔８内を軸方向に変位する中空のスプール３と、スプール３の外周に形成した大径部３Ｃと、スプール３に相対してスプール孔８の開口部を閉鎖する弁体１１と、空気圧供給源及びドレーンの一方をスプール３の中空部３Ａに接続する第１の通路５と、負荷を支持する空気ばねに連通し、スプール３の外周に臨む空気ばね通路４とを備える。スプール孔８を大径に形成する一方、大径部３Ｃとの間に環状隙間を形成する縮径部８Ａをスプール孔８に形成し、大径部３Ｃと縮径部８Ａの軸方向長さを互いに異なる値ａ，ｂに設定する。 （もっと読む）

本発明は、連結部を通る１つ以上の流入流と１つ以上の流出流との間で、連結部を通るガス流量を制御する方法及び装置に関する。本方法は、流入質量流量測定値の総計を流出質量流量測定値の総計と比較して、バイアス成分を加算して、バイアス質量流量不均衡値を供給することにより得られるバイアス質量流量不均衡値を使用する。流入流及び流出流（１２、１４、１６、１８、２０）のうちの少なくとも１つの流量は、バイアス質量流量不均衡値をゼロに向けて移動させるように調整される。更に、連結部圧力測定値（ＰＣ）が供給され、連結部圧力測定値（ＰＣ）は、圧力設定点（ＰＳＰ）からの連結部圧力測定値（ＰＣ）の変化に応答して、圧力設定点（ＰＳＰ）からの連結部圧力測定値（ＰＣ）の変化を軽減するようにバイアス成分を調整するために使用される。 （もっと読む）

【課題】応答性に優れ、かつ高精度・広範囲に流量を制御することができる流量制御装置を提供する。
【解決手段】流量制御装置１０は、圧力調整手段としてのパイロットレギュレータ２０とその下流側に配置されたエアオペレートバルブ４０とを備えている。エアオペレートバルブ４０は、カバー４１、シリンダ４２、ボディ４３からなる。ボディ４３には吸入通路５８と、排出通路５９と、各通路５８，５９を連通する円形溝６７と、吸入通路５８と円形溝６７とを連通する固定オリフィス６４とが形成されている。吸入通路５８の円形溝６７側端部は弁座オリフィス５８ａとなっており、その開口部周囲は弁座６３となっている。ダイアフラム弁体５５は圧縮コイルバネ４８の付勢力により常時弁座６３に着座されており、圧力制御室５１が操作エアにより加圧されると弁座６３から離れる。 （もっと読む）

【課題】流体の流量を適切に調節する。
【解決手段】バルブ８は、流体が流入する流路を開閉する弁体８１と、流路を通過する流体の流量を計測する流量センサ８２と、制御装置から出力された操作量を流量に換算する流量換算部８３と、流量センサ８２によって計測された通過流量が流量換算部８３によって換算された流量と一致するように弁体８１の開度を調節する開度調節部８４とを備える。 （もっと読む）

バルブ・スイッチ・ユニットは、電流など、機械式コントローラからの入力を検出するように構成されている検出器を有する。このバルブ・スイッチ・ユニットはまた、機械式コントローラからの入力が所定の閾値を超えた場合に、自動式コントローラと機械式コントローラの間で１つまたは複数のバルブの制御を切り替えるように構成されているスイッチング回路も有する。検出された電流が所定の閾値を超えたとき、この回路は、自動式コントローラから機械式コントローラに制御を切り替える。同様に、その電流が所定の閾値を下回ったとき、この回路は、自動式コントローラに戻すように制御を切り替える。
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【課題】単一の質量流量を多数の流れラインに分割するための流量比制御装置を含むガス送出システム用のマルチ反対称最適（ＭＡＯ）制御アルゴリズムを開示する。
【解決手段】ＭＡＯ制御アルゴリズムでは、各流れラインには、流れセンサ及びバルブが設けられている。このバルブは、ターゲット流量比設定点を得るため、線型サチュレータと組み合わせたＳＩＳＯフィードバック制御装置によって積極的に制御される。最適制御性能のため、これらのＳＩＳＯ制御装置及び線型サチュレータは実質的に同じである。各バルブ制御コマンドは、全ての他のバルブ制御コマンドに対してマルチ反対称であるということがわかっている。従って、ＭＡＯ制御アルゴリズムは、任意の時期に少なくとも一つのバルブが許容可能な最大開放位置にあり、これによって、流量比設定点の所与の組について、最大総バルブコンダクタンスに関して最適解を提供することを保証する。 （もっと読む）

【課題】ガス供給源からガス流路を介してガスを安定供給するガスの供給制御装置において、ガス供給系内にバッファータンク等の緩衝装置を設置することなく、ガス供給系に悪影響を及ぼす急激な圧力上昇を防止することができるガスの供給制御装置を提供する。
【解決手段】ガス流路にステッピング・モータ４駆動方式の自動開閉弁５と、この自動開閉弁５の下流側に圧力計８を設け、この圧力計８の検出圧力値Ｐと時間の経過とともに増加する任意の目標圧力値との差分に基づいて自動開閉弁５を間欠的に開閉制御することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】自動的に流量を調整することができる流量制御システムを提供する。
【解決手段】共通管路１６と、各半導体製造装置５１〜５３へ冷却水を供給する分岐管路と、分岐管用流量調整弁と、冷却水の流量の設定条件を入力する半導体製造装置用操作部と、分岐管用流量センサと、分岐管用流量調整弁の制御にかかる信号を出力する流量調整用の比較器を備えた半導体製造装置用命令処理部と、各半導体製造装置への冷却水の供給量の総和となる設定条件を自動的に入力する自動入力手段５０と、自動入力手段５０から設定条件が入力される操作部３２と、共通管路１６に設けられた流量調整弁３４と、共通管路１６内における冷却水の流量を検出する流量センサ２６と、操作部３２から入力される設定信号と流量センサ２６による検出信号とを比較し、流量調整弁３４の制御にかかる信号を出力する流量調整用の比較器３６を備えた命令処理部４０とを具備する。 （もっと読む）