【課題】 水位検出器の出力値調節作業が容易であり、かつ、精度の高い液位の制御が可能な液位制御システムを提供する。
【解決手段】 下限水位と上限水位とに対する、水位検出器９からの各検出値と基準液位に対応する液比率とは、記憶手段４２にて記憶されている。そして、水槽１における制御すべき制御水位に対応する水位検出器９からの特定検出値は、検出手段４１に送られ、記憶手段４２にて記憶された後、演算手段４３に送られ、下限水位と上限水位との相関関係に対応した液比率に演算される。演算された特定検出値に基づく液比率は、判別手段４４にて各設定水位と水位制御アルゴリズムに基づいて比較判別され、設定手段４５を経て、制御手段４６から電磁弁４及び送水ポンプ７の各構成機器に制御信号を送り、水槽１内の水の貯留及び供給を制御する。 （もっと読む）

【課題】汚水の揚水量が大きく変化した場合であっても汚水流入量を正確に算出すること。
【解決手段】制御装置１０が、所定時間毎の汚水揚水量Ｑ_０の積算値を利用して導出された所定時間毎の汚水流入量Ｑ_ｉの変化を示す１次関数を利用して任意の時間ｔにおける汚水流入量Ｑ_ｉ１を算出し、任意の時間ｔにおける汚水揚水量Ｑ_０と汚水４の水位Ｌとを利用して任意の時間における汚水流入量Ｑ_ｉ２を算出し、算出された汚水流入量Ｑ_ｉ１と汚水流入量Ｑ_ｉ２との重み付け和を任意の時間ｔにおける汚水流入量Ｑ_ｉとして算出する。これにより、汚水４の揚水量が大きく変化した場合であっても汚水流入量Ｑ_ｉを正確に算出することができる。 （もっと読む）

【課題】より精度の高い液面制御が可能となり、無駄な調整を低減することができる液面制御装置及び液面制御方法を提供する。
【解決手段】液が貯留される容器２０と、供給路１０と、払い出し路３０と、供給路１０及び払い出し路３０の流量を調節するコントロール弁１２及び払い出しポンプ３２と、容器２０の液面がＨ，Ｌに達しているかを検知するレベルスイッチ２０Ｈ，２０Ｌとを備える液面制御装置１において、制御部４０が、レベルスイッチ２０Ｈ，２０Ｌの検知結果から供給量と排出量との差であるΔＷを演算し、ΔＷが０に収束するように供給路１０及び払い出し路３０の流量を調節することにより、容器２０の液面の高さを制御する。このため、供給量及び排出量の変化等の外乱に対する追従性がより良く、より精度の高い液面制御が可能となり、無駄な調整を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】加湿チャンバのための改良されたフロートを提供する。
【解決手段】加湿チャンバ１０用のフロート６２は、熱可塑性エラストマ材料をフロートにオーバーモールドすることによって適所に形成された順応性を有する封止部９０を有する。フロートは、フロートの浮力によって規定された水位より上方であるとともに、充填されているときの加湿チャンバ内の水位よりも上方の高さにおいて互いに封止状態に結合されたセクションを備える。 （もっと読む）

【課題】下流側ダムの水位のハンチングを抑えつつ、目標とする水位に安定させることができる水位制御装置および水位制御方法を提供する。
【解決手段】下流側ダム３に貯留された水の水位と、上流側ダム２の発電機２Ｇの出力とを監視して前記下流側ダム３の水位を制御する水位制御装置４であって、前記水位制御装置４は、前記発電機２Ｇの目標出力Ｐ_ｍを演算する目標出力演算部４１と、前記目標出力演算部４１で演算された前記目標出力Ｐ_ｍに基づいて、前記発電機２Ｇの出力を調整する発電機出力調整部４２と、前記発電機２Ｇの出力を記憶する記憶部４４と、を備え、前記目標出力演算部４１は、前記下流側ダム３の現在水位Ｈ_ｂと、前記記憶部４４に記憶された前記発電機２Ｇの過去の出力とに基づいて、前記目標出力Ｐ_ｍを演算する。 （もっと読む）

【課題】配水池への予め設定された流入量の変動許容幅を守った上で流入量の変動回数を最小限に抑えた準最適な流入量を求める。
【解決手段】本発明の配水池浄水供給システムＳの浄水供給量算出方法は、配水池１３１９への流入量の計画方法として、ある時刻の流入量が変動無く維持できる期間において、流入量を変動できる全ての時刻で流入量の変動を試み、その変動後の流入量が最も未来まで維持できるものを採用することにより、変動回数を最小限に抑えた配水池１３１９への流入量を算出し、その流入量を目標値の流入量設定値として配水池１３１９への流入量を制御する。 （もっと読む）

【課題】ポンプを用いて基台内を循環させる液体を貯留するタンク内の液面が変化してもタンク内の液面を一定の範囲に維持してポンプに起因する脈動を常に確実且つ安定的に軽減することができる脈動軽減装置及び検査装置を提供する。
【解決手段】本発明の脈動軽減装置１６は、循環配管１２に接続されて空間部を残して冷媒を貯留する第２タンク１６Ａと、第２タンク１６Ａ内の冷媒の液面を検出する第１、第２液面センサ１６Ｂ、１６Ｃと、第１、第２液面センサ１６Ｂ、１６Ｃに電気的に接続され且つこれらのセンサ１６Ｂ、１６Ｃからの検出信号に基づいて作動する空気制御装置１６Ｄと、を備え、第２タンク１６Ａの空間部を満たす空気等の気体がポンプ１３から冷媒を吐出する際の脈動を軽減する緩衝体として働くように構成されている。 （もっと読む）

【課題】非定常バルジングの変動周期を高精度に同定し、制御設定パラメータを安定的に自動供給可能な連続鋳造機のモールド湯面レベル制御装置を提供する。
【解決手段】モールド湯面レベル制御装置は、注湯手段の開度を調節する開度制御部と、金属溶湯をモールドに注湯する際の外乱量推定値を算出する外乱推定部と、外乱量推定値と鋳造速度とを取得するデータ取得部と、外乱量推定値の時系列データを鋳造長に基づくデータに変換して、当該データをオーバーサンプリングしてオーバーサンプリング後データを生成するオーバーサンプリング部と、オーバーサンプリング後データについてＦＦＴ解析を行い、非定常バルジング発生ロールピッチの距離周波数スペクトルを算出するＦＦＴ処理部と、距離周波数スペクトルのピークを検出して非定常バルジング発生ロールピッチを算出し非定常バルジングの変動周期を算出するピーク検出部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】電極の本数に関わらず設置可能で安価な給水装置を提供する。
【解決手段】受水槽４の水を需要側に供給するポンプ７−１，７−２と、受水槽の液位を検出する液位検出手段３−１，３−２と、を備えた給水装置において、液位検出手段が検出する液位の数に応じた複数の液位制御パターンを記憶する記憶部と、記憶部に記憶された液位制御パターンを決定する決定手段と、決定手段に応じて決定した液位制御パターンと液位検出手段により検出された液位に応じて前記ポンプを回転駆動するポンプ制御手段とを備えた。 （もっと読む）

【課題】貯水位の変化の時期を適切に判定すること。
【解決手段】貯水池の貯水位を計測する水位計より入力される計測値に基づいて前記貯水位の変化を検出する貯水位変化検出手段と、前記貯水位変化検出手段によって検出された前記貯水位の変化の継続時間を計測する継続時間計測手段と、第一の貯水位から第二の貯水位、前記第二の貯水位から第三の貯水位へと一定方向に貯水位が変化する過程において、前記第一の貯水位から前記第二の貯水位へ変化し再び前記第一の貯水位へ戻るまでの前記継続時間の中の最大値を貯水位変化確定時間に設定し、前記第三の貯水位の継続時間が前記貯水位変化確定時間に達した時を前記第三の貯水位への変化時とする貯水位変化時期判定手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】 水位検出器の出力値調節作業が容易であり、かつ、精度の高い液位の制御が可能な液位制御システムを提供する。
【解決手段】 下限水位と上限水位とに対する、水位検出器９からの各検出値と基準液位に対応する液比率とは、記憶手段４２にて記憶されている。そして、水槽１における制御すべき制御水位に対応する水位検出器９からの特定検出値は、検出手段４１に送られ、記憶手段４２にて記憶された後、演算手段４３に送られ、下限水位と上限水位との相関関係に対応した液比率に演算される。演算された特定検出値に基づく液比率は、判別手段４４にて各設定水位と水位制御アルゴリズムに基づいて比較判別され、設定手段４５を経て、制御手段４６から電磁弁４及び送水ポンプ７の各構成機器に制御信号を送り、水槽１内の水の貯留及び供給を制御する。 （もっと読む）

【課題】１つの湯面レベルセンサーから得られる湯面変動から高精度に定在波変動分と体積変動分とを分離し、湯面定在波・湯面レベルを制御する、鋳型内の湯面定在波変動検出方法、湯面定在波制御方法、湯面レベル制御方法および連続鋳造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】連続鋳造機の鋳型内の所定位置における湯面レベル変動の定在波変動分の定在波周波数を、鋳型幅から算出し、その周波数で定在波をｓｉｎ関数とｃｏｓ関数で記述して、その記述された定在波の係数を測定した湯面レベル変動からオンライン推定することにより、定在波変動分を求める。 （もっと読む）

【課題】 水位検出器の出力値調節作業が容易であり、かつ、精度の高い液位の制御が可能な液位制御システムを提供する。
【解決手段】 下限水位と上限水位とに対する、水位検出器９からの各検出値と基準液位に対応する液比率とは、記憶手段４２にて記憶されている。そして、水槽１における制御すべき制御水位に対応する水位検出器９からの特定検出値は、検出手段４１に送られ、記憶手段４２にて記憶された後、演算手段４３に送られ、下限水位と上限水位との相関関係に対応した液比率に演算される。演算された特定検出値に基づく液比率は、判別手段４４にて各設定水位と水位制御アルゴリズムに基づいて比較判別され、設定手段４５を経て、制御手段４６から電磁弁４及び送水ポンプ７の各構成機器に制御信号を送り、水槽１内の水の貯留及び供給を制御する。 （もっと読む）

【課題】水処理装置が詰まったりして下流に水を供給できなくなっても、水使用機器の給水タンクを空にすることなく給水することが可能な水処理供給システムを提供する。
【解決手段】本実施形態に係る水処理供給システム１０は、給水ライン４と、脱気装置１１と、軟水装置１２と、給水タンク５内の水位を測定する水位センサ１５と、第１バイパスライン１６と、第２バイパスライン１７と、開閉弁２０，２１と、制御回路２５と、を備えている。制御回路２５は、水位センサ１５の出力により、給水タンク５内の水位が第１バイパス給水開始水位Ｂ１まで下がると、第１バイパスライン１６の開閉弁２０を開けて第１バイパス給水を開始するよう制御し、給水タンク５内の水位が第２バイパス給水開始水位Ｂ２まで下がると、第２バイパスライン１７の開閉弁２１を開けて第２バイパス給水を開始するよう制御する。 （もっと読む）

【課題】 アナログ出力式水位センサの劣化による水位制御の不具合を解決すること。
【解決手段】 水位制御システムであって、特定の高水位および低水位を検出する第一水位センサ１６Ｂ，１６Ｃと、連続的に水位を検出する第二水位センサ１６Ａとから構成される水位センサ１６と、第一水位センサ１６Ｂ，１６Ｃが高水位および低水位を検出した時の第二水位センサ１６Ａの水位検出結果の差が設定値以下の時、第二水位センサ１６Ａが異常と判定し、第二水位センサ１６Ａによる水位制御を中止する制御器１７とを備える。 （もっと読む）

【課題】 ハンダの不足量の供給が迅速に行えると共に使い勝手に優れるハンダ液面制御装置を提供する。
【解決手段】 検出回路に接続された対の電極１６を昇降操作自在に備える。昇降操作する駆動源がサーボモータ２５とされる。サーボモータ２５を駆動制御するためのエンコーダ２４を監視し、電極１６の下降時におけるハンダ槽１７の液面に接触した際の導通の検出により、その導通を検出した際のエンコーダ２４の値からハンダ槽１７の液面高さを検出し、予め設定入力された設定液面高さと検出された液面高さとの差を求め、この差に対応する量のハンダ１８をハンダ供給手段２６によりハンダ槽１７に供給する制御部２０を備える。 （もっと読む）

水位制御装置は、水を貯蔵するタンク側壁の外側面に取り付けられた少なくと１つの静電容量センサを含み、前記タンク内に貯蔵された水の水位が、前記静電容量センサが取り付けられた位置にあるか否かにより、静電容量の変化を検出しており、さらに、前記静電容量センサにより検出された静電容量の変化によって前記タンクに供給される水量を制御するコントローラとを含んでいる。
（もっと読む）

【課題】複数の装置から排水される液体を効率良く回収して処理する排水処理装置を提供する。
【解決手段】排水処理装置１００は、排水蓄積部１０と、水位検出部１１と、吸引排水蓄積部２０と、低圧力生成部３０と、吸引配管４１および４２と、排水吸引制御部５０と、排水処理制御部６０と、排水処理配管７０とを備える。排水蓄積部１０に蓄積される装置２００から排水された液体が所定の水位に達すると、水位検出部１１においてそのことが検出される。その水位検出部１１における検出結果は排水吸引制御部５０に供給され、排水吸引制御部５０は排水蓄積部１０に蓄積された液体を吸引排水蓄積部２０に吸引配管４１を通じて吸引させて蓄積させる。なお、吸引排水蓄積部２０内の圧力は、低圧力生成部３０により所定圧力以下の圧力にされているため、吸引配管４１の端部付近の液体等を吸引できる。 （もっと読む）

【課題】複数の制御因子を有するプロセスの、プロセス条件を一定範囲に制御するための制御因子のうち、逆方向の効果をもたらす少なくとも２つの制御因子の制御が切り替わる境界におけるハンチングによる不必要なロスを低減でき、かつ、不感帯による制御の不安定を回避できるという優れたプロセスの制御装置および制御方法を提供する。
【解決手段】（１）プロセス条件を一定範囲に制御するための制御因子のうち、逆方向の効果をもたらす少なくとも２つの制御因子に対して独立して制御する手段を含むことを特徴とするプロセス制御装置。（２）プロセス条件を一定範囲に制御するための制御因子のうち、逆方向の効果をもたらす少なくとも２つの制御因子に対して独立して制御する手段を設置して、一定の制御範囲内で少なくとも２個以上の設定値を設定し、制御することを特徴とするプロセス制御方法。 （もっと読む）

【課題】バルジング発生箇所が変化する場合でも、バルジング周波数を、リアルタイムに、正確に検出し、時々刻々と変化するバルジング性湯面変動をも低減する。
【解決手段】湯面レベルの目標値と検出値との偏差に基づいて、モールド（１０）内に流入する溶融金属（４）の流量調節をするＰＩ制御（２０）と、バルジング性湯面変動の周波数に基づいて外乱補償器（２２）の設定周波数を決定し前記変動に対する外乱補償する制御と、を行う連続鋳造機モールド内湯面制御方法において、前記モールド１０から凝固しつつある溶融金属（４）を引き抜くピンチロール１２の制御電流を複数箇所で測定し（Ｓ２、３０）、該電流の変動が最も大きいピンチロール１２の箇所をバルジング発生箇所として検出し（Ｓ３）、前記バルジング発生箇所のピンチロール１２の間隔とピンチロールの速度との比からバルジング性湯面変動の周波数を算出し（Ｓ４、３２）、前記外乱補償器（２２）の設定周波数を決定する（Ｓ５）ことを特徴とする連続鋳造機モールド内湯面制御方法。 （もっと読む）