【課題】 水位検出器の出力値調節作業が容易であり、かつ、精度の高い液位の制御が可能な液位制御システムを提供する。
【解決手段】 下限水位と上限水位とに対する、水位検出器９からの各検出値と基準液位に対応する液比率とは、記憶手段４２にて記憶されている。そして、水槽１における制御すべき制御水位に対応する水位検出器９からの特定検出値は、検出手段４１に送られ、記憶手段４２にて記憶された後、演算手段４３に送られ、下限水位と上限水位との相関関係に対応した液比率に演算される。演算された特定検出値に基づく液比率は、判別手段４４にて各設定水位と水位制御アルゴリズムに基づいて比較判別され、設定手段４５を経て、制御手段４６から電磁弁４及び送水ポンプ７の各構成機器に制御信号を送り、水槽１内の水の貯留及び供給を制御する。 （もっと読む）

【課題】流量調節弁を適切な流量を調節することができ、迅速に調節できる液面レベル調整装置及びその包装充填装置を提供する。
【解決手段】チューブ状包装材料内に充填パイプから液体食品を充填する包装充填装置において、液面レベルを調整する装置であって、液面レベルを検知するセンサと、状況係数及び環境数式に基づいて、流量調節信号を出力する制御手段と、流量調節弁を開閉し充填パイプの流量を調節する流量調節手段と、状況係数及び環境数式を判定し、判定信号を出力する判定手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】加湿チャンバのための改良されたフロートを提供する。
【解決手段】加湿チャンバ１０用のフロート６２は、熱可塑性エラストマ材料をフロートにオーバーモールドすることによって適所に形成された順応性を有する封止部９０を有する。フロートは、フロートの浮力によって規定された水位より上方であるとともに、充填されているときの加湿チャンバ内の水位よりも上方の高さにおいて互いに封止状態に結合されたセクションを備える。 （もっと読む）

【課題】配水池への予め設定された流入量の変動許容幅を守った上で流入量の変動回数を最小限に抑えた準最適な流入量を求める。
【解決手段】本発明の配水池浄水供給システムＳの浄水供給量算出方法は、配水池１３１９への流入量の計画方法として、ある時刻の流入量が変動無く維持できる期間において、流入量を変動できる全ての時刻で流入量の変動を試み、その変動後の流入量が最も未来まで維持できるものを採用することにより、変動回数を最小限に抑えた配水池１３１９への流入量を算出し、その流入量を目標値の流入量設定値として配水池１３１９への流入量を制御する。 （もっと読む）

【課題】非定常バルジングの変動周期を高精度に同定し、制御設定パラメータを安定的に自動供給可能な連続鋳造機のモールド湯面レベル制御装置を提供する。
【解決手段】モールド湯面レベル制御装置は、注湯手段の開度を調節する開度制御部と、金属溶湯をモールドに注湯する際の外乱量推定値を算出する外乱推定部と、外乱量推定値と鋳造速度とを取得するデータ取得部と、外乱量推定値の時系列データを鋳造長に基づくデータに変換して、当該データをオーバーサンプリングしてオーバーサンプリング後データを生成するオーバーサンプリング部と、オーバーサンプリング後データについてＦＦＴ解析を行い、非定常バルジング発生ロールピッチの距離周波数スペクトルを算出するＦＦＴ処理部と、距離周波数スペクトルのピークを検出して非定常バルジング発生ロールピッチを算出し非定常バルジングの変動周期を算出するピーク検出部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】半導体、液晶などの製造工程に使用される現像液などの薬剤を高濃度の原液を超純水などで希釈し、所望の濃度に調整するにあたり、不純物の混入を防ぐことができ、かつ設備がコンパクトな希釈装置を提供する。
【解決手段】薬剤及び希釈液が導入される希釈タンク１を備えている薬剤の希釈装置であって、希釈タンク１に、希釈タンク１内の液体を撹拌するための磁気浮上ポンプ２を設けるとともに、薬剤の濃度を測定する濃度計３を備え、薬剤の所望の濃度に基づいて、上記測定値を上記所望の濃度に近づけるように薬剤の量と希釈液の量を制御する。 （もっと読む）

【課題】 水位検出器の出力値調節作業が容易であり、かつ、精度の高い液位の制御が可能な液位制御システムを提供する。
【解決手段】 下限水位と上限水位とに対する、水位検出器９からの各検出値と基準液位に対応する液比率とは、記憶手段４２にて記憶されている。そして、水槽１における制御すべき制御水位に対応する水位検出器９からの特定検出値は、検出手段４１に送られ、記憶手段４２にて記憶された後、演算手段４３に送られ、下限水位と上限水位との相関関係に対応した液比率に演算される。演算された特定検出値に基づく液比率は、判別手段４４にて各設定水位と水位制御アルゴリズムに基づいて比較判別され、設定手段４５を経て、制御手段４６から電磁弁４及び送水ポンプ７の各構成機器に制御信号を送り、水槽１内の水の貯留及び供給を制御する。 （もっと読む）

【課題】固形分を含有する流体の流量が設定値からズレないように流量計の測定値をオンラインで校正すること。
【解決手段】固形分を含有する流体を貯蔵するタンク１と、タンク１へ流体を送るポンプ８と、流体の貯蔵レベルがタンク１の上限／下限レベルに到達した際にポンプ８を停止／稼働するタンクレベル制御手段６と、タンク１から流体配管３を通って流出する流体の流量を測定する流量計４と、流量計４の測定値を校正する校正手段６と、流量計４の測定値に基づいて流体配管３を流れる流体の流量を調節する流量調節手段５とから構成される流量制御装置１５において、前記校正手段６は、タンク１内の流体の貯蔵レベルが上限レベルから下限レベルまで低下するまでの期間内に、流体の貯蔵量の変化量を求め、当該貯蔵量の変化量に基づき前記期間の少なくとも一部の時間内の流体の平均流量を計算し、当該平均流量の計算値により流量計４の測定値を校正する。 （もっと読む）

【課題】 水位検出器の出力値調節作業が容易であり、かつ、精度の高い液位の制御が可能な液位制御システムを提供する。
【解決手段】 下限水位と上限水位とに対する、水位検出器９からの各検出値と基準液位に対応する液比率とは、記憶手段４２にて記憶されている。そして、水槽１における制御すべき制御水位に対応する水位検出器９からの特定検出値は、検出手段４１に送られ、記憶手段４２にて記憶された後、演算手段４３に送られ、下限水位と上限水位との相関関係に対応した液比率に演算される。演算された特定検出値に基づく液比率は、判別手段４４にて各設定水位と水位制御アルゴリズムに基づいて比較判別され、設定手段４５を経て、制御手段４６から電磁弁４及び送水ポンプ７の各構成機器に制御信号を送り、水槽１内の水の貯留及び供給を制御する。 （もっと読む）

【課題】水処理装置が詰まったりして下流に水を供給できなくなっても、水使用機器の給水タンクを空にすることなく給水することが可能な水処理供給システムを提供する。
【解決手段】本実施形態に係る水処理供給システム１０は、給水ライン４と、脱気装置１１と、軟水装置１２と、給水タンク５内の水位を測定する水位センサ１５と、第１バイパスライン１６と、第２バイパスライン１７と、開閉弁２０，２１と、制御回路２５と、を備えている。制御回路２５は、水位センサ１５の出力により、給水タンク５内の水位が第１バイパス給水開始水位Ｂ１まで下がると、第１バイパスライン１６の開閉弁２０を開けて第１バイパス給水を開始するよう制御し、給水タンク５内の水位が第２バイパス給水開始水位Ｂ２まで下がると、第２バイパスライン１７の開閉弁２１を開けて第２バイパス給水を開始するよう制御する。 （もっと読む）

【課題】 アナログ出力式水位センサの劣化による水位制御の不具合を解決すること。
【解決手段】 水位制御システムであって、特定の高水位および低水位を検出する第一水位センサ１６Ｂ，１６Ｃと、連続的に水位を検出する第二水位センサ１６Ａとから構成される水位センサ１６と、第一水位センサ１６Ｂ，１６Ｃが高水位および低水位を検出した時の第二水位センサ１６Ａの水位検出結果の差が設定値以下の時、第二水位センサ１６Ａが異常と判定し、第二水位センサ１６Ａによる水位制御を中止する制御器１７とを備える。 （もっと読む）

【課題】 ハンダの不足量の供給が迅速に行えると共に使い勝手に優れるハンダ液面制御装置を提供する。
【解決手段】 検出回路に接続された対の電極１６を昇降操作自在に備える。昇降操作する駆動源がサーボモータ２５とされる。サーボモータ２５を駆動制御するためのエンコーダ２４を監視し、電極１６の下降時におけるハンダ槽１７の液面に接触した際の導通の検出により、その導通を検出した際のエンコーダ２４の値からハンダ槽１７の液面高さを検出し、予め設定入力された設定液面高さと検出された液面高さとの差を求め、この差に対応する量のハンダ１８をハンダ供給手段２６によりハンダ槽１７に供給する制御部２０を備える。 （もっと読む）

水位制御装置は、水を貯蔵するタンク側壁の外側面に取り付けられた少なくと１つの静電容量センサを含み、前記タンク内に貯蔵された水の水位が、前記静電容量センサが取り付けられた位置にあるか否かにより、静電容量の変化を検出しており、さらに、前記静電容量センサにより検出された静電容量の変化によって前記タンクに供給される水量を制御するコントローラとを含んでいる。
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【課題】バルジング発生箇所が変化する場合でも、バルジング周波数を、リアルタイムに、正確に検出し、時々刻々と変化するバルジング性湯面変動をも低減する。
【解決手段】湯面レベルの目標値と検出値との偏差に基づいて、モールド（１０）内に流入する溶融金属（４）の流量調節をするＰＩ制御（２０）と、バルジング性湯面変動の周波数に基づいて外乱補償器（２２）の設定周波数を決定し前記変動に対する外乱補償する制御と、を行う連続鋳造機モールド内湯面制御方法において、前記モールド１０から凝固しつつある溶融金属（４）を引き抜くピンチロール１２の制御電流を複数箇所で測定し（Ｓ２、３０）、該電流の変動が最も大きいピンチロール１２の箇所をバルジング発生箇所として検出し（Ｓ３）、前記バルジング発生箇所のピンチロール１２の間隔とピンチロールの速度との比からバルジング性湯面変動の周波数を算出し（Ｓ４、３２）、前記外乱補償器（２２）の設定周波数を決定する（Ｓ５）ことを特徴とする連続鋳造機モールド内湯面制御方法。 （もっと読む）

【課題】外乱補償が有効となる湯面変動が発生していない場合にも、バルジング性湯面変動を効果的に抑制することができる連続鋳造機モールド内湯面レベル制御方法および装置を提供することを目的とする。
【解決手段】連続鋳造機のモールド内溶融金属の湯面レベルを検出し、検出された湯面レベル信号に基づいて、ＰＩ制御によりタンディッシュに設けられたスライディングノズル開度指令を出力し、該出力にバルジング性外乱補償分を加算して、溶融金属のモールド内流入量の調整することによって溶融金属の湯面レベルを制御する連続鋳造機モールド内湯面レベル制御方法において、前記湯面レベル信号の周波数解析によるスペクトルピーク検出に基づいて、前記外乱補償分を演算するパラメータを決定または変更するとともに、決定または変更されたパラメータを用いて演算した前記外乱補償分自体を加算するかしないかの決定を行う。 （もっと読む）

化学溶液浴を所望の濃度で維持するブレンダーシステムを提供する。ブレンダーシステムは、少なくとも２つの化合物（例えば、アンモニアおよび過酸化水素）を受けて、ブレンドし、化合物の混合物を選択された濃度で含む溶液を、化学溶液浴の選択された体積を維持するタンク（２）に送達するように構成されたブレンダーユニット（１００）を含む。さらに、ブレンダーシステムは、化学溶液浴中で少なくとも１つの化合物を選択された濃度範囲内に維持するように構成されたコントローラー（１１０）を含む。コントローラーは、タンクに送達される溶液内で、化合物の濃度を選択された濃度範囲内に維持するようにブレンダーユニットの少なくとも１つの動作、および、化学浴内の化合物の濃度が目標範囲から外れる場合は、タンクに入る溶液およびタンクから出る溶液の流速の変更を制御する。 （もっと読む）

【課題】 濃縮液の濃度管理が容易であると共に製品の製造開始時点から濃度が安定し排出液の発生量を低減することが可能な液体製品製造システムを提供する。
【解決手段】液体の流量調節装置を有する液体混合装置を備え、上記液体混合装置により複数種類の液体を混合して液体製品を製造する液体製品製造システムにおいて、液体製品の濃度を達成するために必要な液体の濃度範囲を画定し、上記濃度範囲内において設定された液体の濃度に基づき、上記複数種類の液体の初期流量値を決定し、上記初期流量値に基づき、上記流量調節装置を制御して上記液体混合装置を駆動する。 （もっと読む）