【課題】一酸化炭素（ＣＯ）、炭化水素（ＨＣ）および窒素酸化物（ＮＯ_ｘ）、とりわけ、炭化水素（ＨＣ）を効率よく浄化することができる排ガス浄化用触媒を提供すること。
【解決手段】排ガス浄化用触媒に、ニッケルおよび銅からなる合金と、合金を担持する複合酸化物とを含ませる。このような排ガス浄化用触媒は、複合酸化物に対する合金の担持量が、合金および複合酸化物の総量１００質量部に対して、６〜３５質量部であるため、とりわけ、炭化水素（ＨＣ）を効率よく浄化することができる。 （もっと読む）

【課題】一酸化炭素（ＣＯ）、炭化水素（ＨＣ）および窒素酸化物（ＮＯ_ｘ）、とりわけ、炭化水素（ＨＣ）を効率よく浄化することができる排ガス浄化用触媒を提供すること。
【解決手段】排ガス浄化用触媒に、ニッケルおよび銅からなる合金を含ませる。このような排ガス浄化用触媒は、銅の含有割合が２０モル％を超過し８０モル％未満である合金を含むので、とりわけ、炭化水素（ＨＣ）および窒素酸化物（ＮＯ_ｘ）を効率よく浄化することができる。 （もっと読む）

【課題】一酸化炭素の効果的なメタネーションを実現する金属担持用担体、金属担持触媒、メタネーション反応装置及びこれらに関する方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る金属担持用担体は、有機物と金属とを含む原料の炭素化により得られる炭素化材料からなり、一酸化炭素のメタネーション反応触媒活性を示す金属を担持するための担体である。本発明に係る金属担持触媒は、有機物と金属とを含む原料の炭素化により得られる炭素化材料からなる担体と、前記担体に担持された、一酸化炭素のメタネーション反応触媒活性を示す金属と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、反応容器の芯部領域において高温を確保することが容易なガス分解装置を提供する。
【解決手段】 本発明のガス分解装置は、ガスを分解するために用いる装置であって、ガスを含む気体が導入される容器１１と、容器内に位置する、該ガスの分解の促進作用を有する触媒金属粒子を含む触媒体５と、容器内を加熱するための加熱装置とを備え、加熱装置が、高周波誘導加熱用のコイル３を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】結晶性の高い良質なグラフェンを、極力低い温度で効率よく成長させる方法を提供する。
【解決手段】グラフェンの成長に先立ち、前処理を行う。前処理は、排気装置９９を作動させて処理容器１内を減圧排気しながら、シャワーリング５７から処理容器１内に希ガスを導入するとともに、シャワープレート５９から処理容器１内に還元性ガス及び窒素含有ガスをそれぞれ導入する。この状態で、マイクロ波発生部３５で発生したマイクロ波を、導波管４７及び同軸導波管４９を介して所定のモードで平面アンテナ３３に導き、平面アンテナ３３のマイクロ波放射孔３３ａ、透過板３９を介して処理容器１内に導入する。このマイクロ波により、還元性ガス及び窒素含有ガスをプラズマ化し、ウエハＷ表面の触媒金属層に活性化処理を施す。 （もっと読む）

【課題】エタノールを原料として、効率よく水素を製造することのできるエタノール改質触媒を提供する。
【解決手段】下記工程を含む複合酸化物型エタノール改質触媒の製造方法。
工程（１）：Ｎｉ前駆体（Ａ）、ケイ酸アルカリ金属塩（Ｂ）及び水溶性高分子（Ｃ）を含む混合溶液をゲル化させてゲル状体を形成する工程
工程（２）：前記ゲル状体を乾燥した後、４００℃〜７００℃にて焼成してＮｉ酸化物とシリカからなる複合酸化物を得る工程 （もっと読む）

【課題】分解過程のガス濃度の変化に対応して、最適な配合割合の触媒を採用させることにより、ガスの分解効率を高めたガス分解装置を提供する。
【解決手段】固体電解質層１０１と、この固体電解質層の一側に設けられる第１の電極層１０２と、他側に設けられる第２の電極層１０５とを備える複数のガス分解素子１００ａ，１００ｂ，１００ｃを含んで構成されるガス分解装置であって、上記第１の電極層又は／及び第２の電極層に含まれる触媒の組成が、上記ガス分解素子によって異なるように構成されているとともに、上記複数のガス分解素子に、ガスを順次作用させて分解するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】セラミック多孔体とセラミック基材とが剥離し難い、品質安定性に優れたセラミック接合体を製造する方法を提供すること。
【解決手段】
本発明によって提供される製造方法は、セラミック基材２０の表面にセラミック多孔体１０が接合されたセラミック接合体３０を製造する方法である。この製造方法は、少なくともセラミック粉末と有機バインダと非水溶性有機溶剤と水とを含有しているセラミック多孔体形成用組成物を調製すること、ここで、該組成物中における水の含有量はセラミック粉末とバインダと非水溶性有機溶剤との合計質量に対して１質量％〜５０質量％に相当する量である；該組成物をセラミック基材２０の表面に塗工すること；及び、その塗工物を焼成してセラミック基材２０の表面にセラミック多孔体１０が接合されたセラミック接合体３０を得ること；を包含する。 （もっと読む）