【課題】通常の流動層処理では処理できない付着・凝集性の高い粉粒体粒子（難流動性の粉粒体粒子）を効果的に処理する。
【解決手段】流動層装置は、底部に通気部１ａを有する流動層容器１と、流動層容器１の下部に設けられた給気室２と、給気室２に接続された給気経路３と、給気経路３に介装された脈動波発生装置４と、流動層容器１の上部に接続された排気経路５と、排気経路５に接続されたブロアー６と、脈動波発生装置４と排気経路７とを接続するバイパス経路７とを備えている。ブロアー６及び脈動波発生装置４が作動すると、上流側給気経路３ａ、脈動波発生装置４、及び下流側給気経路３ｂを介して給気室２に気体脈動波が供給される。 （もっと読む）

【課題】複雑な装置構造や可動部を必要とせず、粉粒体粒子物性値の高精度な測定が行え、且つ収率の低下を抑制できる流動層装置を提供する。
【解決手段】処理容器の側壁に設けられた透光窓と、該透光窓の内面に臨み、且つ前記処理容器内で浮遊流動する粉粒体粒子の一部を堆積させる、所定の容積を有する粒子捕捉部とを設け、前記透光窓の外面側から光センサを用いて前記粒子捕捉部に堆積した静止状態の粉粒体粒子の物性値を測定することで、高精度な測定を可能とし、且つ収率の低下を抑制した。 （もっと読む）

【課題】安全性を確保しつつ粉体の処理効率を十分に高めることが可能な粉体処理装置および粉体処理方法を提供する。
【解決手段】反応容器２内には、処理用空間ＳＰが設けられる。反応容器２の下端部に、気体導入口２ａが設けられる。気体導入口２ａには、分散板４が取り付けられる。反応容器２の下部側面には、気体導入口２ｂが設けられる。反応容器２内の分散板４上に粉体１０が収容された状態で、気体導入口２ａから分散板４を通して処理用空間ＳＰに窒素ガスが導入されるとともに、気体導入口２ｂから分散板４を通さずに処理用空間ＳＰに処理用ガスが導入される。 （もっと読む）

【課題】 シリコン析出のために十分な熱と流動ガスとを均一に供給することができ，多結晶シリコンの大量生産が可能であり、組み立て、設置及びメンテナンスが容易な流動層反応器を提供する。
【解決手段】 反応管と、独立的に制御して流動ガスを前記反応管の内部に供給する流動ガス供給部と、前記反応管の内部に反応ガスを供給する反応ガス供給部と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 反応ガスを安定的に供給することができ、シリコン析出の効率を向上することができ、シリコン析出工程時に不純物による多結晶シリコンの汚染を防止することができる流動層反応器を提供する。
【解決手段】 内部にシリコン粒子を含む反応管と、内部の反応ガスチャンネルに沿って前記反応管の内部にシリコン元素を含む反応ガスを供給し、前記反応ガスチャンネルを取り囲むチャンネルを有する反応ガス供給部と、を含む。 （もっと読む）

【課題】サイクロンリアクター（１０）において、化合物を合成しかつ反応させる方法を
提供すること。
【解決手段】触媒粒子、液体触媒、および／または液体反応物質を含有し得る液体キャリ
アが、提供され得る。この液体キャリアは、サイクロンリアクター（１０）内で渦巻き層
（３８）に形成され得る。また、少なくとも１種の反応物質を含有する反応物質組成物が、
渦巻き層（３８）の少なくとも一部分を通して射出され得、これにより、反応物質の少な
くとも一部は、反応生成物に変換される。このサイクロンリアクター（１０）は、微妙な
温度制御により、反応物質の触媒との接触を向上させ、それにより、反応の収率および選
択性を上昇させる。 （もっと読む）

【課題】 多結晶シリコンの大量生産が可能であり、組み立て、設置及びメンテナンスが容易で、また、第１ボディ部と第２ボディ部とが互いに分離及び組み立て可能な流動層反応器を提供する。
【解決手段】 ヘッドと、前記ヘッドの下に位置して前記ヘッドと連結され、前記ヘッドの直径より小さな直径を有する第１反応管がその内部に位置する第１ボディ部と、前記第１ボディ部の下に位置して前記第１ボディ部と連結され、前記第１反応管の直径と実質的に同一の直径を有する第２反応管がその内部に位置する第２ボディ部と、前記第２ボディ部と連結された底面部と、を含む。 （もっと読む）