【課題】光源の特徴に対応して、光源の機能を好適に維持することができるように、光源の温度を調整することができる照射装置を提供する。
【解決手段】照射装置は、光源管の内面の一部分に配置されたアマルガム合金体を備える光源と、光源が内部に配置されているチャンバーと、を備え、チャンバーは、チャンバー本体と、チャンバー本体に形成された第１気体流入口及び第１気体流出口と、記第１気体流入口からチャンバー本体内に流入する気体を、前記光源管における前記アマルガム合金体が配設された部分の外面に当たる方向に導く第１導流体と、を備える。また、光源は、放電電極を備えており、チャンバーは、チャンバー本体に形成された第２気体流入口及び第２気体流出口と、第２気体流入口からチャンバー本体内に流入する気体を、前記光源管における前記放電電極が配設された部分の外面に当たる方向に導く第２導流体と、をさらに備える。 （もっと読む）

【課題】基板上に塗布されたインクの乾燥ムラを抑制する。
【解決手段】本発明の一形態に係るインクジェット塗布装置は、第１のヘッド群１２Ａと第２のヘッド群１２Ｂとを有するインクヘッドモジュール１２を備える。第１のヘッド群１２Ａは、基板Ｓの表面全域をＸ軸方向に沿って配列された複数列の領域Ｒ１〜Ｒ６で区画したときに、所定の第１の領域群（Ｒ１，Ｒ３，Ｒ５）にインクの液滴を塗布する。第２のヘッド群１２Ｂは、第１のヘッド群１２Ａに対してＹ軸方向に所定距離（Ｈ）オフセットした位置に配置され、上記複数列の領域のうち残余の第２の領域群（Ｒ２，Ｒ４，Ｒ６）にインクの液滴を塗布する。このとき、第１のヘッド群１２Ａからの液滴が基板Ｓ上に着弾してから、第２のヘッド群１２Ｂからの液滴が基板上に着弾するまでの時間が所定時間以内となるように、基板Ｓを支持するステージ１１の移動が制御される。 （もっと読む）

【課題】安価でコンパクトな紫外線照射装置と、そのような紫外線照射装置を用いて低コストで実施できる光硬化性塗布物の硬化処理方法を提供する。
【解決手段】紫外線を一方向へ照射する紫外線照射部と、前記紫外線照射部の紫外光照射側に該紫外線照射部と離間しかつ該紫外線照射部に対向して設けられた、前記紫外線を反射して該紫外線発光部との間に集光させる反射集光部と、を有している紫外線照射装置。 （もっと読む）

【課題】基板の上にラインを形成することと共にこれを固形化させる基板処理装置及び基板処理方法が提供される。
【解決手段】本発明の基板処理装置１００は、基板Ｓが載置されるステージ１１００と、インクＩを吐出してステージ１１００に載置された基板Ｓに複数のラインを形成する吐出ユニット１２００と、吐出されたインクＩを固形化させる固形化ユニット１４００と、ステージ１１００を移動させるか、又は吐出ユニット１２００と固形化ユニット１４００を移動させる移送ユニット１５００と、を含む。 （もっと読む）

【課題】従来の描画装置では、コストを低減することが困難であるという課題がある。
【解決手段】紫外光４１の照射を受けることによって硬化する機能液５３を吐出する吐出ヘッド３３からワークＷに向けて機能液５３を吐出することによって、ワークＷに機能液５３を塗布する塗布工程と、ワークＷに塗布された機能液５３に対して、紫外光４１を含む光を発する光源４３により紫外光４１を照射する照射工程と、前記照射工程の前に、ワークＷの熱特性に応じて光源４３とワークＷとの間の距離を制御する距離制御工程と、を有する、ことを特徴とする描画方法。 （もっと読む）

【課題】塵ＰおよびレジストＲを基板Ｗの周縁部Ｅから同時に除去する。
【解決手段】基板Ｗの周縁部Ｅに液状の被覆剤Ｃを塗布して、基板Ｗの周縁部Ｅに付着した塵Ｐを液状の被覆剤Ｃによって覆う。そして、基板周縁部Ｅに付着した塵Ｐを覆う被覆剤Ｃを硬化させることで、当該塵Ｐを硬化された被覆剤Ｃの内部に捕捉する。したがって、被覆剤Ｃを基板Ｗの周縁部Ｅから除去することで、基板Ｗの周縁部Ｅから塵Ｐを除去することができる。さらに、基板Ｗの周縁部Ｅに被覆剤Ｃを塗布した後に、基板表面ＷfにフォトレジストＲを塗布するため、基板Ｗの周縁部Ｅでは、フォトレジストＲは被覆剤Ｃの上に塗布される。したがって、基板Ｗの周縁部Ｅから被覆剤Ｃを除去した際には、被覆剤Ｃの上に塗布されたフォトレジストＲも被覆剤Ｃとともに基板Ｗの周縁部Ｅから除去される。こうして、塵ＰおよびフォトレジストＲを基板Ｗの周縁部Ｅから同時に除去できる。 （もっと読む）

【課題】従来の描画装置では、画像の品位を向上させることが困難である。
【解決手段】機能液５３を吐出する吐出ヘッド３３と、ワークＷに塗布された機能液５３から形成されたパターンに向けて赤外光１８を照射する照射装置１７と、照射装置１７から前記パターンに向けて照射された赤外光１８のうち前記パターンを透過した赤外光１８の進路に設けられ、前記パターンを透過した赤外光１８を、相互に波長域が異なる複数の波長域の光９１に分光する分光素子８５と、分光された光９１の進路に設けられ、複数の波長域の光９１のうちの一部の波長域の光９２を透過させる光学フィルター８７と、光学フィルター８７を透過した光９２の進路に設けられ、光９２を受光し、受光した光量に応じた値の信号を出力する受光素子８９と、を有する、ことを特徴とする描画装置。 （もっと読む）

【課題】 例えばフィンガー配線のような塗布パターンを基板の主面に形成する際に、塗布パターンを厚膜（高アスペクト比）に形成することができるパターン形成装置を提供する。
【解決手段】 第１ノズル４１の第１吐出口４７から吐出され、第１ノズル４１の対向面４５と、ステージにほぼ水平に支持されて第１ノズル４１に対して移動する基板９の主面との間に界面張力により存在する、光硬化性を有するペースト７に対して、その側方から光を照射することにより、ペースト７を硬化させる。 （もっと読む）

【課題】塗装するユニットと、乾燥・硬化させるユニットとを一体化し、これら２つの工程をワンステップで実施できる床面用紫外線硬化型塗料施工装置を提供する。
【解決手段】ＵＶ塗料施工装置１００は、自装置を支持し、記床面の上を移動する移動部１１０と、ＵＶ塗料を収容する容器ＴＮＫを支持する容器支持部１２０と、容器から供給されたＵＶ塗料を床面に塗布する塗布部１３０と、移動部による進行方向において、塗布部よりも後ろ側に配置され、床面に塗布されたＵＶ塗料に、紫外線を照射して硬化させる紫外線照射部１４０とを有する。 （もっと読む）

【課題】塗布膜に含まれる溶媒を凝縮して塗布膜を乾燥させる際に、冷却板と塗布膜の膜面との間隔を均一にし、且つ、搬送風の乱れを少なくすることでムラの発生を抑制することのできる乾燥方法、乾燥装置及び凝縮液の回収方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る乾燥方法は、シート状基材４に形成された塗布膜４ａから蒸発した溶媒を冷却板１で凝縮することで塗布膜４ａを乾燥させる方法である。そして、本乾燥方法は、シート状基材４の搬送方向に沿って複数配置され、且つ、塗布膜４ａの膜面と平行になるように配置された冷却板１に塗布膜４ａから蒸発した溶媒を凝縮して凝縮液とし、その凝縮液を冷却板１間の隙間を塞ぐ多孔質体ブロック２に含浸させる工程を含むものである。なお、冷却板１のそれぞれは、塗布膜４ａと冷却板１との間の距離が同じである。また、塗布膜４ａと冷却板１との間の距離は、塗布膜４ａと多孔質体ブロック２との間の距離と同じである。 （もっと読む）