【課題】 希少金属層が設けられている基板から希少金属を剥離処理して、当該希少金属を高い効率で回収できる金属回収機構を有する基板処理装置の提供。
【解決手段】 基板を載置するステージ部Ｆと、
水蒸気及び水を含む混相流体を前記基板に噴射して前記基板上の希少金属を剥離する、混相流体噴射部Ｅと、
槽壁１７１、前記混相廃物を排出する排出管１７２、を有するチャンバ部Ｉと、
前記排出管から送られる混相廃物を液相と気相とに分離する気液分離機構１８１、該気液分離機構により分離された液相から希少金属を回収する固液分離手段１８２を有する、混相廃物中の液相に存在する希少金属を回収する第一処理部Ｇと、
前記第一処理部の気液分離機構から送られる気相に含まれる希少金属を回収するサイクロン式分離機構１９１を有する、混相廃物中の気相に存在する希少金属を回収する第二処理部Ｈと、
を具備する基板処理装置１００。 （もっと読む）

【課題】流出する気泡混入水による洗浄効果を向上させることができるノズルを提供することを課題とする。
【解決手段】水の流出口に接続されて水の流出口からの水が流入する流入部１１と、流入部１１から流入した水の流れを絞って水の流速を増加させる絞り部１２と、絞り部１２から下流側へ流出する水に空気が吸引されて気泡が混入され、気泡混入水となるように空気を導入する空気導入部１３と、絞り部１２への水の流入を断続的に遮断する断続的遮断手段１４と、を具備し、断続的遮断手段１４にて絞り部１２への水の流入を断続的に遮断することにより、気泡混入水の流出する流量を断続的に変化させて脈動するような気泡混入水を流出する、ノズル１Ａとする。 （もっと読む）

【課題】 多目的な洗浄に対応するワーク洗浄装置を提供する。
【解決手段】 本願発明では、ワークＷを洗浄するワーク洗浄装置において、洗浄液の噴射部と、複数のプレート４…４と、プレート移動部５とを備え、プレート移動部５は、少なくとも一部のプレート４を移動させて、洗浄するワークの周囲を各プレート４…４にて取り囲むことにより、洗浄液の液溜まりを形成することができ、且つ、移動させたプレート４…４を元の位置に後退させることができるものであり、 噴射部６は、洗浄するワークを、プレート４…４にて取り囲んだ状態と取り囲んでいない状態の何れにおいても、ワークに向け洗浄液を噴射することができるものである。 （もっと読む）

【課題】マイクロバブルを用いて洗浄効果を上げるとともに、節水弁を併用することで、被洗浄体に対応できる節水率で節水効果を達成できるマイクロバブルを用いた節水洗浄装置を提供する。
【解決手段】一端の流入口１aに給水源が接合され、他系統の流入口（気体流入口１b）に気体供給手段が接合され、他端に気液混合流体の流出口が配設されて成るマイクロバブル生成装置１において、前記流出口に節水弁２を接合し、該節水弁２の出水口に噴射ノズル３を接合して成る。前記節水弁２は、六角軸体の一端部の雌ネジと、他端部の雄ネジと、該雌ネジのネジ底の通水室と、該通水室と前記雄ネジ側の出水口の底面間の隔壁と、該隔壁の連通口とから成る弁本体と、通水室に内設される通水盤と該通水盤に重畳され、蝶羽根とネジ挿通孔を有する制水盤と、両者を接合するボルトとから成る。 （もっと読む）

【課題】 洗浄液の使用量を低減させながら、パーティクルや異物が基板に固着することを防止して、清浄に基板を洗浄することが可能な基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄液を貯留する貯留槽１２と、貯留槽１２に貯留された洗浄液をガラス基板１００の表面に供給するスプレーノズル１と、ガラス基板１００に供給された洗浄液を貯留槽１２に回収する回収槽１９とを備えた第１洗浄部１０１と、下方を向く洗浄液吐出口を有する洗浄液吐出ノズル２と、洗浄液の液溜まりを保持する洗浄液保持面を備えた液溜まり保持部材３と、ガラス基板１００の裏面に純水を供給する裏面洗浄部４とを備えた第２洗浄部１０２と、第１洗浄部１０１におけるスプレーノズル１と、第２洗浄部１０２における洗浄液吐出ノズル２との間に配設されガラス基板１００の表面から洗浄液を除去する上下一対のエアナイフ８とを備える。 （もっと読む）

【課題】 多目的な洗浄に対応するワーク洗浄装置を提供する。
【解決手段】 本願発明では、ワークＷを洗浄するワーク洗浄装置において、洗浄液の噴射部と、複数のプレート４…４と、プレート移動部５とを備え、プレート移動部５は、少なくとも一部のプレート４を移動させて、洗浄するワークの周囲を各プレート４…４にて取り囲むことにより、洗浄液の液溜まりを形成することができ、且つ、移動させたプレート４…４を元の位置に後退させることができるものであり、 噴射部６は、洗浄するワークを、プレート４…４にて取り囲んだ状態と取り囲んでいない状態の何れにおいても、ワークに向け洗浄液を噴射することができるものである。 （もっと読む）

【課題】簡便安価な構成で効率よく洗浄作業を行うことができる電子部品実装設備用の洗浄ツールおよび洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】部品実装装置に用いられる吸着ノズル１０などを洗浄する電子部品実装設備用の洗浄ツール２０を、作業者が把持して操作可能な本体部２１と、本体部２１の先端に設けられ２流体３１が噴射される噴射ノズル２５と、本体部２１に接続され噴射ノズル２５と切替バルブ２６を介して接続された液体タンク２８とを備え、洗浄水３０の粒子３０ａを圧縮空気２３ａに混合した２流体３１を被洗浄物である吸着ノズル１０に対して噴射する構成とする。これにより、簡便安価な構成で効率よく洗浄作業を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】洗浄・現像処理装置における基板を搬送する搬送ローラーの洗浄、清掃を自動化し、洗浄清掃操作の手間や労力を省力化し、洗浄・清掃作業を短時間で実施し、搬送ローラーの洗浄、清掃操作による洗浄・現像装置の長期の稼動停止ロスの発生を防止する。
【解決手段】基板材料ｐを水平に載置して洗浄・現像チャンバー１内の洗浄処理手段Ｂと現像処理手段Ｃとに水平搬送する搬送ローラー40を備えた洗浄・現像処理装置Ａにおいて、基板材料ｐが載置、搬送されていない搬送ローラーを特定する検出手段を備え、特定された搬送ローラーの回転中又は回転停止中に、洗浄・現像チャンバー１内の搬送ローラー40上方に対峙する専用の清掃ノズル31にて該搬送ローラーに清掃液ｄを噴射し、搬送ローラーに付着する汚損物を自動清掃除去して搬送ローラーを清掃する。 （もっと読む）

【課題】基板に形成されたレジストを除去する際のレジストの残渣の発生を抑える一方で、基板を洗浄する際の洗浄能力の低下を図る。
【解決手段】被噴射体噴射装置は、回転軸４１を有し、回転軸４１の回転によって基板を回転させるスピンナー４０と、基板に相対する位置であってスピンナー４０の回転軸４１からずれて配置され、被噴射体を噴射するノズル２４及びノズル２５と、を備え、スピンナー４０の回転軸４１の方向に見て、ノズル２４の噴射口２４Ａがスピンナー４０の回転軸４１が回転する向きと向き合っており、ノズル２５の噴射口２５Ａが第一ノズル２４の噴射口２４Ａの向きとは逆向きである。 （もっと読む）

【課題】飲食物容器が水路の下方に沈下することで搬送が滞ってしまうことがない飲食物容器回収装置を提供すること。
【解決手段】飲食物容器３を水流２２で搬送する水路１４，１５，１６を有する飲食物容器回収装置１３であって、水路１４，１５，１６の水中の上方に向けて流体を噴出する噴出手段２３，２５を有し、水流２２で搬送される飲食物容器３が、水路１４，１５，１６の底方に沈下したような場合に、噴出手段２３，２５から水路１４，１５，１６の水中の上方に向けて流体が噴出されるので、この流体が飲食物容器３に当たることで、飲食物容器３が上方に浮き上がり、水流２２で搬送される飲食物容器３が、水路１４，１５，１６の底方に沈下して搬送が滞ることがあるのを防ぐ。 （もっと読む）