【課題】洗浄液の円滑な流動状態を確保して噴射ノズルからの洗浄液の噴射動作の安定化を図る。
【解決手段】供給タンクから洗浄液が供給されるシリンダー２と、シリンダーに供給された洗浄液が流動される第１の流路３ａが形成されシリンダーに一部が突出された状態で軸方向へ移動自在に支持されたピストン３と、洗浄液をそれぞれ噴射する複数の噴射ノズル２９、２９を有しピストンのシリンダーから突出された部分の軸方向における一端部に結合されたバルブケース４とを設け、バルブケースの内部に、第２の流路４ａと複数の噴射ノズルにそれぞれ連通された複数の第３の流路４ｂ、４ｂとが形成され、ピストンがバルブケースと一体になってシリンダーに対して突出される方向へ移動されて洗浄液が複数の噴射ノズルからそれぞれ噴射され、洗浄液の液圧に応じて開閉されて供給又は停止を行う弁２４を配置した。 （もっと読む）

【課題】ランニングコストや設備投資の増大、さらにはガラス基板の生産性低下を極力招くことなく、ガラス基板の有効面を効果的に清浄化することができる技術を提供する。
【解決手段】搬送されるガラス基板Ｇの有効面に対し、洗浄液２１を供給しつつ、洗浄ヘッド１５を回転させながら押し当てることにより、ガラス基板Ｇの有効面に付着した異物を取り除く洗浄工程において、洗浄ヘッド１５または洗浄ヘッド１５を保持する第１保持部材１３の少なくとも一方の膨張収縮を利用して、ガラス基板Ｇに対する洗浄ヘッド１５の接触圧を調整する。具体的には、洗浄ヘッド１５がある程度摩耗したときに、洗浄液２１の供給温度を上昇させて、洗浄ヘッド１５または第１保持部材１３の少なくとも一方を熱膨張させ、洗浄ヘッド１５の摩耗によって低下したガラス基板Ｇに対する洗浄ヘッド１５の接触圧を再度高める。 （もっと読む）

【課題】基板のダメージを抑制することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、基板Ｗを水平に保持するスピンチャックと、基板Ｗの上面内の噴射領域Ｔ１に吹き付けられる処理液の液滴を生成する液滴ノズル５と、基板Ｗを保護する保護液を基板Ｗの上面に向けて吐出する保護液ノズル６とを含む。保護液ノズル６は、保護液が基板Ｗの上面に沿って噴射領域Ｔ１の方に流れるように基板Ｗの上面に対して斜めに保護液を吐出し、噴射領域Ｔ１が保護液の液膜で覆われている状態で処理液の液滴を噴射領域Ｔ１に衝突させる。 （もっと読む）

【課題】洗浄対象物に対する損傷を抑制するとともに、洗浄性の高い洗浄液を生成する装置を提供する。
【解決手段】洗浄液生成装置は、気体が過飽和に溶存している液体に、物理的刺激と電気的刺激の少なくとも一方の刺激を付与して、液体に気泡が含有された洗浄液を生成する刺激付与部１を備える。刺激付与部１は、洗浄液を吐出する吐出口２の前段に配置されている。好ましくは、気体が過飽和に溶存している液体を生成する過飽和溶存液生成機構５を備えている。物理的刺激は、振動、熱、光、撹拌、圧力変化のいずれかであってよい。 （もっと読む）

【課題】洗浄処理において、基板への不必要なダメージや回路パターン倒れを防ぎつつ、特定箇所の異物を除去できる洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】洗浄処理に用いるための処理流体を基板５に噴出する処理流体ノズル７と、基板５から処理流体を回収する回収装置８とを具備している。基板５を処理流体ノズル７からの処理流体により局所的に洗浄処理することができるため、基板５に対して不必要なダメージ、回路パターン倒れを防ぎつつ、特定箇所の異物を除去できる。 （もっと読む）

【課題】複数の噴射装置を同時に使用可能とした高圧洗浄装置およびこれを備えた高圧洗浄車の提供。
【解決手段】一端が水ポンプ１４の吐出側に接続された少なくとも第１水流路および第２水流路と、第１水流路の他端に接続された洗浄ノズル２ｂと、第２水流路の他端に接続された洗浄ガン３ｂと、洗浄ノズル２ｂに対する洗浄水の供給の有無を切り換える大ホース開閉弁２８と、洗浄ガン３ｂに対する洗浄水の供給の有無を切り換える小ホース開閉弁２９と、大ホース開閉弁２９を開閉動作させるエアシリンダ５４を動作させる第１電気回路と、小ホース開閉弁２９を開閉動作させるエアシリンダ５５を動作させる第２電気回路と、第１電気回路および第２電気回路のいずれか一方または両方に通電することにより、大ホース開閉弁２８および小ホース開閉弁２９のいずれか一方または両方を開状態に切り換える大小ホースリール切換スイッチとを含む。 （もっと読む）

【課題】 基板の表面の検査結果に応じて基板を適正に処理することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】 基板処理装置における搬入部１１と、第１処理部１２と、第２処理部１３と、搬出部１４とは、昇降用モータ２０の駆動により、それらが水平面に対して平行に向く位置と水平面から傾斜した位置との間を、軸１５を中心に一体となって揺動する。制御部がエッチングすべき膜の膜厚が均一であると判断した場合には、第１処理部１２および第２処理部１３を、搬入部１１および搬出部１４とともに、水平面に対して傾斜させる。制御部がエッチングすべき膜の膜厚が不均一であると判断した場合には、第１処理部１２および第２処理部１３を、搬入部１１および搬出部１４とともに、水平面と平行に向く位置に配置する。 （もっと読む）

【課題】洗浄後の欠陥の発生が極めて少ないフォトマスク関連基板を得られる洗浄方法及び洗浄装置提供することを目的とする。
【解決手段】フォトマスク関連基板の洗浄方法において、少なくとも、前記フォトマスク関連基板の表面の異物をあらかじめ除去する前処理工程と、該前処理工程の後に前記フォトマスク関連基板にＵＶ光を照射するＵＶ照射工程と、該ＵＶ照射工程の後に前記フォトマスク関連基板を湿式で洗浄する湿式洗浄工程とを行うことを特徴とするフォトマスク関連基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】基板の全面を十分に洗浄することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板を保持して回転させるスピンチャック２と、スピンチャック２に保持された基板Ｗに向けて処理液の液滴を吐出するノズル４とを含む。ノズル４には、処理液の液滴を吐出する複数の吐出口３３が一列に並べられた列Ｌ１が複数列配置されている。ノズル４はノズルアーム１８に保持されて、スピンチャック２に保持された基板Ｗの主面に垂直な垂直方向Ｄ１から見たときに基板Ｗの主面の回転中心Ｃ１を通る軌跡Ｘ１に沿って移動する。ノズル４は、垂直方向Ｄ１から見たときに複数の列Ｌ１と軌跡Ｘ１とが交差するようにノズルアーム１８に保持される。 （もっと読む）

【課題】金属膜が形成された基板においてパターンの倒壊を抑制すること。
【解決手段】水を含むリンス液が、金属膜が形成された基板に供給される（Ｓ２）。その後、水酸基を含まない第１溶剤が、基板に供給されることにより、基板に保持されている液体が第１溶剤に置換される（Ｓ４、Ｓ５）。その後、水酸基を含まない第２溶剤を含み金属を疎水化する疎水化剤が、基板に供給されることにより、基板に保持されている液体が疎水化剤に置換される（Ｓ６）。 （もっと読む）