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国際特許分類[B08B3/02]の内容

処理操作;運輸 (1,245,546) | 清掃 (8,628) | 清掃一般;汚れ防止一般 (8,628) | 液体または蒸気の使用または存在を含む方法による清掃 (4,413) | ジェットまたはスプレーの力による清掃 (1,469)

国際特許分類[B08B3/02]に分類される特許

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【課題】洗浄水の使用量を削減及び調整する。
【解決手段】基板洗浄装置Aは、プリント基板Pを収容する洗浄槽1と、圧縮空気を吐出するコンプレッサ10と、洗浄槽1内に設けら、コンプレッサ10から吐出された圧縮空気を噴射する予備洗浄ノズル6と、洗浄水を貯留する洗浄水タンクと洗浄槽1内に設けられた噴霧管とを有し、噴霧管の一方の先端が予備洗浄ノズル6の先端に近接するとともに、他方の先端が洗浄水に浸かっている霧発生機構7とを具備し、洗浄水が噴霧管の一方の先端からプリント基板Pに噴霧され、予備洗浄ノズル6の先端と、噴霧管の一方の先端との距離及び角度が可変であり、予備洗浄ノズル6から圧縮空気が噴射されると、噴霧管の他方の先端から洗浄水が吸い上げられ、噴霧管の一方の先端から洗浄水がプリント基板Pに噴霧される。 (もっと読む)


【課題】洗浄液を少量に抑えながら簡便に基板を洗浄する技術を提供すること。
【解決手段】水平姿勢にて水平に移動している基板Gの上面に洗浄ノズル2より洗浄液Aを供給した後、その基板Gを、基板Gの移動路における洗浄ノズル2の下流側に設けられた磁場形成部材3、4の間を通過させる。このとき、基板Gの表面上に供給された洗浄液Aは、反磁性であるため、磁場形成部材3、4の間に形成された強力な磁場の作用により通過を阻止される。これにより基板Gの表面上の液切りを行って洗浄液Aを除去するようにしている。 (もっと読む)


【課題】 基板を均一に処理することが可能な基板処理装置および搬送ローラを提供する。
【解決手段】 搬送ローラ1は、駆動軸3と、複数のローラ部2とから成る。そして、複数のローラ部2は、各々、同一形状を成す3個のローラ部材2a、2b、2cから構成される。これらのローラ部材2a、2b、2cには、その表面が駆動軸3を中心とする円上に配置されたガラス基板との当接領域と、その表面が円より駆動軸3の軸心側に配置されたガラス基板との非当接領域とが形成されている。この当接領域は、円の円周全域の1/3をわずかに越えている。 (もっと読む)


【課題】加圧作動水によって洗浄することができる水圧システム。
【解決手段】
加圧作動水を水圧アクチュエータ(33、43)に導く作動水供給回路(60、70)と、加圧作動水を作動水供給回路(60、70)を経由して水圧アクチュエータ(33、43)に供給する水圧ユニット(10)、とを備える水圧システムにおいて、作動水供給回路(60、70)から分岐して設けられる開閉弁(31、41)と、開閉弁(31、41)が開放されたときに、加圧作動水を水圧アクチュエータ(33、43)付近に噴射するノズル(32、42)と、開閉弁(31、41)の開閉を制御する制御装置(100)と、を備える。 (もっと読む)


【課題】基板の処理に使用される処理液の消費量を低減すること。
【解決手段】基板処理装置は、処理液を吸収可能で弾性変形可能なスポンジ41と、スポンジ41に処理液を供給する貯留槽40と、基板Wを保持する基板搬送ロボット21とを含む。基板搬送ロボット21は、スポンジ41と基板Wとを相対移動させてスポンジ41と基板Wの下面とを接触させることにより、スポンジ41に吸収されている処理液を基板Wの下面に供給させる。 (もっと読む)


【課題】除去性能を高めた空調用フィルタの洗浄を効率的に行う。
【解決手段】ローラコンベア9とローラコンベア9で搬送されるフィルタ2に洗浄液を散布する洗浄液散布ノズル50a〜50fと、フィルタ2に高圧ガスを噴射する高圧ガス噴射ノズル60a〜60cと、散布された洗浄液17a〜17cを回収する回収タンク72a〜72cと、洗浄液を洗浄液散布ノズル50a〜50fに循環させる循環系統と、を含む各洗浄ステージ4a〜4cを含み、精密洗浄ステージ4cは、未使用洗浄液噴霧ノズル50gが配置され、精密洗浄ステージ4c、粗洗浄ステージ4bは各回収タンク72c,72bからフィルタ搬送方向上流側の各回収タンク72b,72aに洗浄液を順次移送する移送系統を備え、予備洗浄ステージ4aは回収タンク72aの洗浄液90aを外部に排水する排水ポンプ77aを備える。 (もっと読む)


【課題】排気に含有の化合物を凝縮させる排気冷却コイルの洗浄を効率よく行う。
【解決手段】排気40aが流通する横設ダクト45には排気冷却コイル47cが配される。排気冷却コイル47cは排気40aの流れ方向に並べられる。添加剤洗浄装置48は、上流側供給機71と下流側供給機72と中間供給機73とを有する。上流側供給機71は最上流側冷却コイル47cuの上流側に洗浄液65を噴射する。下流側供給機72は最下流側冷却コイル47cdの下流側に洗浄液65を噴射する。中間供給機73は、横設ダクト45の天井部45uから、排気冷却コイル47cの隙間に向けて洗浄液65を噴射する。 (もっと読む)


【課題】所望の微細な気泡を液体に内包させることのできる微細気泡発生機構を提供する。
【解決手段】液体Lと気体Gとを混合する気液混合通路11と、この気液混合通路11へ液体Lを導入する液体導入通路13と、気液混合通路11からの気液混合体Mを導出する気液混合体導出通路15と、気液混合通路11へ気体Gを導入する気体導入通路17と、気液混合通路11よりも下流に設けられ、気液混合体Mの流量と、気液混合体M内の気泡の直径とを調整する流量および気泡径調整部材21とを備え、液体導入通路13は、気液混合通路11へ向かうにしたがって断面積が徐々に小さくなっている。 (もっと読む)


【課題】ワークが搭載されるトレイを安定して、かつ、連続的に移動させ、処理室での処理効率を向上させつつ、処理室での処理をより確実に行うこと。
【解決手段】ワークが搭載される複数のトレイと、前記複数のトレイが係合される第1レール部と、前記複数のトレイのうちの搬送方向上流側端部に位置するトレイを搬送方向下流側に向けて前記第1レール部に沿って移動させる第1移動手段と、前記第1レール部が貫通するように配置され、前記第1移動手段によりその内部に搬入されたトレイに搭載されたワークに対して所定の処理を行う処理室と、を備え、前記トレイが、前記第1レール部と係合し、前記第1レール部に沿う前記トレイの移動が案内される被案内部を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】簡便な方法で、周囲の空気との干渉による水流の微粒化を抑制でき、高いデスケーリング又は洗浄能力を発現できる噴射ノズル装置を提供する。
【解決手段】フラットパターンの主水流50を噴射可能な主吐出口15と、主水流の厚み方向の両側から、それぞれ第1の被覆気流51及び第2の被覆気流52を噴射可能であり、主水流を第1及び第2の被覆気流のサンドイッチ状に被覆して噴射するための第1の補助吐出口及び第2の補助吐出口とを備えた噴射ノズルを用いて鋼板表面のスケールを除去する。前記主水流の噴射圧力は、被覆気流の噴射圧力の70倍以上に調整する。補助吐出口の噴射出口は、主吐出口の噴射出口よりも5〜100mm上流側に位置させてもよい。主水流の噴射方向に向かって5〜35°の角度で被覆気流を噴射してもよい。 (もっと読む)


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