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国際特許分類[B23K15/06]の内容

国際特許分類[B23K15/06]に分類される特許

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【課題】 金属箔同士をより確実にかつ容易に溶接することができるビーム溶接方法、真空包装方法、及びその真空包装方法により製造した真空断熱材及びそれを用いた加熱調理器を得る。
【解決手段】 第1の金属箔と、第1の金属箔上に重ねた第2の金属箔とを、支持台の互いに隣り合う主載せ面及び従載せ面のそれぞれに載せる金属箔積層工程と、従載せ面に載せられた第1及び第2の金属箔の部分を解放した状態で、主載せ面に載せられた第1及び第2の金属箔の部分同士を溶接想定線に沿って密着させる密着工程と、密着工程後、所定の真空環境下で、電子ビームの集中照射によって第1及び第2の金属箔を加熱することにより、主載せ面に載せられた第1及び第2の金属箔の部分同士を溶接想定線に沿って溶接しながら、従載せ面に載せられた第1及び第2の金属箔の部分を切り離す溶接溶断工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】チャンバ構成部品のような加工片の表面にテクスチャを設ける方法及びシステムを提供する。
【解決手段】本方法は、加工片をテクスチャ化チャンバへ供給するステップと、加工片の表面を横切って電磁エネルギのビームを走査させて該表面上に複数のフィーチャを形成させるステップとを含む。形成されたフィーチャは、一般的には凹み、突起、及びそれらの組合わせである。プロセスチャンバ内の汚染を減少させる方法も提供される。この方法は、1またはそれ以上のプロセスチャンバ構成部品の表面を横切って電磁エネルギのビームを走査させて該表面上に複数のフィーチャを形成させるステップと、1またはそれ以上のチャンバ構成部品をプロセスチャンバ内に位置決めするステップと、プロセスチャンバ内においてプロセスシーケンスを開始するステップとを含む。 (もっと読む)


【課題】超極厚(例えば、厚さ50mm超)の鋼板又は鋼管を、高エネルギー密度ビーム溶接で溶接する際、(i)溶接部に引張応力が残留しない施工条件を見いだし、(ii)ギガサイクル域の振動環境に、長期間耐える疲労特性有し、かつ、十分な破壊靱性を有する高エネルギー密度ビーム溶接継手を提供する。
【解決手段】一方の管継手部材に、他方の管継手部材を嵌合し、嵌合域に高エネルギー密度ビームを照射して溶接した溶接継手であって、上記嵌合域に、管継手部材の水平断面に対し傾斜し、かつ、管継手部材を周回する溶接部が形成されていることを特徴とする耐疲労特性に優れた高エネルギー密度ビーム溶接継手。 (もっと読む)


【課題】溶接時に発生する金属蒸気を積極的に回収し、あるいは、真空室の壁面に付着した金属蒸気等の舞い上がりを抑制し、金属蒸気等が被溶接物に再付着するのを抑制できる電子ビーム溶接装置を提供する。
【解決手段】超伝導加速空洞3を収容する真空室13と、真空室13に収容された超伝導加速空洞3に電子ビームを照射する電子銃17と、真空室13の真空引きを行う真空装置19と、が備えられた電子ビーム溶接装置1であって、負に帯電されえる金属蒸気回収部材37が電子銃17と超伝導加速空洞3との間に設置され、それぞれ正または負に帯電され、間隔を空けて配置される複数の帯電板47によって構成される舞上り抑制部材45が、真空室13の床43に設置されている。 (もっと読む)


【課題】シーム溶接等の作業を高真空環境にて処理するための高真空環境維持方法が構築されておらず 近年の新たなる各種部品製造方法 断熱機能として高真空環境における処理方法の必要性を生じている。
今後に於いて、 空気中環境では、発火現象を来す場合 高真空の環境に設定後 発火防止するガスを導入して発火現象を起こさない部品生産へも有効でないかと考えられる。
【解決の手段】高真空室1と大気側2の隔壁構造において 高真空と大気側の中間に低真空室5エリアを設け 各シール部の真空差を小さくして 真空差を段階的調整可能とする隔壁構造とした。 (もっと読む)


本発明は、真空下でワークピースを加工するための加工装置100に関するものであり、内部空間を有するハウジング1と、ハウジング蓋2と、ハウジング1に対し回転可能にしたハウジング底部6と、ハウジング底部6に連結し、かつハウジング1の内部空間に配置したロータ装置8であって、このロータ装置8内にワークピースを収容するための複数個のチャンバ81を設けた、該ロータ装置8とを備え、ハウジング1および/またはハウジング蓋2に複数個の作業開口4,12,13を形成し、ロータ装置8における複数個のチャンバ8のそれぞれには、少なくとも1つのロータ開口21を設け、これにより、ロータ装置8の回転に基づき円形経路82を規定し、この円形経路82に沿ってロータ開口21が変位する構成とし、作業開口4,12,13を円形経路82に沿って配置する際、それぞれのロータ開口21を、円形経路82に沿う変位時に作業開口4,12,13と合致できるよう構成し、ロータ装置8とハウジング1および/またはハウジング蓋2との間における、それぞれのロータ開口21周りにロータ開口シール部材14を設け、また、少なくとも2種類のロータシール部材を、ロータ装置8とハウジング蓋2および/またはハウジング1との間において、ロータ開口シール部材14と接触する状態で設け、円形経路82に沿う環状空間83,83a,83b,83cを、前記作業開口4,12,13および前記ロータ開口21の位置で区切り、前記環状空間83,83a,83b,83cを画定し、そして部分毎にシールする構成とする。
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【課題】電子ビーム発生器を移動させるためのコンパクトな構成を有するチャンバー設備を提供する。
【解決手段】チャンバー設備は、チャンバー内空間14を画定するとともに第1開口部46を有するチャンバーハウジング12と、第1開口部46の範囲内を移動可能な台車52と、電子ビーム軸45に沿って電子ビームを発生させる電子ビーム発生器42と、ディスク70とを備える。電子ビーム発生器42が台車52に設けられており、台車52が第1開口部46の範囲内を移動したときに、電子ビームが第1開口部46を通過する。ディスク70は、チャンバーハウジング12と台車52の間に設けられており、第1開口部46に対して垂直な回転軸72回りに、少なくとも第1位置(A)と第2位置(B)の間を回転可能である。ディスク70は回転軸72から離れているとともに半径方向に沿って伸びている第2開口部74を備えている。 (もっと読む)


【課題】電子ビーム加工、レーザ加工、電解加工等の精密で複雑な加工を、真空雰囲気、腐食雰囲気、ガス雰囲気等の、外部から遮断された特殊環境下で行えるようにするための作業機構は、特殊な材質や構造を採用しなければならないため、非常に高価となって実用に適さない。
【解決手段】そこで本発明では、駆動源3を設けた本体4と、本体に対して進退可能な作動軸5とを有する複数のリニアアクチュエータ2の前記作動軸により作業台9を密閉室1内において運動可能に支持する構成とし、前記本体を密閉室外に配置し、前記作動軸はシール手段8を介して進退可能に密閉室の壁6を貫通させた密閉室内作業機構により、上述した課題を解決している。 (もっと読む)


【解決手段】 イオン注入によって活性化された2つの基板を接合するウェハ接合方法を開示する。インサイチュイオン接合チャンバによって、イオン活性化および接合を、製造処理ラインで利用されている既存の処理ツールで、実行することができるようになっている。基板のうち少なくとも一方の基板のイオン活性化を低い注入エネルギーで行って、薄い表面層よりも下方のウェハ材料がイオン活性化によって影響をうけないようにする。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成で、加工対象物を広範囲で加工することが可能なビーム加工装置を提供すること。
【解決手段】ビーム加工装置は、ビームが通過する第1空間16および第1空間16の周囲に壁部14aを介して配置される第2空間17が形成される局所真空チャンバー9と、第1空間16、第2空間17を真空状態とするための吸気手段とを備えている。ワークに対向する対向部15は、ワークに向けてビームを出射するための出射孔22aを有する第1対向部18と、出射孔22aの外周側に配置される開口部32を有する第2対向部19と、第2対向部19の変形を防止するための変形防止部20、19dとを備えている。第1対向部18と第2対向部19との間には、開口部32を介して局所真空チャンバー9の外部に連通しかつ第2空間17の一部となる対向部間空間17aが形成されている。 (もっと読む)


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