【課題】 離型力が小さいパターン方法を提供すること。
【解決手段】 表面に凹部および／または凸部を有するモールドに硬化性組成物を接触させた状態で該硬化性組成物を硬化させ、前記モールドと前記硬化性組成物とを剥離して前記硬化性組成物の凹部および／または凸部を有するパターンを得るパターン形成方法であって、（ｉ）前記モールドと前記硬化性組成物の硬化物との間に且つそれぞれに接触するように、ガス発生剤を有するガス発生領域を設ける工程、（ｉｉ）前記（ｉ）工程で設けられた前記ガス発生領域からガスを発生させる工程、（ｉｉｉ）前記（ｉｉ）工程と同時またはその後に、前記モールドと前記硬化性組成物の硬化物とを剥離する工程、を有することを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】芯体に塗布された樹脂溶液を加熱することで発生する収縮によるしわと、当該溶液を加熱することで発生するガスによる膨れと、を抑制する。
【解決手段】外周面に塗布された樹脂溶液が加熱により硬化されて管状体が製造される円筒状又は円柱状の芯体本体と、前記芯体本体の軸方向中央部を含む前記外周面に形成された離型層と、前記芯体本体の軸方向一端部及び他端部のそれぞれにおいて前記外周面の周方向に沿って断続的に複数形成され、当該一端部及び他端部のそれぞれにおける前記芯体本体の周方向の全周において当該芯体本体の軸方向のいずれかの箇所に存在し、前記離型層よりも離型性が低下した低下部分と、を備える。 （もっと読む）

【課題】融点が３００℃以上の被転写材料に対しても母型の転写パターンを破壊せずに繰り返し転写させることができる転写構造体の製造方法及びそれに用いる母型並びに耐熱性が高い微細構造体を提供する。
【解決手段】表面に転写パターンが形成された母型をオゾン洗浄し、オゾン洗浄した母型の表面に、下記一般式（Ｉ）で表されるシランカップリング剤の膜を形成し、シランカップリング剤の膜が形成された母型の表面に被転写材料を付与するとともに３００℃以上に加熱することにより被転写材料に母型の表面の転写パターンを転写させる（式（Ｉ）中、ｎは１０、１２、又は１４の整数を示し、ｍは３又は４の整数を示し、Ｘ、Ｙ、Ｚは、それぞれ独立して、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、又はハロゲン原子を表す。）。
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【課題】 タイヤ製造時に周囲を黒く汚染せず、良好な平滑性および離型性を有し、加硫成型後に透明となり適度な光沢を付与するタイヤ用水系白色離型剤を提供することである。
【解決手段】 タイヤ用水系白色離型剤は、二酸化ケイ素を構成成分に含む無機成分と、ゴムと、ワックスと、水とを含有する。そして、無機成分、ゴムおよびワックスの合計量に対して、無機成分の重量割合が５〜４５重量％、ゴムの重量割合が１０〜８５重量％、ワックスの重量割合が１０〜８５重量％であるとよい。 （もっと読む）

【課題】樹脂製のナノインプリント用の型であり、容易に離型可能でその表面が親水化処理された場合にも表面の微細形状の精度が良好な樹脂型を提供する。
【解決手段】樹脂成分（ａ）を含む材料からなる樹脂型であって、樹脂成分（ａ）を、平滑面を有する基材の前記平滑面上に塗布して、乾燥などにより平滑面を有する樹脂層（Ａ）を形成した後、形成した樹脂層（Ａ）の平滑面上に３μＬの水を配置して、ＪＩＳＲ３２５７に準拠して測定される静的接触角（Ｘ１）が、下記条件（１）を満たす樹脂型。条件（１）：転写対象を構成する材料のうちの樹脂成分（ｂ）を、平滑面を有する基材の平滑面上に塗布して、乾燥などにより平滑面を有する樹脂層１１を形成した後、形成した樹脂層１１の平滑面上に３μＬの水１３を配置して、ＪＩＳＲ３２５７に準拠して測定される静的接触角（Ｙ１）と静的接触角（Ｘ１）との差の絶対値Θが２０°〜６０°である。 （もっと読む）

【課題】モールドと樹脂との離型性に優れ、樹脂のパターン欠陥を生じないもしくは低減させたナノインプリント方法、およびそれに用いるモールドを提供する。
【解決手段】凹凸パターン１２を表面に有するモールド１１を、被加工基板１４上の光硬化性樹脂１５に押し付けると共に、前記モールド１１を介して前記光硬化性樹脂１５を感光させる光を照射することによって前記光硬化性樹脂１５を硬化させて前記凹凸パターン１２を転写するナノインプリント方法であって、前記モールド１１表面の表面自由エネルギーと、前記硬化した後の光硬化性樹脂１５表面の表面自由エネルギーとの少なくとも一方の表面自由エネルギーが、５ｍＪ／ｍ²以上で３０ｍＪ／ｍ²以下である。 （もっと読む）

【課題】インプリントプロセスにより形成される凹凸パターンを利用し、その凹凸パターンを、アルミニウムやシリコン等の基材材料に電気化学プロセスにより細孔形成を行う際の細孔発生開始位置の制御を行うためのマスクとして使用することで規則的なホールアレー構造を効率良く確実に形成できるようにした手法を提供する。
【解決手段】基材上に設けられたマスクにインプリントプロセスにより凹凸パターンを形成し、形成された凹凸パターンの凹部に対応した基材位置に、電気化学的な手法により細孔形成を行うことを特徴とする、細孔配列が制御された多孔質構造材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、簡易な方法かつ低コストで、光学フィルム製造用ロール金型の表面を傷つけず錆の発生や異物の付着などを防止する保護皮膜の製造方法を提案することを目的とする。
【解決手段】本発明の保護皮膜の製造方法は、光学フィルム製造用ロール金型の表面に前記ロール金型を回転させながら保護皮膜剤を塗布する塗布工程と、前記ロール金型を回転させながら前記保護皮膜剤を乾燥硬化させる乾燥硬化工程とを少なくとも有することを特徴とする。本発明の保護皮膜の製造方法は、塗布工程と乾燥硬化工程において、未硬化の保護皮膜剤が流動しない回転速度で光学フィルム製造用ロール金型の回転が行われることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】塩基性を有する物質、熱硬化性樹脂、又は、水分を含む物質からなる対象物に対する低密着性を有する低密着性材料と、対象物を使用する場合における高い離型性を有する成形型と、対象物を含む汚れに関する防汚性を有する防汚性材料とを提供する。
【解決手段】樹脂成形に使用される成形型である上型１において、ＺｒＯ_２基セラミックスからなる基材５の表面８に離型層４が形成されている。離型層４は、塩基性を有する物質、熱硬化性樹脂、又は、水分を含む物質からなる対象物に対して低密着性を有する低密着性材料から構成される。離型層４においては、Ｙ_２Ｏ_３の少なくとも表面に４Ａ族元素のカチオンであるＺｒ^４＋と窒素とが導入されている。低密着性材料の少なくとも表面において、４Ａ族元素のカチオンの量は０ｍｏｌ％を超えかつ２０ｍｏｌ％以下であるとともに窒素の量は０．０１ｍｏｌ％以上かつ１０ｍｏｌ％以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】半導体装置等の製造に用いられるインプリントリソグラフィ方法において、パターン欠陥を低減することができるパターン形成方法を提供する。
【解決課題】パターンを有するテンプレートのパターンに選択的に硬化剤を供給し、硬化剤が供給されたテンプレートと被処理基板を接触させ、テンプレートと被処理基板を接触させた状態で光を硬化剤に照射することにより硬化剤を硬化し、硬化剤を硬化後、テンプレートを被処理基板から離して硬化剤パターンを被処理基板上に形成し、硬化剤パターンに基づき、被処理基板を加工することを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）