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国際特許分類[B29C59/00]の内容

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【課題】マイクロメートルオーダー、ナノメートルオーダーの微細凹凸構造が簡便な工程で効率よく得られ、種々の分野に使用可能な微細凹凸構造を有する薄膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】結晶性ポリマーを有機溶媒に溶解して得られた溶液を固体表面に塗布する工程と、前記溶媒を開放系又は密閉系で蒸発させて表面微細凹凸構造を有する薄膜を形成する工程とを含む薄膜の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 樹脂ベース厚さを極めて薄くすることが可能な樹脂の成型方法、及び導光路の製造方法を提供する。
【解決手段】 型に形成されたパターンを樹脂に転写する工程を有する樹脂の成形方法であって、樹脂2として嫌気性樹脂を使用し、型1の凹部に樹脂2を充填して押圧し、酸素を含む雰囲気下で樹脂2を硬化させ、その後、樹脂2の未硬化部分を洗浄して取り除く工程を含むことを特徴とする樹脂の成形方法。 (もっと読む)


【課題】気泡発生を抑制するとともに、圧力歪みを防ぎ寸法安定性に優れ、温度調節が簡単な成形体の加工方法及び加工装置を提供することである。
【解決手段】樹脂成形体Wの表層の全部又は一部に二酸化炭素を含浸させる含浸工程と、前記含浸工程において二酸化炭素が含浸された領域に、所定のパターンを有する金型6を押し付けて、そのパターンを転写する転写工程と、を有し、前記含浸工程及び前記転写工程において、前記樹脂成形体Wの温度、前記樹脂成形体Wに含浸させる二酸化炭素の温度、又は前記金型6の温度の少なくとも1つを、二酸化炭素を含浸させた後のガラス転移温度以上二酸化炭素を含浸する前のガラス転移温度未満にしていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】短い成形サイクルで成形時の消費エネルギーが少なく、転写性に優れ、且つ内部歪みの少ないプラスチック光学素子等のプラスチック成形品を成形することができるように、その製造方法及び製造装置について工夫すること。
【解決手段】少なくとも1つ以上の転写面(6)を有する金型(9)における一定容積のキャビティ(11)内に、プラスチック部材を挿入し、次いで該プラスチック部材に加圧気体又は超臨界流体を膨潤させて、該プラスチック部材をガラス転移温度より低い温度で軟化させることにより、上記金型の転写面(6)を該プラスチック部材に転写するプラスチック成形品の製造方法である。
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【課題】エンボス化粧シートについて、プレゼンテーション用、試作用、1品生産用等の少量生産用途でも迅速に効率良く対応でき、しかもドア1枚分等の大きなサイズでも対応できる様にする。
【解決手段】透明熱可塑性樹脂フィルム1の表側とする表面にエンボスロールを用いたエンボス加工で凹凸模様2を設け、他方の裏面には少なくとも粘着剤層3を設けたエンボス粘着フィルム10を予め作製しておき、このエンボス粘着フィルムを、熱可塑性樹脂からなる基材フィルム6上にインクジェット印刷法で柄印刷層7を設けて作製した印刷フィルム20の柄印刷層側の面に粘着剤層で接着積層して、エンボス化粧シート30を製造する。透明熱可塑性樹脂フィルムと基材フィルムはオレフィン系樹脂のフィルムが良い。透明熱可塑性樹脂フィルムの表面にリコート性の表面樹脂層を設けるのも良い。 (もっと読む)


【課題】 樹脂板に対して加熱・加圧および冷却・加圧して転写成形を行う際に、熱板および転写用スタンパを速く均一に加熱させ、成形サイクル時間を短縮することができるプレス装置を提供する。
【解決手段】 第一の熱板18と第二の熱板24の間で樹脂板Pを加熱・加圧および冷却・加圧して微細な凹凸パターンの転写成形を行うプレス装置11は、蒸気および冷却水を流通させる通路34が内部に配設された熱板18,24と、熱板18,24の表面に配設された転写用スタンパ31と、熱板18,24および前記転写用スタンパ31を介して樹脂板Pを加圧する加圧装置13とが備えられている。 (もっと読む)


【課題】ラビング処理の条件から簡便、容易にかつ再現性よく、得られる複屈折層の複屈折性を予測し、所望の複屈折性が与えられた複屈折層を含む光学フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】第1〜第6ステップを含む光学フィルムの製造方法。
ラビング処理する際の摩擦強度を規定するパラメータの値が互いに異なる値で複数の配向膜用フィルムをラビング処理する第1ステップ。
前記配向膜に高分子を被覆して、複屈折層と配向膜との積層体を製造する第2ステップ。
前記積層体の複屈折層における複屈折性を測定する第3ステップ。
前記パラメータ値と、前記複屈折性の値との相関関係を算出する第4ステップ。
前記相関関係から、所望の複屈折性を複屈折層に与えるための配向膜のパラメータ値を算出する第5ステップ。
第5ステップで求めたパラメータ値にて、配向膜用フィルムをラビング処理し、得られた配向膜に高分子を被覆する第6ステップ。 (もっと読む)


【課題】 基材に所望の凹凸形状を精度良く効率的に形成することができるエンボス加工装置を提供する。
【解決手段】 エンボス加工装置10は、外周に凹凸形状を有するエンボスロール20と、エンボスロールに対向して設けられた複数の支持ロール30,40であって、エンボスロールの外周に沿って搬送される基材50をエンボスロールとの間で順次挟圧する複数の支持ロールと、を備えている。また、エンボス加工装置はエンボスロールまたは上流側の支持ロールを加熱する加熱装置12をさらに備えている。さらに、エンボス加工装置は最下流側の支持ロールを冷却する冷却装置14をさらに備えている。 (もっと読む)


布目付き高分子フィルムの形成装置及び方法を開示する。この装置は、第1ローラ及び第2ローラを備える。そして、第1ローラ及び第2ローラは、布目付き高分子フィルムを協働して形成するように構成されている。ある実施態様では、少なくとも第1ローラの限定された部分が、受動的に、能動的に、あるいは、受動的技術及び能動的技術の組合せによって、加熱される。
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【課題】 加熱された樹脂層に光回折構造を構成するパターンを複製する場合であっても、製品品質を保ちつつ複製速度の高速化を可能にするパターン複製装置を提供する。
【解決手段】 外周に光回折構造を構成するパターンが設けられたエンボスローラ12を加熱しつつ、エンボスローラ12に、熱成形性を有する樹脂層22が基材フィルム21上に設けられた光回折構造形成フィルム20を巻き付け、光回折構造形成フィルム20を剥離ローラ15−1に巻き掛けてエンボスローラ12から剥離することにより、樹脂層22にパターンを賦型するパターン複製装置であって、剥離ローラ15−1の表面温度が、樹脂層22の硬化作用が得られる温度以下になるように、剥離ローラ14の外周の少なくとも一部を冷却する冷却手段91を有する。 (もっと読む)


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